1.一种阵列透镜，其特征在于，包括：
至少一介质层；
至少两层阵列结构，所述介质层与所述阵列结构沿第一方向交替层叠设置；每一层所述阵列结构包括金属本体，所述金属本体上开设有多个呈阵列设置的镂空槽，每个所述镂空槽中内置有与所述金属本体隔离的阵列单元，所述至少两层阵列结构位于同一相对位置的多个所述阵列单元在所述第一方向上同轴设置；
其中，同一所述阵列结构中，所述多个镂空槽中的阵列单元在至少一个阵列方向上具有相对于所述阵列方向渐变的相对旋转角度。
2.根据权利要求1所述的阵列透镜，其特征在于，每一层所述阵列结构中的多所述镂空槽呈二维阵列，所述二维阵列的阵列方向包括行方向和列方向，同一所述阵列结构中，所述多个镂空槽中的所述阵列单元在所述行方向上具有渐变的相对旋转角度。
3.根据权利要求2所述的阵列透镜，其特征在于，同一所述阵列结构中，所述多个镂空槽中的阵列单元在所述行方向的相对旋转角度由所述二维阵列的第一中心线向阵列边缘对称增加，且在所述列方向的相对旋转角度相同。
4.根据权利要求2所述的阵列透镜，其特征在于，同一所述阵列结构中，所述多个镂空槽中的阵列单元在所述列方向上具有渐变的相对旋转角度。
5.根据权利要求4所述的阵列透镜，其特征在于，同一所述阵列结构中，所述多个镂空槽中的阵列单元在所述行方向的所述相对旋转角度由所述二维阵列的第一中心线向阵列边缘对称增加，在所述列方向的所述相对旋转角度由所述二维阵列的第二中心线向阵列边缘对称增加。
6.根据权利要求1-5任一项所述的阵列透镜，其特征在于，同一所述阵列结构中，所述多个镂空槽中的所述阵列单元在至少一个阵列方向上具有渐变的阵列单元尺寸。
7.根据权利要求6所述的阵列透镜，其特征在于，同一所述阵列结构中，所述多个镂空槽中的所述阵列单元的所述阵列单元尺寸在所述行方向上由所述二维阵列的第一中心线向阵列边缘对称减小，或/和同一所述阵列结构中，所述多个镂空槽中的阵列单元的所述阵列单元尺寸在所述列方向上由所述二维阵列的第二中心线向阵列边缘对称减小。
8.根据权利要求1所述的阵列透镜，其特征在于，多层所述阵列结构中同轴设置的所述多个镂空槽中的所述阵列单元在第一方向上具有渐变的阵列单元尺寸。
9.根据权利要求1所述的阵列透镜，其特征在于，同一所述阵列结构中，多个所述镂空槽在至少一个阵列方向上具有渐变的镂空槽尺寸。
10.根据权利要求1所述的阵列透镜，其特征在于，在所述阵列方向上，相邻两个所述镂空槽的中心距离相等。
11.根据权利要求1所述的阵列透镜，其特征在于，所述阵列单元包括至少一矩形导电片或至少一椭圆形导电片。
12.根据权利要求11所述的阵列透镜，其特征在于，多个所述矩形导电片平行设置，且所述矩形导电片在平行方向上的长度尺寸不同；或，多个所述椭圆形导电片的长轴平行设置，且所述椭圆形导电片的长轴尺寸不同。
13.根据权利要求1所述的阵列透镜，其特征在于，所述镂空槽为圆形镂空槽或矩形镂空槽。
14.一种透镜天线，其特征在于，包括：
馈源阵列，所述馈源阵列包括多个馈源单元；
与所述馈源阵列平行设置的如权利要求1-13任一所述的阵列透镜。
15.根据权利要求14所述的透镜天线，其特征在于，所述透镜天线还包括平行设置的第一隔离板和第二隔离板，所述馈源阵列和所述阵列透镜设置在所述第一隔离板和第二隔离板之间。
16.根据权利要求15所述的透镜天线，其特征在于，所述馈源阵列所在平面与所述第一隔离板所在平面垂直，且所述馈源阵列的阵列方向与所述阵列单元的一个阵列方向平行设置。
17.一种电子设备，其特征在于，包括如权利要求14～16任一项所述的透镜天线。
18.根据权利要求17所述的电子设备，其特征在于，所述电子设备还包括：
检测模块，用于获取每个所述馈源单元处于工作状态时所述透镜天线的波束信号强度；
开关模块，与所述馈源阵列连接，用于选择导通与任一所述馈源单元的连接通路；
控制模块，分别与所述检测模块、所述开关模块连接，用于根据所述波束信号强度控制所述开关模块，使最强波束信号强度对应的所述馈源单元处于工作状态。
19.根据权利要求17所述的电子设备，其特征在于，所述透镜天线的数量为多个，所述电子设备还包括中框，所述中框包括相背设置的第一侧边、第三侧边，以及相背设置的第二侧边和第四侧边，所述第二侧边连接所述第一侧边、所述第三侧边的一端，所述第四侧边连接所述第一侧边、所述第三侧边的另一端；所述第一侧边、所述第二侧边、所述第三侧边和所述第四侧边中的至少两个分别设有所述透镜天线。