一种用于光通信设备中的硅片热氧化装置的制作方法

本实用新型涉及光通信设备技术领域，尤其涉及一种用于光通信设备中的硅片热氧化装置。

背景技术：

硅片制成的芯片是有名的“神算子”，有着惊人的运算能力。无论多么复杂的数学问题、物理问题和工程问题，也无论计算的工作量有多大，工作人员只要通过计算机键盘把问题告诉它，并下达解题的思路和指令，计算机就能在极短的时间内把答案告诉你，这样，那些人工计算需要花费数年、数十年时间的问题，计算机可能只需要几分钟就可以解决，甚至有些人力无法计算出结果的问题，计算机也能很快告诉你答案。

而在光通信设备的制造中，常常需要以硅为基底，在其上氧化出一层二氧化硅隔离层，如今都是直接将硅片放于氧化箱内部，然后直接通入氧气与硅片接触发生氧化，但是硅片与氧化箱内部的放置台接触面不易与氧气接触，容易造成硅片氧化不彻底。

技术实现要素：

本实用新型的目的是为了解决现有技术中的问题，而提出的一种用于光通信设备中的硅片热氧化装置。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

一种用于光通信设备中的硅片热氧化装置，包括氧化箱，所述氧化箱的侧壁上连接有箱门，所述氧化箱的内侧壁上通过转轴转动连接有放置筒，所述放置筒的侧壁上转动连接有旋转门，所述放置筒的侧壁上开设有若干组等距分布的条形槽，所述氧化箱的侧壁上连接有第一减速电机，所述转轴远离放置筒的一端穿过氧化箱的侧壁与第一减速电机的输出端相连接，所述氧化箱的侧壁上连接有输氧器，所述输氧器的输出端连接有进气管，所述氧化箱的顶部开设有排气孔，所述氧化箱的顶部连接有箱体，所述箱体的内顶壁转动连接转杆，所述转杆的底部延伸至氧化箱的内部，且所述转杆的延伸端连接有堵塞块，所述堵塞块与排气孔相互配合，所述转杆位于箱体内部的杆壁上连接有间歇装置。

优选的，所述间歇装置包括第二减速电机、主动转盘、从动转盘、拨杆和圆销，所述第二减速电机连接在箱体的内顶壁上，所述主动转盘与第二减速电机的输出端相连接，所述从动转盘与转杆位于箱体内部的杆壁相连接，所述拨杆与主动转盘的底部固定连接，所述圆销与拨杆远离主动转盘的一端固定连接，所述从动转盘的顶部开设有与圆销相配合的卡槽。

优选的，所述进气管呈蛇形结构，且蛇形结构的进气管的管壁上开设有若干组等距分布的出气孔。

优选的，所述放置筒为软质橡胶材质制成。

优选的，所述氧化箱的顶部连接有与排气孔相连通的出气管，所述出气管的外部连接有单向阀。

与现有技术相比，本实用新型提供了一种用于光通信设备中的硅片热氧化装置，具备以下有益效果：

1、该用于光通信设备中的硅片热氧化装置，打开旋转门将需要氧化的硅片放进放置筒内部，然后关闭箱门，通过输氧器将氧气经过进气管输送到氧化箱的内部，氧气再穿过放置筒的条形槽与硅片接触使硅片发生氧化，而通过第一减速电机的工作会带动放置筒缓慢的转动，从而使放置筒内部的硅片可以不断滚动，使硅片的各个面都可以与氧气接触，提高硅片氧化效率，提高软质橡胶材质的放置筒可以使硅片在滚动时得到缓冲，避免硅片碰撞造成刮痕，而蛇形机构的进气管可以将氧气均匀的从各个出气孔排到氧化箱的所有角落，使放置筒内部的硅片进一步与氧化接触均匀，并且第二减速电机工作会带动与其输出端固定连接的主动转盘转动，主动转盘会带动安装有圆销的拨杆转动，而拨杆转动一圈会通过圆销卡在从动转盘的卡槽内部，并带动从动转盘转动一小段距离，使从动转盘实现间歇运动，从而使从动转盘通过转杆带动堵塞块间歇转动，不断的堵住再放开排气孔，从而可以使氧化箱内部的氧气间歇的从出气管排出，可以提高氧化在氧化箱内部的滞留时间，从而可以提高硅片与氧气的接触时间，使硅片可以氧化的更加彻底。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种用于光通信设备中的硅片热氧化装置结构示意图；

图2为本实用新型提出的一种用于光通信设备中的硅片热氧化装置氧化箱内部结构示意图之一；

图3为本实用新型提出的一种用于光通信设备中的硅片热氧化装置氧化箱内部结构示意图之一；

图4为本实用新型提出的一种用于光通信设备中的硅片热氧化装置氧化箱内部结构示意图之一；

图5为本实用新型提出的一种用于光通信设备中的硅片热氧化装置的箱体内部结构示意图。

图中：1、氧化箱；101、箱门；102、排气孔；103、转轴；2、放置筒；201、旋转门；202、条形槽；3、第一减速电机；4、输氧器；5、进气管；501、出气孔；6、箱体；7、转杆；8、堵塞块；9、第二减速电机；10、主动转盘；11、从动转盘；1101、卡槽；12、拨杆；13、圆销；14、出气管；15、单向阀。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

实施例1：

参照图1-5，一种用于光通信设备中的硅片热氧化装置，包括氧化箱1，氧化箱1的侧壁上连接有箱门101，氧化箱1的内侧壁上通过转轴103转动连接有放置筒2，放置筒2的侧壁上转动连接有旋转门201，放置筒2的侧壁上开设有若干组等距分布的条形槽202，氧化箱1的侧壁上连接有第一减速电机3，转轴103远离放置筒2的一端穿过氧化箱1的侧壁与第一减速电机3的输出端相连接，氧化箱1的侧壁上连接有输氧器4，输氧器4的输出端连接有进气管5，氧化箱1的顶部开设有排气孔102，氧化箱1的顶部连接有箱体6，箱体6的内顶壁转动连接转杆7，转杆7的底部延伸至氧化箱1的内部，且转杆7的延伸端连接有堵塞块8，堵塞块8与排气孔102相互配合，转杆7位于箱体6内部的杆壁上连接有间歇装置；

间歇装置包括第二减速电机9、主动转盘10、从动转盘11、拨杆12和圆销13，第二减速电机9连接在箱体6的内顶壁上，主动转盘10与第二减速电机9的输出端相连接，从动转盘11与转杆7位于箱体6内部的杆壁相连接，拨杆12与主动转盘10的底部固定连接，圆销13与拨杆12远离主动转盘10的一端固定连接，从动转盘11的顶部开设有与圆销13相配合的卡槽1101；

进气管5呈蛇形结构，且蛇形结构的进气管5的管壁上开设有若干组等距分布的出气孔501；

放置筒2为软质橡胶材质制成；

机体1的底部连接第二连杆20，第二连杆20的底部连接翻土板2001；

氧化箱1的顶部连接有与排气孔102相连通的出气管14，出气管14的外部连接有单向阀15。

打开旋转门201将需要氧化的硅片放进放置筒2内部，然后关闭箱门101，通过输氧器4将氧气经过进气管5输送到氧化箱1的内部，氧气再穿过放置筒2的条形槽202与硅片接触使硅片发生氧化，而通过第一减速电机3的工作会带动放筒2缓慢的转动，从而使放置筒2内部的硅片可以不断滚动，使硅片的各个面都可以与氧气接触，提高硅片氧化效率，通过软质橡胶材质的放置筒2可以使硅片在滚动时得到缓冲，避免硅片碰撞造成刮痕，而蛇形机构的进气管5可以将氧气均匀的从各个出气孔501排到氧化箱1的所有角落，使放置筒2内部的硅片进一步与氧化接触均匀，并且第二减速电机9工作会带动与其输出端固定连接的主动转盘10转动，主动转盘10会带动安装有圆销13的拨杆12转动，而拨杆12转动一圈会通过圆销13卡在从动转盘11的卡槽1101内部，并带动从动转盘11转动一小段距离，使从动转盘11实现间歇运动，从而使从动转盘11通过转杆7带动堵塞块8间歇转动，不断的堵住再放开排气孔102，从而可以使氧化箱1内部的氧气间歇的从出气管14排出，可以提高氧气在氧化箱1内部的滞留时间，从而可以提高硅片与氧气的接触时间，使硅片可以氧化的更加彻底。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。