1.一种形成半导体器件的源漏区外延层的方法,其特征在于,包括:
s1:提供一半导体衬底,在半导体衬底上形成浅沟槽隔离结构,由浅沟槽隔离结构隔离出有源区;
s2:在有源区内形成多个伪栅极结构;
s3:在伪栅极结构的两侧自对准形成有凹槽;
s4:在凹槽内形成外延层;
s5:形成介质层,介质层覆盖伪栅极结构的上表面和伪栅极结构之间的间隙,形成光刻胶,并进行曝光显影以将凹槽区域显开;
s6:进行刻蚀工艺,以将凹槽内的部分外延层刻蚀掉,使剩余的外延层构成第一层外延层,并使第一层外延层完全覆盖凹槽内壁;
s7:去除剩余的光刻胶和介质层;以及
s8:依次形成第二层外延层和第三层外延层,由第一层外延层、第二层外延层和第三层外延层构成源漏区的嵌入式外延层。
2.根据权利要求1所述的形成半导体器件的源漏区外延层的方法,其特征在于,步骤s2还包括首先在有源区内形成多个鳍体,在每一鳍体上形成所述多个伪栅极结构。
3.根据权利要求1所述的形成半导体器件的源漏区外延层的方法,其特征在于,在步骤s4中外延层填充凹槽。
4.根据权利要求3所述的形成半导体器件的源漏区外延层的方法,其特征在于,外延层完全填充凹槽。
5.根据权利要求1所述的形成半导体器件的源漏区外延层的方法,其特征在于,步骤s5中的介质层为底部抗反射层。
6.根据权利要求1所述的形成半导体器件的源漏区外延层的方法,其特征在于,所述刻蚀工艺为各向同性刻蚀。
7.根据权利要求1所述的形成半导体器件的源漏区外延层的方法,其特征在于,所述第一层外延层、第二层外延层和第三层外延层为锗硅外延层。
8.根据权利要求1所述的形成半导体器件的源漏区外延层的方法,其特征在于,所述第一层外延层、第二层外延层和第三层外延层为磷硅外延层。
9.一种形成半导体器件的方法,其特征在于,包括:
s1:提供一半导体衬底,在半导体衬底上形成浅沟槽隔离结构,由浅沟槽隔离结构隔离出有源区;
s2:在有源区内形成多个伪栅极结构;
s3:在伪栅极结构的两侧自对准形成有凹槽;
s4:在凹槽内形成外延层;
s5:形成介质层,介质层覆盖伪栅极结构的上表面和伪栅极结构之间的间隙,形成光刻胶,并进行曝光显影以将凹槽区域显开;
s6:进行刻蚀工艺,以将凹槽内的部分外延层刻蚀掉,使剩余的外延层构成第一层外延层,并使第一层外延层完全覆盖凹槽内壁;
s7:去除剩余的光刻胶和介质层;以及
s8:依次形成第二层外延层和第三层外延层,由第一层外延层、第二层外延层和第三层外延层构成源漏区的嵌入式外延层;
s9:在源漏区的嵌入式外延层中进行源漏注入,形成半导体器件的源极和漏极;以及
s10:进行金属栅置换工艺,将多晶硅栅置换为金属栅。
10.根据权利要求9所述的形成半导体器件的方法,其特征在于,所述半导体器件为鳍式场效晶体管。