技术特征：
1.一种宽幅超薄锂箔，其特征在于，所述宽幅超薄锂箔包括担载层和复合于担载层的一个表面上的超薄锂层，所述超薄锂层为具有200-1000mm的宽度、在2-100μm的范围内的均匀厚度、无皱褶和表面缺陷的整层金属锂层。2.如权利要求1所述的宽幅超薄锂箔，其特征在于，所述超薄锂层的厚度为50μm以下。3.如权利要求1所述的宽幅超薄锂箔，其特征在于，所述宽幅超薄锂箔的厚度为5-100μm。4.如权利要求1所述的宽幅超薄锂箔，其特征在于，所述宽幅超薄锂箔由多条宽度为200mm以下、厚度为100μm以下的超薄锂箔拼接、与担载层压力复合而成。5.一种用于制备宽幅超薄锂箔的设备，其特征在于，所述设备包括：放卷单元，包括：至少两个用于超薄锂箔的放卷组件，所述超薄锂箔是带膜支撑的超薄锂箔；用于实时检测超薄锂箔是否跑偏的放卷检测传感器；对跑偏的超薄锂箔进行纠偏处理以确保放卷后的超薄锂箔边缘/中心整齐一致的放卷纠偏组件；和用于担载层的放卷组件；位于放卷单元下游的辊压单元，包括：轧机；位于辊压单元下游的收卷单元，包括：至少两个用于支撑膜收卷的收卷组件；和用于拼接后超薄锂箔收卷的收卷组件。6.如权利要求5所述的设备，其特征在于，所述收卷单元还包括收卷检测传感器和收卷纠偏组件。7.如权利要求5或6所述的设备，其特征在于，所述纠偏组件的类型是放卷/收卷纠偏或过程纠偏。8.如权利要求5或6所述的设备，其特征在于，所述放卷组件和收卷组件中的至少一个还包括张力控制组件。