色阻结构、显示面板及显示装置的制作方法

[0001]
本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种色阻结构、显示面板及显示装置。


背景技术：

[0002]
目前，有机发光二极管(英文全称organic light-emitting diode，英文简称oled)显示产品被广泛用于全面屏、折叠屏等新形态开发。
[0003]
oled显示面板通常通过模组贴合偏光片以降低环境光反射率实现息屏状态下“一体黑”效果；为了更加集成化，降低显示面板厚度，通过直接在薄膜封装层上形成彩色滤光膜及黑矩阵结构以取代传统偏光片，即coe结构(coe英文全称color film on encapsulation)。
[0004]
与此同时，oled显示面板又常用于匹配屏下摄像头、屏下指纹技术，需求oled显示面板局部有更高透光率。
[0005]
但是，由于黑矩阵完全不透光，挡住了非发光像素区域，致使oled显示面板的透光率大幅降低，而影响屏下指纹或者屏下摄像头工作效率。
[0006]
因此，如何使oled显示面板在显示时，实现降低反射的作用；而在屏下指纹识别，屏下摄像头拍照等使用场景时，提高透光率，是本领域有待解决的一个难题。


技术实现要素：

[0007]
本申请提供一种色阻结构、显示面板及显示装置，以在显示面板处于显示状态时，实现降低反射的作用；在所述显示面板处于非显示状态时，可有效增大屏幕的透光率，改善用户使用效果。
[0008]
根据本申请实施例的第一方面，提供一种色阻结构。所述色阻结构包括：遮光膜层、多个彩色滤光膜层、第一电极层和第二电极层；
[0009]
多个所述彩色滤光膜层和所述遮光膜层同层设置，且所述遮光膜层将相邻的所述彩色滤光膜层相互隔开；
[0010]
所述第一电极层和第二电极层沿厚度方向分别设置于所述遮光膜层的两侧，且均与所述遮光膜层连接；
[0011]
所述遮光膜层被配置为在对所述遮光膜层施加正向电压时，所述遮光膜层为不透明状态；在对所述遮光膜层施加反向电压时，所述遮光膜层为透明状态。
[0012]
可选的，沿所述正向电压的方向，所述遮光膜层包括依次层叠的离子存储层、离子导体层和电致透明材料层。
[0013]
可选的，所述电致透明材料层的材料为氧化铱；和/或，所述离子存储层的材料为三氧化钨；和/或，所述离子导体层的材料为无机锂盐。
[0014]
可选的，所述遮光膜层沿厚度方向形成有多个镂空区域，多个所述彩色滤光膜层位于所述镂空区域中，且所述彩色滤光膜层与所述镂空区域一一对应。
[0015]
可选的，所述第一电极层和第二电极层均为透明电极层。
[0016]
可选的，所述第一电极层至少部分覆设于所述遮光膜层；和/或，
[0017]
所述第二电极层至少部分覆设于所述遮光膜层。
[0018]
根据本申请实施例的第二方面，提供一种显示面板。所述显示面板包括显示区域，在所述显示区域沿出光方向，所述显示面板包括依次叠设阵列基板、像素发光层、封装层和如上所述的色阻结构；
[0019]
所述像素发光层包括像素界定层和多个发光器件，所述像素界定层限定多个像素区域，所述发光器件位于所述像素区域内，且所述发光器件和所述像素区域一一对应；
[0020]
所述彩色滤光膜层与所述发光器件一一对应，所述发光器件在所述彩色滤光膜层上的投影区域位于所述彩色滤光膜层内；
[0021]
所述遮光膜层在所述像素界定层上的投影区域位于所述像素界定层内；
[0022]
其中，在所述显示面板处于显示状态时，对所述遮光膜层施加正向电压，所述遮光膜层为不透明状态；在所述显示面板处于非显示状态时，对所述遮光膜层施加反向电压，所述遮光膜层为透明状态。
[0023]
根据本申请实施例的第三方面，提供一种显示装置。所述显示装置包括上述显示面板。
[0024]
可选的，所述显示装置还包括摄像头，所述摄像头设置于远离所述显示面板的出光面的一侧，且位于所述显示面板的显示区域内。
[0025]
可选的，所述显示装置还包括传感器，所述传感器设置于远离所述显示面板的出光面的一侧，且位于所述显示面板的显示区域内。
[0026]
上述实施例的色阻结构、显示面板及显示装置，通过在显示面板处于不同状态，对应地，对色阻结构中的遮光膜层施加不同的电压以改变遮光膜层的状态，即，在所述显示面板处于显示状态时，对所述遮光膜层施加正向电压，所述遮光膜层为不透明状态，从而实现降低反射的作用，替代偏光片，并进一步实现整体结构的薄型化；在所述显示面板处于非显示状态(如在屏下指纹识别，屏下摄像头拍照等使用场景)时，对所述遮光膜层施加反向电压，所述遮光膜层为透明状态，可有效增大屏幕的透光率，改善用户使用效果(如改善指纹识别或拍照效果)。
附图说明
[0027]
图1是本申请一示例性实施例的色阻结构的部分剖面结构示意图。
[0028]
图2是本申请一示例性实施例的显示面板的部分剖面结构示意图。
[0029]
附图标记说明
[0030]
显示面板1
[0031]
色阻结构10
[0032]
遮光膜层11
[0033]
离子存储层112
[0034]
离子导体层113
[0035]
电致透明材料层114
[0036]
彩色滤光膜层12
[0037]
第一电极层13
[0038]
第二电极层14
[0039]
阵列基板20
[0040]
像素发光层30
[0041]
像素界定层31
[0042]
发光器件32
[0043]
封装层40
[0044]
阴极50
[0045]
镂空区域111
[0046]
厚度方向t
[0047]
正向电压的方向vf
[0048]
出光方向o
[0049]
显示区域a
具体实施方式
[0050]
这里将详细地对示例性实施例进行说明，其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本申请相一致的所有实施方式。相反，它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本申请的一些方面相一致的装置的例子。
[0051]
在本申请使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本申请。除非另作定义，本申请使用的技术术语或者科学术语应当为本申请所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本申请说明书以及权利要求书中使用的“一个”或者“一”等类似词语也不表示数量限制，而是表示存在至少一个。“包括”或者“包含”等类似词语意指出现在“包括”或者“包含”前面的元件或者物件涵盖出现在“包括”或者“包含”后面列举的元件或者物件及其等同，并不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而且可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“多个”包括两个，相当于至少两个。在本申请说明书和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其他含义。还应当理解，本文中使用的术语“和/或”是指并包含一个或多个相关联的列出项目的任何或所有可能组合。
[0052]
请结合图1以理解，本实施案例提供一种色阻结构10。所述色阻结构10包括遮光膜层11、多个彩色滤光膜层12、第一电极层13和第二电极层14。
[0053]
多个所述彩色滤光膜层12和所述遮光膜层11同层设置，且所述遮光膜层11将相邻的所述彩色滤光膜层12相互隔开。可以通过图案化所述遮光膜层11，从而在所述遮光膜层11上沿厚度方向t形成多个镂空区域111，多个所述彩色滤光膜层12位于所述镂空区域中，且所述彩色滤光膜层12与所述镂空区域一一对应。
[0054]
所述第一电极层13和第二电极层14沿厚度方向t分别设置于所述遮光膜层11的两侧，且均与所述遮光膜层11连接。在本实施例中，所述第一电极层13和第二电极层14均为透明电极层。所述第一电极层13和第二电极层14的材料可以均为氧化铟锡(ito)，或者其他透明材料，在此不做进一步限定。
[0055]
在本实施例中，所述第一电极层13覆设于所述遮光膜层11和所述彩色滤光膜层12，所述第二电极层14覆设于所述遮光膜层11和所述彩色滤光膜层12。但不限于此，可以通过图形化所述第一电极层13和所述第二电极层14，从而达到第一电极层13部分覆设于所述遮光膜层11和所述彩色滤光膜层12上，所述第二电极层14部分覆设于所述遮光膜层11和所述彩色滤光膜层12；或者，第一电极层13仅覆设于所述遮光膜层11，第二电极仅覆设于所述遮光膜层11；或者所述第一电极层13部分覆设于所述遮光膜层11，所述第二电极层14部分覆设于所述遮光膜层11。在保证所述第一电极层13和第二电极层14均与所述遮光膜层11连接的前提下，所述第一电极层13与所述第二电极层14可以对称设置，也可以不对称设置。
[0056]
所述遮光膜层11被配置为在对所述遮光膜层11施加正向电压时，所述遮光膜层11为不透明状态；在对所述遮光膜层11施加反向电压时，所述遮光膜层11为透明状态。这样，在将色阻结构10应用于显示面板1的时候，在显示面板1处于不同状态，对应地，对遮光膜层11施加不同的电压以改变遮光膜层11的状态，即，在所述显示面板1处于显示状态时，对所述遮光膜层11施加正向电压，所述遮光膜层11为不透明状态，从而实现降低反射的作用，替代偏光片，并进一步实现整体结构的薄型化；在所述显示面板1处于非显示状态(如在屏下指纹识别，屏下摄像头拍照等使用场景)时，对所述遮光膜层11施加反向电压，所述遮光膜层11为透明状态，可有效增大屏幕的透光率，改善用户使用效果(如改善指纹识别或拍照效果)。
[0057]
具体的，沿所述正向电压的方向，所述遮光膜层11包括依次层叠的离子存储层112、离子导体层113和电致透明材料层114。
[0058]
电致透明材料层114的电致透明材料具有在氧化时呈现不透明(如呈现黑色)、在还原后呈现透明的特点。即，在施加正向电压时(正向电压的方向vf如图1中由下至上的方向)，所述电致透明材料发生氧化反应，呈现不透明(如呈现黑色)；在施加负向电压时，所述电致透明材料发生还原反应，呈现透明。电致透明材料层114的材料为氧化铱。
[0059]
离子存储层112的材料为三氧化钨。离子存储层112能够在电致透明材料层进行增透过程中起到平衡电荷的作用。即，在对遮光膜层11施加反向电压时，起到平衡电荷的作用。
[0060]
离子导体层113的材料为固体的无机锂盐。离子导体层113能够在电致透明材料层进行增透的过程中提供离子。即，在对遮光膜层11施加反向电压时，起到提供离子的作用。
[0061]
离子存储层112、离子导体层113和电致透明材料层114制备方法基本相同。以电致透明材料层制备方法为例进行说明，先通过曝光显影工艺形成图形化光刻胶，然后沉积电致透明材料层并去除图形化光刻胶，最终形成图形化的电致透明材料层。
[0062]
请结合图2以理解，本实施案例还提供一种显示面板1。所述显示面板1沿出光方向o包括依次叠设阵列基板20、像素发光层30、封装层40和如上所述的色阻结构10。
[0063]
所述像素发光层30包括像素界定层31和多个发光器件32，所述像素界定层31限定多个像素区域，所述发光器件32位于所述像素区域内，且所述发光器件32和所述像素区域一一对应。
[0064]
所述彩色滤光膜层12与所述发光器件32一一对应，所述发光器件32在所述彩色滤光膜层12上的投影区域位于所述彩色滤光膜层12内。发光器件32的发出光颜色可以是rgb(红色、绿色、蓝色)，彩色滤光膜层12的颜色对应于投影区域位于该彩色滤光膜层12的外边
缘内发光器件32的发光颜色。
[0065]
所述遮光膜层11在所述像素界定层31上的投影区域位于所述像素界定层31内。
[0066]
其中，在所述显示面板1处于显示状态时，对所述遮光膜层11施加正向电压，所述遮光膜层11为不透明状态；在所述显示面板1处于非显示状态时，对所述遮光膜层11施加反向电压，所述遮光膜层11为透明状态。
[0067]
本实施例的显示面板1，通过在显示面板1处于不同状态，对应地，对色阻结构10中的遮光膜层11施加不同的电压以改变遮光膜层11的状态，即，在所述显示面板1处于显示状态时，对所述遮光膜层11施加正向电压，所述遮光膜层11为不透明状态，从而实现降低反射的作用，替代偏光片；在所述显示面板1处于非显示状态(如在屏下指纹识别，屏下摄像头拍照等使用场景)时，对所述遮光膜层11施加反向电压，所述遮光膜层11为透明状态，可有效增大屏幕的透光率，改善用户使用效果(如改善指纹识别或拍照效果)。
[0068]
所述显示面板1还包括位于像素发光层30和封装层40之间的阴极50，阴极50的材料通常为金属，具有一定反射环境光的作用，也就是说，阴极金属对环境光具有强烈的反射作用，一般显示状态下，彩色滤光膜层12和遮光膜层11可降低反色率，替代偏光片作用；但可选的，通过对所述遮光膜层11施加反向电压，使所述遮光膜层11为透明状态时，也可降低对反射作用的抑制，实现镜面功能。
[0069]
本实施例还提供一种显示装置，所述显示装置包括上述显示面板。
[0070]
所述显示装置还包括摄像头，所述摄像头设置于远离所述显示面板的出光面的一侧，且位于所述显示面板的显示区域内。也就是说，在屏下摄像头的显示装置中，通过对色阻结构中的遮光膜层施加不同的电压以改变遮光膜层的状态，避免了显示面板在安放摄像头的区域打孔形成打孔区域，从而使该打孔区域不具有降低反射的功能，而在显示面板正常显示时，打孔区域和显示区域的显示效果差别明显，用户体验效果较差。
[0071]
所述显示装置还包括传感器，所述传感器设置于远离所述显示面板的出光面的一侧，且位于所述显示面板的显示区域内。具体的，传感器是感光类传感器，该感光类传感器是利用光线进行工作的传感器；其中，感光类传感器包括环境光传感器、距离传感器或光感指纹传感器中的至少一种。
[0072]
以光感指纹传感器为例，通过对色阻结构中的遮光膜层施加不同的电压以改变遮光膜层的状态，能够达到更好的指纹识别的技术效果。即，在光感指纹传感器工作时，对所述遮光膜层施加反向电压，所述遮光膜层为透明状态，可有效增大屏幕的透光率，提高指纹识别能力。
[0073]
以上所述仅为本申请的较佳实施例而已，并不用以限制本申请，凡在本申请的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本申请保护的范围之内。