一种利用二氧化铪钝化增强型低维纳米探测器的制作方法

文档序号:19237607发布日期:2019-11-27 18:39阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种利用二氧化铪钝化增强型低维纳米探测器,包括p型si衬底(1)、sio2氧化层(2)、源极(4)和漏极(5),其特征在于:

所述的探测器的结构为:在p型si衬底(1)上有sio2氧化层(2),在sio2氧化层上有cds纳米带(3),在cds纳米带上左右两端制作源极(4)和漏极(5),在源极和漏极中间cds纳米带上沉积钝化介质层(6);

所述的p型si衬底(1)是硼重掺杂,电阻率小于0.05ω·cm;

所述的sio2氧化层(2)的厚度是280纳米;

所述的cds纳米带(3)的厚度是50~80纳米,长宽分别是10~20微米、2微米;

所述的源极(4)和漏极(5)为cr和au电极,下层cr厚度为15纳米,上层au厚度为45纳米;

所述的钝化介质层(6)是hfo2,厚度是20纳米。

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