1.一种显示基板，包括显示区域和位于所述显示区域周边的电学检测区域，其特征在于：
所述电学检测区域设置有至少一个测试电极，所述电学检测区域内设置有围绕所述测试电极的绝缘结构，所述绝缘结构远离所述显示基板的衬底基板的一侧表面与所述衬底基板之间的距离不大于所述测试电极远离所述衬底基板的一侧表面与所述衬底基板之间的距离。
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述绝缘结构远离所述显示基板的衬底基板的一侧表面与所述衬底基板之间的距离小于所述测试电极远离所述衬底基板的一侧表面与所述衬底基板之间的距离。
3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板包括沿远离衬底基板的方向依次设置的有源层、栅绝缘层、栅金属层、层间绝缘层、第一源漏金属层、钝化层、第一平坦层、第二源漏金属层、第二平坦层，所述显示基板的绝缘膜层包括所述栅绝缘层、所述层间绝缘层、所述钝化层、所述第一平坦层和所述第二平坦层，所述绝缘结构包括的绝缘膜层的数量小于所述显示基板的绝缘膜层的总数量。
4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述绝缘结构包括所述钝化层和所述第一平坦层；或，所述绝缘结构包括所述钝化层和第二平坦层。
5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板包括沿远离衬底基板的方向依次设置的有源层、栅绝缘层、栅金属层、层间绝缘层、第一源漏金属层、钝化层、第一平坦层、第二源漏金属层、第二平坦层，所述显示基板的绝缘膜层包括所述栅绝缘层、所述层间绝缘层、所述钝化层、所述第一平坦层和所述第二平坦层，所述绝缘结构包括的至少一层绝缘膜层的膜厚小于所述显示基板其他区域相同绝缘膜层的膜厚。
6.根据权利要求1-5中任一项所述的显示基板，其特征在于，所述测试电极由层叠设置的第一源漏金属层的图形和第二源漏金属层的图形组成，所述第一源漏金属层的图形和所述第二源漏金属层的图形之间设置有钝化层，所述第一源漏金属层的图形和所述第二源漏金属层的图形通过贯穿所述钝化层的过孔连接。
7.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-6中任一项所述的显示基板。
8.一种显示基板的制作方法，所述显示基板包括显示区域和位于所述显示区域周边的电学检测区域，其特征在于，所述制作方法包括：
在所述电学检测区域形成至少一个测试电极和围绕所述测试电极的绝缘结构，所述绝缘结构远离所述显示基板的衬底基板的一侧表面与所述衬底基板之间的距离不大于所述测试电极远离所述衬底基板的一侧表面与所述衬底基板之间的距离。
9.根据权利要求8所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述显示基板包括沿远离衬底基板的方向依次设置的有源层、栅绝缘层、栅金属层、层间绝缘层、第一源漏金属层、钝化层、第一平坦层、第二源漏金属层、第二平坦层，所述显示基板的绝缘膜层包括所述栅绝缘层、所述层间绝缘层、所述钝化层、所述第一平坦层和所述第二平坦层，形成所述绝缘结构包括：
在形成所述显示基板的第一平坦层的图形之后，去除所述电学检测区域的第一平坦层。
10.根据权利要求8所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述显示基板包括沿远离衬底基板的方向依次设置的有源层、栅绝缘层、栅金属层、层间绝缘层、第一源漏金属层、钝化层、第一平坦层、第二源漏金属层、第二平坦层，所述显示基板的绝缘膜层包括所述栅绝缘层、所述层间绝缘层、所述钝化层、所述第一平坦层和所述第二平坦层，形成所述绝缘结构包括：
在形成所述显示基板的第二平坦层的图形之后，去除所述电学检测区域的第二平坦层。