1.一种半导体研磨机组件，其特征在于：包括底座(1)以及减振装置、排尘装置和调节装置；
所述减振装置包括安装在底座(1)顶端的工作台(2)，所述工作台(2)的内部固定连接限位块(5)，所述限位块(5)的内部开有限位槽(3)，所述限位槽(3)的内部滑动连接放置板(6)；
所述排尘装置包括固定连接在放置板(6)顶端的横条(18)，所述横条(18)的一端内部固定连接吸嘴(19)，所述放置板(6)的内部固定连接固定筒(12)，所述固定筒(12)的内部安装有微型气泵(13)；
所述调节装置包括固定连接在放置板(6)顶端的固定板(20)，所述固定板(20)的内部开有活动槽(21)和滑槽(29)，所述滑槽(29)的内部滑动连接导向杆(22)，所述放置板(6)的内部安装有微型电机(23)。
2.根据权利要求1所述的一种半导体研磨机组件，其特征在于：所述微型气泵(13)的输出端连通排气管(14)的一端，且所述排气管(14)的一端连通收集盒(15)，所述收集盒(15)卡合连接在工作台(2)的内部，所述收集盒(15)的一端固定连接滤网(16)。
3.根据权利要求1所述的一种半导体研磨机组件，其特征在于：所述吸嘴(19)的一端连通进气管(17)的一端，且所述进气管(17)的另一端连通固定筒(12)的内部。
4.根据权利要求1所述的一种半导体研磨机组件，其特征在于：所述限位槽(3)的内部滑动连接放置板(6)，且所述放置板(6)的呈t型，所述放置板(6)的底端固定连接第一弹簧(4)的一端，所述第一弹簧(4)的另一端固定连接限位槽(3)的底端。
5.根据权利要求1所述的一种半导体研磨机组件，其特征在于：所述限位块(5)的一端固定连接固定框(7)，且所述固定框(7)的顶端开有限位孔(10)，所述限位孔(10)的内部滑动连接支撑柱(11)。
6.根据权利要求1所述的一种半导体研磨机组件，其特征在于：所述支撑柱(11)的底端固定连接压板(9)，且所述压板(9)滑动连接在固定框(7)的内部，所述压板(9)的一端固定连接第二弹簧(8)的一端，所述第二弹簧(8)的另一端固定连接固定框(7)的内部底端。
7.根据权利要求1所述的一种半导体研磨机组件，其特征在于：所述导向杆(22)固定连接在活动板(28)的两端，且所述活动板(28)的内部固定连接两个齿条板(27)。
8.根据权利要求1所述的一种半导体研磨机组件，其特征在于：所述微型电机(23)的输出端套接半齿轮(24)，且所述半齿轮(24)啮合连接齿条板(27)，所述半齿轮(27)位于活动板(28)的内部中心。
9.根据权利要求1所述的一种半导体研磨机组件，其特征在于：所述活动板(28)的顶端固定连接连接板(25)，且所述连接板(25)的顶端安装有永磁吸盘(26)。
10.根据权利要求1所述的一种半导体研磨机组件，其特征在于：所述活动槽(21)的内部滑动连接活动板(28)，且所述活动槽(21)的两端设置有滑槽(29)。