一种OLED显示屏及其制备方法与流程

本发明涉及有机发光致电二极管技术领域，具体涉及一种oled显示屏及其制备方法。

背景技术：

有机电致发光(organiclight-emittingdiode，oled)显示器件具有自发光、结构简单、超轻薄、响应速度快、宽视角、低功耗及可实现柔性显示等特性。现有技术中的oled器件通常包括：基板和设于基板上的有机功能层，有机功能层一般包括阴极、阳极，以及设于阴极与阳极之间的有机发光层。

构成有机发光层的有机发光材料对水蒸气和氧气非常敏感，会大大降低oled器件的使用寿命。现有技术中一般是给器件加一个封装层进行封装，并通过环氧树脂等封装胶将封装层和基板相结合，这样的封装相当于是给有机功能层加盖一个罩子，从而把有机功能层和空气隔开，但是这种封装方式无法完全阻隔水氧，仍然存在有机功能层遇到水氧失效的问题。

技术实现要素：

因此，本发明要解决的技术问题在于克服现有技术中利用封装方式无法完全阻隔水氧，仍然存在有机功能层遇到水氧失效的问题，从而提供一种oled显示屏及其制备方法。

根据第一方面，本发明实施例提供了一种oled显示屏，包括：基板；设置在所述基板上的第一电极层；设置在所述第一电极层上的有机发光层；设置在所述有机发光层上的第二电极层；设置在所述第二电极层上的阻隔层；以及设置在所述阻隔层上的封装层。

本发明实施例提供的oled显示屏，通过在第二电极层上设置阻隔层，当封装内部进入水氧之后，阻隔层会消耗掉水氧，可防止水氧通过阴极层进入到有机发光层，提高屏体的可靠性，满足客户对屏体高可靠性的需求。

结合第一方面，在第一方面第一实施方式中，所述阻隔层选取以下中的一种或两种：金属氧化物层和金属盐层。

结合第一方面第一实施方式，在第一方面第二实施方式中，所述金属氧化物选取以下中的一种或几种：sro、cao、k2o、bao、na2o。

结合第一方面第一实施方式，在第一方面第三实施方式中，所述金属盐选取以下中的一种或几种：na2so4、mgso4、mgcl2、无水cuso4。

结合第一方面，在第一方面第四实施方式中，在所述阻隔层和所述封装层之间还设有干燥片和/或干燥剂。

结合第一方面，在第一方面第五实施方式中，所述有机发光层包括由下至上依次排列的空穴注入层、空穴传输层、发光层及电子传输层。

结合第一方面，在第一方面第六实施方式中，所述第一电极层为阳极层，所述第二电极层为阴极层。

根据第二方面，本发明实施例还提供了一种oled显示屏的制备方法，包括以下步骤：在基板上制备第一电极层；在所述第一电极层上制备有机发光层；在所述有机发光层上制备第二电极层；在所述第二电极层上制备阻隔层；在所述阻隔层上制备封装层。

结合第二方面，在第二方面第一实施方式中，在所述第二电极层上采用蒸镀法或物理气相沉积法制备阻隔层。

附图说明

为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例1中oled显示屏的结构示意图；

图2为本发明实施例3中oled显示屏的结构示意图；

附图标记：

1、基板；2、第一电极层；3、有机发光层；4、第二电极层；5、阻隔层；6、封装层；7、干燥片/干燥剂。

具体实施方式

提供下述实施例是为了更好地进一步理解本发明，并不局限于所述最佳实施方式，不对本发明的内容和保护范围构成限制，任何人在本发明的启示下或是将本发明与其他现有技术的特征进行组合而得出的任何与本发明相同或相近似的产品，均落在本发明的保护范围之内。

实施例中未注明具体实验步骤或条件者，按照本领域内的文献所描述的常规实验步骤的操作或条件即可进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市购获得的常规试剂产品。

实施例1

本发明实施例1提供了一种oled显示屏，图1为本发明实施例1中oled显示屏的结构示意图。如图1所示，本发明实施例1的oled显示屏包括：基板1；设置在所述基板1上的第一电极层2；设置在所述第一电极层2上的有机发光层3；设置在所述有机发光层3上的第二电极层4；设置在所述第二电极层4上的阻隔层5；以及设置在所述阻隔层5上的封装层6。

在本发明实施例1中，所述阻隔层5为金属氧化物层。作为具体的实施方式，金属氧化物选取以下中的一种或几种：sro、cao、k2o、bao、na2o。示例的，金属氧化物层为氧化锶层。

具体的，可以采用蒸镀或者物理气相沉积的方法制备金属氧化物层，利用该种方法制备的金属氧化物层均匀性、致密性会更好。

具体的，所述有机发光层3包括由下至上依次排列的空穴注入层、空穴传输层、发光层及电子传输层；所述第一电极层2为阳极层，所述第二电极层4为阴极层。

在本发明实施例1中，封装层6设置在阻隔层5的上方，并且封装层6的两端向下延伸至基板1的表面，通过封装胶与基板1粘结。所述封装层6与所述阻隔层5之间可以有缝隙也可以没有缝隙。

本发明实施例1提供的oled显示屏，通过在第二电极层上设置阻隔层，当封装内部进入水氧之后，金属氧化物层会消耗掉水氧，可防止水氧通过阴极层进入到有机发光层，提高屏体的可靠性，满足客户对屏体高可靠性的需求。

实施例2

本发明实施例2提供的oled显示屏的结构与实施例1提供的oled显示屏的结构相同，不同点仅在于，在本发明实施例2中,阻隔层5为金属盐层，具体的金属盐可选取以下中的一种或几种：na2so4、mgso4、mgcl2、无水cuso4。具体的，可以采用蒸镀或者物理气相沉积的方法制备金属盐层，利用该种方法制备的金属氧化物层均匀性、致密性会更好。

本发明实施例提供的oled显示屏，通过在第二电极层上设置阻隔层，当封装内部进入水氧之后，金属盐层会消耗掉水氧，可防止水氧通过阴极层进入到有机发光层，提高屏体的可靠性，满足客户对屏体高可靠性的需求。

实施例3

本发明实施例3提供了一种oled显示屏，图2为本发明实施例3中oled显示屏的结构示意图，如图2所述，本发明实施例3的oled显示屏包括基板1；设置在所述基板1上的第一电极层2；设置在所述第一电极层2上的有机发光层3；设置在所述有机发光层3上的第二电极层4；设置在所述第二电极层4上的阻隔层5；设置在所述阻隔层5上的封装层6，还包括设置在所述阻隔层5和所述封装层6之间的干燥片/干燥剂7。

在本发明实施例3中，封装层6设置在阻隔层5的上方，并且封装层6的两端向下延伸至基板1的表面，通过封装胶与基板1粘结。所述干燥片7设置所述封装层6的内壁上。所述干燥片/干燥剂7与所述阻隔层5之间可以有缝隙也可以没有缝隙。干燥片也可以吸收进入封装结构内的水氧，进一步提高屏体可靠性。

在本发明实施例3中，所述有机发光层3包括由下至上依次排列的空穴注入层、空穴传输层、发光层及电子传输层；所述第一电极层2为阳极层，所述第二电极层4为阴极层。

在本发明实施例3中，阻隔层5可以选用金属氧化物层或金属盐层。

实施例4

本发明实施例4提供了一种oled显示屏的制备方法，包括以下步骤：在基板1上制备第一电极层2；在所述第一电极层2上制备有机发光层3；在所述有机发光层3上制备第二电极层4；在所述第二电极层4上制备阻隔层5；在所述阻隔层5上制备封装层6。

具体的，在所述第二电极层4上采用蒸镀法或物理气相沉积法制备阻隔层5。具体的，物理气相沉积法的工作原理为：在真空环境下，通过电压和磁场的共同作用，以被离化的惰性气体离子对靶材进行轰击，致使靶材以离子、原子或分子的形式被弹出并沉积在基件上形成薄膜。根据使用的电离电源的不同，导体和非导体材料均可作为靶材被溅射。具体的，在利用物理气相沉积法制备阻隔层5时，温度为280℃～350℃，功率为2.0kw～2.8kw，成膜压力为0.3～0.5pa，上述温度、功率和压力为对靶材进行轰击，致使靶材以离子、原子或分子的形式被弹出并沉积在基件上形成薄膜的条件。

显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明创造的保护范围之中。