显示面板及其制备方法、显示装置与流程

文档序号:25286928发布日期:2021-06-01 17:36阅读:65来源:国知局
显示面板及其制备方法、显示装置与流程

本申请涉及显示技术领域,特别涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。



背景技术:

显示装置可以具备指纹识别功能,以对用户的身份进行辨认。

相关技术中,具备指纹识别功能显示装置可以包括:显示背板和电容指纹识别电路,该显示背板包括薄膜晶体管。由于该薄膜晶体管中的源极和漏极通常由金属材料制成,因此该源极和漏极可以作为电容指纹识别的检测极板,并与电容指纹识别电路连接。当用户将手指与该显示装置接触时,用户指纹的脊和谷与检测极板形成电容,该指纹识别电路可以根据检测到的电容大小,确定探测到的脊和谷的位置,从而完成指纹识别。

但是,由于薄膜晶体管中的源极和漏极与显示背板中信号线的距离较近,易受到该信号线的干扰,因此源极和漏极作为检测极板时,电容指纹识别电路检测到的信号的信噪比较小,指纹识别的效果较差。



技术实现要素:

本申请提供了一种显示面板及其制备方法、显示装置,可以解决相关技术中指纹识别的效果较差的问题。所述技术方案如下:

一方面,提供了一种显示面板,所述显示面板包括:

衬底基板;

位于所述衬底基板上的显示功能膜层,所述显示功能膜层具有多个发光区域;

位于所述显示功能膜层远离所述衬底基板的一侧的滤光膜层,所述滤光膜层能够透射所述多个发光区域发出的光线,且所述滤光膜层的材料包括导电材料;

以及,位于所述衬底基板上的指纹识别电路,所述指纹识别电路与所述滤光膜层连接,用于根据所述滤光膜层接收到的障碍物反射的光线进行指纹识别。

可选的,所述滤光膜层在所述衬底基板上的正投影,覆盖所述多个发光区域中至少一个所述发光区域在所述衬底基板上的正投影。

可选的,所述滤光膜层包括:与所述多个发光区域一一对应的多个滤光图案,至少一个所述滤光图案与所述指纹识别电路连接,且至少一个所述滤光图案在所述衬底基板上的正投影覆盖对应的一个所述发光区域在所述衬底基板上的正投影,且能够透射对应的一个所述发光区域发出的光线。

可选的,至少一个所述滤光图案的边缘与所述滤光图案覆盖的所述发光区域的边缘之间的距离范围约为1微米至4微米。

可选的,所述滤光膜层的材料包括金属材料和无机材料。

可选的,所述滤光膜层包括:至少两个由无机材料制成的无机膜层,以及至少一个由金属材料制成的金属膜层;

所述至少一个金属膜层位于所述至少两个无机膜层之间。

可选的,每相邻两个所述无机膜层之间设置有一个所述金属膜层。

可选的,所述滤光膜层包括:两个所述无机膜层和一个所述金属膜层。

可选的,所述滤光膜层包括:三个所述无机膜层和两个所述金属膜层。

可选的,每个所述无机膜层的膜层厚度的范围约为50纳米至250纳米;

每个所述金属膜层的膜层厚度的范围约为300纳米至1000纳米。

可选的,所述无机材料包括氮化硅和氧化硅中的至少一种;所述金属材料包括钼,铝,以及氧化钼中的至少一种。

可选的,所述显示面板还包括:封装膜层;

所述封装膜层位于所述滤光膜层和所述显示功能膜层之间。

可选的,所述封装膜层包括:沿远离所述衬底基板的一侧依次层叠的第一封装层,第二封装层,以及第三封装层;

制成所述第一封装层和所述第三封装层的材料包括无机材料,制成所述第二封装层的材料包括有机材料。

可选的,所述显示面板还包括:位于所述滤光膜层远离所述衬底基板的一侧的黑矩阵层;

所述黑矩阵层在所述衬底基板上的正投影,与所述多个发光区域在所述衬底基板上的正投影至少部分不重叠。

可选的,所述显示功能膜层包括:多个像素电路以及与所述多个像素电路一一对应的多个发光单元;

每个所述发光单元与对应的一个所述像素电路连接,每个所述发光单元所在区域构成一个所述发光区域。

另一方面,提供了一种显示面板的制备方法,所述方法包括:

提供一衬底基板;

在所述衬底基板上形成显示功能膜层,所述显示功能膜层包括多个发光区域;

在所述显示功能膜层远离所述衬底基板的一侧形成滤光膜层,所述滤光膜层在所述衬底基板上的正投影,覆盖所述多个发光区域在所述衬底基板上的正投影,且能够透射所述多个发光区域发出的光线,所述滤光膜层的材料包括导电材料;

在所述衬底基板上形成指纹识别电路,所述指纹识别电路与所述滤光膜层连接,用于根据所述滤光膜层接收到的障碍物反射的光线进行指纹识别。

又一方面,提供了一种显示装置,所述显示装置包括:指纹识别驱动电路以及如上述方面所述的显示面板;

所述指纹识别驱动电路与所述显示面板中的指纹识别电路连接,用于为所述指纹识别电路提供驱动信号。

本申请提供的技术方案带来的有益效果至少包括:

本申请提供了一种显示面板及其制备方法、显示装置,该显示面板中滤光膜层的材料包括导电材料,因此该滤光膜层可以作为指纹识别电路的检测极板。并且,由于滤光膜层位于显示功能膜层远离衬底基板的一侧,因此该滤光膜层与显示功能膜层中信号线的距离较远,不易受到该信号线的影响。在该滤光膜层作为检测极板时,指纹识别电路检测到的指纹信号的信噪比可以较大,指纹识别的效果可以较好。并且,由于该滤光膜层作为检测极板时,该滤光膜层相对于显示功能膜层与障碍物的距离较近,因此可以使得指纹识别电路检测到的信号较大,确保指纹识别的效果。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本申请实施例提供的一种显示面板的结构示意图;

图2是本申请实施例提供的一种滤光膜层和发光区域的示意图;

图3是本申请实施例提供的一种滤光膜层的结构示意图;

图4是本申请实施例提供的另一种滤光膜层的结构示意图;

图5是本申请实施例提供的另一种显示面板的结构示意图;

图6是本申请实施例封装膜层在滤光膜层远离衬底基板的一侧时,电压差与封装膜层厚度的关系示意图;

图7是本申请实施例提供的又一种显示面板的结构示意图;

图8是本申请和现有技术提供的检测极板的反射率和透射率曲线;

图9是本申请实施例提供的一种显示面板的制备方法的流程图;

图10是本申请实施例提供的另一种显示面板的制备方法的流程图;

图11是本申请实施例提供的一种形成平坦层的示意图;

图12是本申请实施例提供的一种形成第一电极层的示意图;

图13是本申请实施例提供的一种形成像素界定层的示意图;

图14是本申请实施例提供的一种形成发光层和第二电极层的示意图;

图15是本申请实施例提供的一种显示装置的结构示意图。

具体实施方式

为使本申请的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本申请实施方式作进一步地详细描述。

图1是本申请实施例提供的一种显示面板的结构示意图。参考图1可以看出,该显示面板10可以包括:衬底基板101,显示功能膜层102,滤光膜层103,以及指纹识别电路104。参考图1,该显示功能膜层102可以位于衬底基板101上,滤光膜层103可以位于显示功能膜层102远离衬底基板101的一侧。指纹识别电路104可以位于衬底基板101上。其中,该指纹识别电路104可以与显示功能膜层102位于衬底基板101的同一侧,或者,也可以与显示功能膜层102分别位于衬底基板101的两侧,本申请实施例对此不做限定。

该显示功能膜层102可以具有多个发光区域102a(图1中仅示出了一个发光区域102a)。该滤光膜层103能够透射多个发光区域102a发出的光线,且该滤光膜层103的材料包括导电材料。该指纹识别电路104可以与滤光膜层103连接,用于根据滤光膜层103接收到的障碍物(例如用户的手指)反射的光线进行指纹识别。

由于该滤光膜层103的材料包括导电材料,因此该滤光膜层103可以作为指纹识别电路104的检测极板。由于滤光膜层103位于显示功能膜层102远离衬底基板101的一侧,因此该滤光膜层103与显示功能膜层102中信号线的距离可以较远。该滤光膜层103不易受到显示功能膜层102中信号线的影响,因此在该滤光膜层103作为检测极板时,指纹识别电路104检测到的信号的信噪比可以较大,指纹识别的效果可以较好。由于该滤光膜层103作为检测极板时,该滤光膜层103相对于显示功能膜层102与障碍物的距离较近,因此可以使得指纹识别电路104检测到的信号较大,确保指纹识别的效果。

并且,由于滤光膜层103能够透射多个发光区域102a发出的光线,因此能够使得该显示面板10正常显示图像,保证显示面板10的显示效果。其中,该滤光膜层103位于显示功能膜层102远离衬底基板101的一侧,因此能够在实现显示面板10全屏显示的情况下,实现指纹识别。

综上所述,本申请实施例提供了一种显示面板,该显示面板中滤光膜层的材料包括导电材料,因此该滤光膜层可以作为指纹识别电路的检测极板。并且,由于滤光膜层位于显示功能膜层远离衬底基板的一侧,因此该滤光膜层与显示功能膜层中信号线的距离较远,不易受到该信号线的影响。在该滤光膜层作为检测极板时,指纹识别电路检测到的指纹信号的信噪比可以较大,指纹识别的效果可以较好。并且,由于该滤光膜层作为检测极板时,该滤光膜层相对于显示功能膜层与障碍物的距离较近,因此可以使得指纹识别电路检测到的信号较大,确保指纹识别的效果。

在本申请实施例中,参见图1,该滤光膜层103在衬底基板101上的正投影,可以覆盖多个发光区域102a中至少一个发光区域102a在衬底基板101上的正投影。也即是,滤光膜层103在衬底基板101上的正投影,可以不覆盖某些发光区域102a在衬底基板101上的正投影。

示例的,该滤光膜层103在衬底基板101上的正投影,可以覆盖多个发光区域102a中每个发光区域102a在衬底基板101上的正投影。

参考图2,该滤光膜层103可以包括:与多个发光区域102a一一对应的多个滤光图案1031。该多个滤光图案1031中的至少一个滤光图案1031可以与指纹识别电路104连接。该指纹识别电路104可以检测到与其连接的至少一个滤光图案1031接收到的障碍物反射的光线,进而可以根据该至少一个滤光图案1031接收到的障碍物反射的光线进行指纹识别。也即是,该多个滤光图案1031中与该指纹识别电路104连接的至少一个滤光图案1031可以作为指纹识别电路的检测极板。示例的,该多个滤光图案1031中的每个滤光图案1031均可以与指纹识别电路104连接。

并且,至少一个滤光图案1031在衬底基板101上的正投影可以覆盖对应的一个发光区域102a在衬底基板101上的正投影,且能够透射对应的一个发光区域102a发出的光线。例如,该多个滤光图案1031中的每个滤光图案1031在衬底基板101上的正投影均可以覆盖对应的一个发光区域102a在衬底基板101上的正投影。

可选的,多个发光区域102a可以包括:红色(red,r)发光区域,绿色(green,g)发光区域和蓝色(blue,b)发光区域。示例的,图2中示出了一个红色发光区域,两个绿色发光区域以及一个蓝色发光区域。

若某个滤光图案1031对应的发光区域102a发出的光线的颜色为红色,则该滤光图案1031可以透射红光,且反射绿光和蓝光。若某个滤光图案1031对应的发光区域102a发出的光线的颜色为绿色,则该滤光图案1031可以透射绿光,并反射红光和蓝光。若某个滤光图案1031对应的发光区域102a发出的光线的颜色的蓝色,则该滤光图案1031可以透射蓝光,并反射红光和绿光。

可选的,发光区域102a的形状可以为五边形,六边形或八边形等。当然,该发光区域102a还可以为其他形状,本申请实施例对该发光区域102a的形状不做限定。例如,参考图2,蓝色发光区域和红色发光区域的颜色均为六边形,绿色发光区域的颜色为五边形。

在本申请实施例中,至少一个滤光图案1031的边缘与该滤光图案1031覆盖的发光区域102a的边缘之间的距离范围约为1μm(微米)至4μm。例如,该多个滤光图案1031的边缘与该滤光图案1031覆盖的发光区域102a的边缘之间的距离范围均约为1μm至4μm。由此可以保证该发光区域102a发出的光线可以全部通过该滤光图案1031射出,保证显示面板的显示效果。

其中,“约为”可以是指制备过程中由制备工艺造成的误差范围内的数值,或者为测量过程中测量误差范围内的数值。

该滤光图案1031的形状可以与发光区域102a的形状相同,且滤光图案1031的边缘与发光区域102a的边缘平行。参考图2,覆盖蓝色发光区域的滤光图案1031的形状为六边形,覆盖红色发光区域的滤光图案1031的形状为六边形,覆盖绿色发光区域的滤光图案1031的形状为五边形。

滤光图案1031的边缘与该滤光图案1031覆盖的发光区域102a的边缘之间的距离可以是指:滤光图案1031的每条边缘与该滤光图案1031覆盖的发光区域102a对应的边缘之间的距离。其中,滤光图案1031的边缘的数量与该滤光图案1031的形状相关,发光区域102a的边缘的数量与该发光区域102a的形状相关。例如,滤光图案1031为六边形,则该滤光图案1031包括6个边缘,发光区域102a为六边形,则该发光区域102a包括6个边缘。

在本申请实施例中,滤光膜层103的材料可以包括金属材料和无机材料。其中,该无机材料可以包括氧化硅(siox)和氮化硅(sinx)中的至少一种。该金属材料可以包括钼(mo),铝(al),以及氧化钼(moo)中的至少一种。

可选的,该滤光膜层103可以包括至少两个由无机材料制成的无机膜层a1,以及至少一个由金属材料制成的金属膜层a2。其中,该至少一个金属膜层a2可以位于至少两个无机膜层a1之间,从而可以避免位于滤光膜层103两侧的其他膜层对该滤光膜层103中的金属膜层a2造成影响,保证指纹识别电路104能够正常完成指纹识别。

参考图3和图4,每相邻两个无机膜层a1之间可以设置有一个金属膜层a2。由此,该滤光膜层103包括的无机膜层a1的数量可以大于包括的金属膜层a2的数量,且无机膜层a1的数量与金属膜层a2的数量相差1。

示例的,参考图3,滤光膜层103可以包括:两个无机膜层a1和一个金属膜层a2。由此,滤光膜层103中沿远离衬底基板101的方向排布的膜层依次为:无机膜层a1,金属膜层a2,以及无机膜层a1。或者,参考图4,滤光膜层103可以包括:三个无机膜层a1和两个金属膜层a2。由此,滤光膜层103中沿远离衬底基板101的方向排布的膜层依次为:无机膜层a1,金属膜层a2,无机膜层a1,金属膜层a2,以及无机膜层a1。

当然,该滤光膜层103还可以包括更多数量的无机膜层a1以及更多数量的金属膜层a2,本申请实施例对该滤光膜层103包括的无机膜层和金属膜层的数量不做限定。

在本申请实施例中,每个无机膜层a1的膜层厚度的范围约为50nm(纳米)至250nm。每个金属膜层a2的膜层厚度的范围约为300nm至1000nm。

图5是本申请实施例提供的另一种显示面板的结构示意图。参考图5可以看出,该显示面板10还可以包括:封装膜层(thin-filmencapsulation,tfe)105。该封装膜层105可以用于封装显示功能膜层102,避免水汽进入该显示功能膜层102内而影响显示面板10的显示效果。

假设封装膜层105位于滤光膜层103远离衬底基板的一侧,则滤光膜层103作为检测极板与障碍物之间的距离可以和该封装膜层105的厚度正相关。也即是,该封装膜层105的厚度越厚,滤光膜层103与障碍物之间的距离越大;该封装膜层105的厚度越薄,滤光膜层103与障碍物之间的距离越小。

而指纹的脊和检测极板形成的第一电容以及指纹的谷和检测极板形成的第二电容的电容差,与滤光膜层103和障碍物之间的距离负相关。也即是,滤光膜层103和障碍物之间的距离越大,电容差越小;滤光膜层103和障碍物之间的距离越小,电容差越大。

由于电容差越大,指纹识别电路104更容易识别指纹的脊和谷,指纹识别的效果较好。电容差越小,指纹识别电路104较难识别指纹的脊和谷,指纹识别的效果较差。因此,参考图6,电容差与封装膜层105的厚度负相关。也即是,封装膜层105的厚度越厚,电容差越小,指纹识别的效果较差。封装膜层105的厚度越薄,电容差越大,指纹识别的效果较好。图6中,横坐标为封装膜层105的厚度,单位为微米(μm),纵坐标为电容差,单位为法拉(f)。

因此,为了保证指纹识别电路104的指纹识别效果,需将封装膜层105的厚度设计的较薄。但同时为了保证封装膜层105对显示功能膜层102的封装效果,该封装膜层105不宜过薄。由此,参考图5,该封装膜层105可以位于滤光膜层103和显示功能膜层102之间。一方面,可以保证封装膜层105对显示功能膜层102的封装效果,另一方面可以避免滤光膜层103和障碍物之间的距离过大,保证指纹识别电路104的指纹识别效果。

该封装膜层105位于滤光膜层103和显示功能膜层102之间,即滤光膜层103可以位于封装膜层105远离衬底基板101的一侧。该滤光膜层103作为检测极板时,可以与障碍物之间的距离较近,能够保证指纹识别电路104检测到的信号较大,确保指纹识别的效果。

参考图5,该封装膜层105可以包括:沿远离衬底基板101的一侧依次层叠的第一封装层1051,第二封装层1052,以及第三封装层1053。其中,制成该第一封装层1051和第三封装层1053的材料可以包括无机材料,制成第二封装层1052的材料包括有机材料。例如,该第一封装层1051和该第三封装层1053可以由sinx、siox和sioxny(氮氧化硅)等一种或多种无机氧化物制成。第二封装层1052可以由树脂材料制成。该树脂可以为热塑性树脂或热固性树脂,热塑性树脂可以包括亚克力(pmma)树脂,热固性树脂可以包括环氧树脂。

可选的,第二封装层1052可以采用喷墨打印(inkjetprinting,ijp)的方法制作。第一封装层1051和第三封装层1053可以采用化学气相沉积(chemicalvapordeposition,cvd)的方法制作。

参考图5,该显示面板10还可以包括:位于滤光膜层103远离衬底基板101的一侧的黑矩阵(blackmatrix,bm)层106。该黑矩阵层106在衬底基板101上的正投影,可以与多个发光区域102a在衬底基板101上的正投影至少部分不重叠。该黑矩阵层106能够遮挡发光区域102a发出的光线,因此该黑矩阵层106在衬底基板101上的正投影,与多个发光区域102a在衬底基板101上的正投影至少部分不重叠,可以避免黑矩阵层106完全遮挡发光区域102a发出的光线,保证显示面板能够正常显示。

可选的,该黑矩阵层106还可以位于滤光膜层103靠近衬底基板101的一侧,或者,该黑矩阵层106可以与滤光膜层103同层设置。本申请实施例对该黑矩阵层106的设置位置不做限定。

在本申请实施例中,该显示功能膜层102可以包括:多个像素电路以及与多个像素电路一一对应的多个发光单元。每个发光单元可以与对应的一个像素电路连接,每个发光单元所在区域构成一个发光区域102a。

参考图5,该显示功能膜层102可以包括:晶体管器件层1021以及发光功能膜层1022。其中,该晶体管器件层1021可以包括:沿远离衬底基板101的一侧依次层叠的缓冲层(buffer)10211,有源层10212,栅极绝缘层(gateinsulator,gi)10213,栅极(gate)层10214,层间介电层(interlayerdielectrics,ild)10215,源漏极层10216,平坦层(planarizationlayer,pln)10217,以及像素界定层(pixeldefinitionlayer,pdl)10218。发光功能膜层1022可以包括沿远离衬底基板101的一侧依次层叠的第一电极层10221,发光层10222,以及第二电极层10223。

其中,该有源层10212可以包括:多个有源图案102121,栅极层10214可以包括:与多个有源图案102121一一对应的多个栅极图案102141。源漏极层10216可以包括:与多个有源图案102121一一对应的多个源极(source,s)c1,以及与多个源极c1一一对应的多个漏极(drain,d)c2。每个有源图案102121,对应的一个栅极图案102141,对应的源极c1以及对应的漏极c2构成一个像素电路。每个像素电路中的源极c1和漏极c2均与有源图案102121连接。

另外,该第一电极层10221可以包括:多个电极图案102211,发光层10222可以包括:与多个电极图案102211一一对应的多个发光图案102221。每个电极图案102211,对应的一个发光图案102221以及第二电极层10223可以构成一个发光单元。参考图5,每个像素电路中的漏极c2可以与对应的一个发光单元的电极图案102211连接。

图7是本申请实施例提供的又一种显示面板的结构示意图。参考图7可以看出,该显示功能膜层102中的晶体管器件层1021可以包括两个栅极层10214以及两个栅极绝缘层10213。参考图7,缓冲层10211,有源层10212,第一栅极绝缘层10213a,第一栅极层10214a,第二栅极绝缘层10213b,第二栅极层10214b,层间介电层10215,源漏极层10216,平坦层10217,以及像素界定层10218沿远离衬底基板101的方向依次层叠。

参考图5和图7,该显示面板10还可以包括:位于黑矩阵层106远离衬底基板101的一侧的胶层107,以及位于胶层107远离衬底基板101的一侧的盖板(coverfilm)108。其中,该胶层107的材料可以为光学胶(opticallyclearadhesive,oca)。图5和图7中均未示出指纹识别电路104。

图8是本申请和现有技术提供的检测极板的反射率和透射率曲线。参考图8可以看出,本申请实施例提供的显示面板中检测极板的反射率和透射率,相对于现有技术的显示面板中的检测极板的反射率和透射率低(图8中示出了5个现有技术的显示面板中检测极板的反射率和透射率)。而检测极板的反射率和透射率低,可以使得指纹识别电路104的指纹识别效果较好。也即是,本申请实施例提供的显示面板中指纹识别电路104的指纹识别效果可以较好。

图8中,横坐标为波长,单位为nm,纵坐标为反射率或透射率,单位为%。其中,反射率和透射率区域大致重叠,因此图8中每条曲线表示一个显示面板的透射率和反射率。

综上所述,本申请实施例提供了一种显示面板,该显示面板中滤光膜层的材料包括导电材料,因此该滤光膜层可以作为指纹识别电路的检测极板。并且,由于滤光膜层位于显示功能膜层远离衬底基板的一侧,因此该滤光膜层与显示功能膜层中信号线的距离较远,不易受到该信号线的影响。在该滤光膜层作为检测极板时,指纹识别电路检测到的指纹信号的信噪比可以较大,指纹识别的效果可以较好。并且,由于该滤光膜层作为检测极板时,该滤光膜层相对于显示功能膜层与障碍物的距离较近,因此可以使得指纹识别电路检测到的信号较大,确保指纹识别的效果。

图9是本申请实施例提供的一种显示面板的制备方法的流程图。该方法可以用于制备上述实施例提供的显示面板10。参考图9可以看出,该方法可以包括:

步骤201、提供一衬底基板。

在本申请实施例中,在制备显示面板时,可以先获得一衬底基板101。该衬底基板101可以为柔性基板。示例的,该衬底基板101可以由柔性材料制成,该柔性材料可以为聚酰亚胺(polyimide,pi)。其中,该衬底基板101的厚度范围可以为5μm至10μm。

步骤202、在衬底基板上形成显示功能膜层。

在本申请实施例中,可以在获得一衬底基板101之后,在该衬底基板101上形成显示功能膜层102。该显示功能膜层102包括多个发光区域102a。

步骤203、在显示功能膜层远离衬底基板的一侧形成滤光膜层。

在本申请实施例中,在形成显示功能膜层102之后,可以在该显示功能膜层102远离衬底基板101的一侧形成滤光膜层103。该滤光膜层103能够透射多个发光区域102a发出的光线,且该滤光膜层103的材料包括导电材料。

步骤204、在衬底基板上形成指纹识别电路。

该指纹识别电路104与滤光膜层103连接,用于根据滤光膜层103接收到的障碍物反射的光线进行指纹识别。

由于该滤光膜层103的材料包括导电材料,因此该滤光膜层103可以作为指纹识别电路104的检测极板。由于滤光膜层103位于显示功能膜层102远离衬底基板101的一侧,因此该滤光膜层103与显示功能膜层102中信号线的距离可以较远。该滤光膜层103不易受到显示功能膜层102中信号线的影响,因此在该滤光膜层103作为检测极板时,指纹识别电路104检测到的信号的信噪比可以较大,指纹识别的效果可以较好。

综上所述,本申请实施例提供了一种显示面板的制备方法,该方法制备得到的显示面板中滤光膜层的材料包括导电材料,因此该滤光膜层可以作为指纹识别电路的检测极板。并且,由于滤光膜层位于显示功能膜层远离衬底基板的一侧,因此该滤光膜层与显示功能膜层中信号线的距离较远,不易受到该信号线的影响。在该滤光膜层作为检测极板时,指纹识别电路检测到的指纹信号的信噪比可以较大,指纹识别的效果可以较好。并且,由于该滤光膜层作为检测极板时,该滤光膜层相对于显示功能膜层与障碍物的距离较近,因此可以使得指纹识别电路检测到的信号较大,确保指纹识别的效果。

图10是本申请实施例提供的另一种显示面板的制备方法的流程图。该方法可以用于制备上述实施例提供的显示面板10。参考图10可以看出,该方法可以包括:

步骤301、提供一衬底基板。

在本申请实施例中,在制备显示面板时,可以先获得一衬底基板101。该衬底基板101可以为柔性基板。示例的,该衬底基板101可以由柔性材料制成,该柔性材料可以为聚酰亚胺(polyimide,pi)。其中,该衬底基板101的厚度范围可以为5μm至10μm。

并且,在获得该衬底基板101之后,可以对该衬底基板101进行清洗,以确保制备得到的显示面板的良率。

步骤302、在衬底基板的一侧依次形成缓冲层,有源层,栅极绝缘层,栅极层,层间介电层,源漏极层,以及平坦层。

在本申请实施例中,在获取该衬底基板101之后,可以在该衬底基板101的一侧依次形成缓冲层10211,有源层10212,栅极绝缘层10213,栅极层10214,层间介电层10215,源漏极层10216,以及平坦层10217。其中,该源漏极层10216可以包括源极和漏极。该源极和漏极可以采用同一次制备工艺制备得到。

其中,可以采用等离子体增强化学气相沉积(plasmaenhancedchemicalvapordeposition,pecvd)沉积形成缓冲层10211。该缓冲层10211为双层结构。其中一层可以为氮化硅薄膜,另一层为二氧化硅薄膜。在形成该缓冲层10211时,可以先沉积50nm至150nm厚度的氮化硅薄膜,之后再沉积100nm至350nm的二氧化硅薄膜。

在制备完成缓冲层10211之后,可以再采用pecvd沉积30nm至60nm的有源膜层。该有源膜层由非晶硅制备得到。之后,将该有源膜层在400摄氏度(℃)至450℃的温度下,对有源膜层进行0.5小时至3小时的加热处理。最后再对该有源膜层进行准分子激光退火(excimerlaserannealing,ela)处理,得到有源层10212。

之后,在该有源层10212远离衬底基板101的一侧再依次形成栅极绝缘层10213,栅极层10214,层间介电层10215,源漏极层10216,以及平坦层10217。

步骤303、在平坦层远离衬底基板的一侧形成第一电极层。

在本申请实施例中,参考图11,平坦层10217可以具有多个第一过孔b1,每个第一过孔b1可以露出一个漏极。参考图12,可以在平坦层远离衬底基板的一侧形成第一电极层10221。第一电极层10221中的每个电极图案102211位于一个第一过孔b1内,且与露出的漏极连接。

步骤304、在第一电极层远离衬底基板的一侧形成像素界定层。

在本申请实施例中,参考图13,可以在第一电极层10221远离衬底基板101的一侧形成像素界定层10218。该像素界定层10218可以具有多个第二过孔b2,每个第二过孔b2可以露出一个电极图案102211。

步骤305、在像素界定层远离衬底基板的一侧形成发光层和第二电极层。

在本申请实施例中,发光层10222可以包括多个发光图案102221。参考图14,每个发光图案102221可以位于像素界定层10218的一个第二过孔b2内。之后,在发光层10222远离衬底基板101的一侧形成第二电极层10223。

步骤306、在第二电极层远离衬底基板的一侧形成封装膜层。

在本申请实施例中,可以在第二电极层10223远离衬底基板101的一侧依次形成第一封装层1051,第二封装层1052以及第三封装层1053。其中,第二封装层1052可以采用ijp的方法制作。第一封装层1051和第三封装层1053可以采用cvd的方法制作。

步骤307、在封装膜层远离衬底基板的一侧形成滤光膜层,黑矩阵层,胶层,以及盖板。

在本申请实施例中,参考图5,在形成封装膜层105之后,可以在该封装膜层105远离衬底基板101的一侧形成滤光膜层103,黑矩阵层106,胶层107,以及盖板108。

综上所述,本申请实施例提供了一种显示面板的制备方法,该方法制备得到的显示面板中滤光膜层的材料包括导电材料,因此该滤光膜层可以作为指纹识别电路的检测极板。并且,由于滤光膜层位于显示功能膜层远离衬底基板的一侧,因此该滤光膜层与显示功能膜层中信号线的距离较远,不易受到该信号线的影响。在该滤光膜层作为检测极板时,指纹识别电路检测到的指纹信号的信噪比可以较大,指纹识别的效果可以较好。并且,由于该滤光膜层作为检测极板时,该滤光膜层相对于显示功能膜层与障碍物的距离较近,因此可以使得指纹识别电路检测到的信号较大,确保指纹识别的效果。

图15是本申请实施例提供的一种显示装置的结构示意图。参考图15,,该显示装置可以包括:指纹识别驱动电路40以及上述实施例提供的显示面板10。该指纹识别驱动电路40可以与该显示面板10中的指纹识别电路104连接,用于为该指纹识别电路104提供驱动信号。

可选的,该显示装置可以为有机发光二极管(organiclight-emittingdiode,oled)显示装置、量子点发光二极管(quantumdotlightemittingdiodes,qled)显示装置、电子纸、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框或导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。

以上所述仅为本申请的可选实施例,并不用以限制本申请,凡在本申请的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本申请的保护范围之内。

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