本发明涉及一种电子元器件的制作方法,具体涉及一种铜制柔性刚性兼备的导电排制作方法。
背景技术:
随着电子电力行业的大力发展,行业内部对导电装置的要求也越来越高,铜制导电排的制作方法也亟需改进。传统的铜制导电排通常使用铜板冲压而成,这种方法可以充分保证导电排的导电效果,但是难以胜任产品柔性连接的特殊结构设计。因此,在需要柔性连接和频繁冲击状态下的产品,通常选用有薄铜板热压钎焊形成的铜软排进行导电连接。这种方法虽然可以满足使用需求,但整体的制造成本会变高、加工周期会变长,经济效益低。
搅拌摩擦焊作为一种新型固相焊接方式,可以实现铝、铜、钛等有色金属的高强度连接。同时,这种方法在焊接过程中不会导致材料熔化,在焊后焊缝区域的电阻值也是连接方法中最小的一种。
因此,针对上述问题,本发明提出了一种新的技术方案。
技术实现要素:
本发明的目的是提供一种操作方便,成本低,工作效率高的铜制柔性刚性兼备的导电排制作方法。
本发明是通过以下技术方案来实现的:
一种铜制柔性刚性兼备的导电排制作方法,所述方法采用搅拌摩擦焊作为连接手段,连接铜软、硬排,焊后工件使用切割工具制成柔性刚性兼备的导电排,具体步骤如下:
(1)将设计的铜薄板叠层放置在工作台上,使用焊接方法焊接搅拌摩擦焊焊接位置及局部需要刚性固定的位置;
(2)根据板厚及材料牌号选择焊具规格;
(3)去除产品表面油污和焊缝表面毛刺,保证单个焊缝间隙和平整度良好;
(4)将铜硬排置于焊缝的前进侧,将铜软排置于焊缝的后退侧,使用对刀器进行焊具对刀,保证焊接平面坐标误差和压入方向坐标误差;
(5)安装搅拌头进行焊接;
(6)使用切割工具将焊后工件切割至需要的形状。
进一步地,所述步骤(1)中,焊接方法为钎焊、扩散焊或热压焊。
进一步地,所述步骤(2)中,焊具规格选择的标准为:0.2mm≤搅拌针的长度-焊接深度≤0.3mm。
进一步地,所述步骤(3)中,使用丙酮或酒精等擦拭去除产品表面油污,使用锉刀或修边器去除焊缝表面毛刺,单个焊缝间隙≤0.4mm。
进一步地,所述步骤(4)中,保证焊接平面坐标误差≤0.2mm,压入方向坐标误差在≤0.1mm。
进一步地,所述步骤(5)中,焊具从焊接起始点压入,轴肩压入深度为0.05~0.5mm,以200~5000rpm,50~3000mm/min的焊接工艺进行焊接,沿焊接路径前进并停留至焊缝末端或设计好的引出位置,直至焊接过程结束。
进一步地,所述步骤(6)中,切割工具为线切割、冲压、激光切割或锯床。
本发明的有益效果是:本发明结构合理,通过使用搅拌摩擦焊作为连接手段,连接铜软、硬排,将焊后工件通过冲压、线切割等手段制成低成本的柔性刚性兼备的导电排。操作方便,保证了产品质量,降低了生产成本。
附图说明
图1为本发明的主视图;
图2为本发明的右视图。
其中:1、搅拌摩擦焊2、铜薄板,3、工作台,4、焊缝间隙,5、搅拌头。
具体实施方式
下面结合附图说明对本发明做进一步地说明。
如图1~2所示,一种铜制柔性刚性兼备的导电排制作方法,采用搅拌摩擦焊1作为连接手段,连接铜软、硬排,焊后工件使用切割工具制成柔性刚性兼备的导电排,具体步骤如下:
(1)将设计的铜薄板2叠层放置在工作台3上,使用焊接方法焊接搅拌摩擦焊焊接位置及局部需要刚性固定的位置;
(2)根据板厚及材料牌号选择焊具规格;
(3)去除产品表面油污和焊缝表面毛刺,保证单个焊缝间隙4和平整度良好;
(4)将铜硬排置于焊缝的前进侧,将铜软排置于焊缝的后退侧,使用对刀器进行焊具对刀,保证焊接平面坐标误差和压入方向坐标误差;
(5)安装搅拌头5进行焊接;
(6)使用切割工具将焊后工件切割至需要的形状。
在本实施例中,步骤(1)中,焊接方法为钎焊、扩散焊或热压焊。
在本实施例中,步骤(2)中,焊具规格选择的标准为:0.2mm≤搅拌针的长度-焊接深度≤0.3mm。
在本实施例中,步骤(3)中,使用丙酮或酒精等擦拭去除产品表面油污,使用锉刀或修边器去除焊缝表面毛刺,单个焊缝间隙≤0.4mm。
在本实施例中,步骤(4)中,保证焊接平面坐标误差≤0.2mm,压入方向坐标误差在≤0.1mm。
在本实施例中,步骤(5)中,焊具从焊接起始点压入,轴肩压入深度为0.05~0.5mm,以200~5000rpm,50~3000mm/min的焊接工艺进行焊接,沿焊接路径前进并停留至焊缝末端或设计好的引出位置,直至焊接过程结束。
在本实施例中,步骤(6)中,切割工具为线切割、冲压、激光切割或锯床。
本发明结构合理,通过使用搅拌摩擦焊作为连接手段,连接铜软、硬排,将焊后工件通过冲压、线切割等手段制成低成本的柔性刚性兼备的导电排。操作方便,保证了产品质量,降低了生产成本。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,对于本领域的技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。