一种显示面板及其制备方法与流程

本发明涉及显示技术领域。更具体地，涉及一种显示面板及其制备方法。

背景技术：

目前，市场上各类显示装置对于指纹识别技术的要求越来越高。传统的指纹识别方式由于需要额外占用独立的空间，从而导致显示面板的体积较大，已经无法满足市场需求。其中，屏下指纹识别技术由于其可集成在显示面板中，无需额外占据显示面板的空间，已经成为指纹识别的一种重要实现方式。

屏下指纹识别技术主要包括电容式、超声波式和光学式三种指纹识别方式，其中，光学式指纹识别技术在oled显示装置这一领域得到广泛应用。然而，现有技术中的在显示面板中集成的光学指纹识别结构的的可见光损耗比较严重，可见光的利用率较差，导致光学指纹识别的灵敏度较低，常会发生无法正常识别的情况，影响用户体验。

技术实现要素：

本发明的目的在于提供一种显示面板及其制备方法，以解决现有技术存在的问题中的至少一个。

为达到上述目的，本发明采用下述技术方案：

本发明第一方面提供了一种显示面板，包括阵列基板及设置在所述阵列基板出光侧的色阻层，所述阵列基板包括多个像素单元和多个光学指纹传感器，所述色阻层包括多个彩膜层及设置在彩膜层之间的黑矩阵，所述黑矩阵开设有多个开孔，所述多个彩膜层与所述多个像素单元对应，所述多个开孔与所述多个光学指纹传感器对应，所述黑矩阵的远离所述阵列基板的一侧的至少部分区域设置有阵列排布的反射金属。

本发明第一方面所提供的显示面板通过在黑矩阵上设置反射金属，对经手指反射的部分光线进行再反射，以使得再反射后的光线进入开孔内，被光学指纹传感器所接收，即对经手指反射的部分光线进行回收利用，从而实现增强光学传感器所接收到的手指反射光线的效果，减小手指反射光线的损耗，提升入射到光学指纹传感器中的手指反射光线的量，增大手指反射光线的利用率，提高光学式指纹屏下指纹识别的灵敏度，改善消费者的使用感受。同时，该显示面板的制作方法在工艺上易于实现，形成工艺与现有技术的工艺匹配良好，可有效降低制作成本。

可选地，所述反射金属的高度取值为0.2μm-0.5μm。

该可选的实施方式中将反射金属的高度设定为0.2μm-0.5μm，以使得反射金属避让彩膜层，从而保证像素单元所发出的光通过彩膜层后正常发射，确保显示面板的正常显示，保证显示面板的显示画质。

可选地，所述反射金属在平行于所述阵列基板方向上的截面面积取值为3μm²-5μm²。

可选地，所述阵列排布的反射金属中的相邻反射金属的间距取值为1μm-5μm。

该可选的实施方式通过设定相邻反射金属的间距，从而在确保显示面板对自然光的反射率较低的情况下，提高对经手指反射的部分光线的再反射量，从而增多入射到光学指纹传感器中的手指反射光线的量，提高光学式指纹屏下指纹识别的灵敏度。

可选地，所述反射金属在平行于所述阵列基板方向上的截面呈矩形、正六边形或圆形。

可选地，每一开孔周围的反射金属相对于所述开孔呈中心对称分布。

可选地，所述阵列基板包括衬底及分别设置在所述衬底两侧的发光层和传感器层，所述阵列基板的出光侧为所述发光层的远离所述衬底一侧，所述发光层包括所述多个像素单元，所述传感器层包括所述多个光学指纹传感器，所述衬底开设有多个透光孔，所述多个透光孔与所述多个光学指纹传感器对应。

可选地，所述显示面板还包括设置在所述色阻层的远离所述阵列基板一侧的平坦化层，所述平坦化层具有第一折射率；至少部分所述开孔中设置有具有第二折射率的透光层，所述第二折射率大于所述第一折射率。

该可选的实施方式通过在开孔中设置具有大于平坦化层的折射率的透光层，从而使经手指反射至开孔内的光线的出射方向产生折射，使得更多的经手指反射后的光线进入到光学指纹传感器中，对经手指反射光线进一步回收，进一步增强光学传感器所接收到的手指反射光线，减少经手指反射光线的损耗，提高光学式指纹屏下指纹识别的灵敏度。

可选地，所述第一折射率取值为1.5，所述第二折射率取值为1.7。

本发明第二方面提供一种如本发明第一方面所提供的显示面板的制备方法，包括：

形成阵列基板，其中，所述阵列基板包括多个像素单元和多个光学指纹传感器；

在所述阵列基板的出光侧形成色阻层，其中，所述色阻层包括多个彩膜层及设置在彩膜层之间的黑矩阵，所述黑矩阵开设有多个开孔，所述多个彩膜层与所述多个像素单元对应，所述多个开孔与所述多个光学指纹传感器对应；

在所述黑矩阵的远离所述阵列基板的一侧的至少部分区域形成阵列排布的反射金属。

本发明的有益效果如下：

针对现有技术中存在的技术问题，本发明的实施例提供一种显示面板及其制备方法，通过在黑矩阵上设置反射金属，对经手指反射的部分光线进行再反射，以使得再反射后的光线进入开孔内，被光学指纹传感器所接收，即对经手指反射的部分光线进行回收利用，从而实现增强光学传感器所接收到的手指反射光线的效果，减小手指反射光线的损耗，提升入射到光学指纹传感器中的手指反射光线的量，增大手指反射光线的利用率，提高光学式指纹屏下指纹识别的灵敏度，改善消费者的使用感受。同时，该显示面板的制作方法在工艺上易于实现，形成工艺与现有技术的工艺匹配良好，可有效降低制作成本。

附图说明

下面结合附图对本发明的具体实施方式作进一步详细的说明。

图1示出现有技术中的显示面板的结构截面图。

图2示出本发明的一个实施例中的显示面板的结构截面图。

图3示出本发明的一个实施例中的黑色矩阵的结构俯视图。

图4示出本发明的一个实施例中的黑色矩阵的结构俯视图。

图5示出本发明的一个实施例中的黑色矩阵的结构俯视图。

图6示出本发明的一个实施例中的显示面板的结构截面图。

图7示出本发明的一个实施例中的显示面板的制备流程图。

图8-9示出本申请的另一个实施例的显示面板的部分制作流程主要步骤对应的结构截面图。

具体实施方式

为了更清楚地说明本发明，下面结合实施例和附图对本发明做进一步的说明。附图中相似的部件以相同的附图标记进行表示。本领域技术人员应当理解，下面所具体描述的内容是说明性的而非限制性的，不应以此限制本发明的保护范围。

本发明中所述的“在……上”、“在……上形成”和“设置在……上”可以表示一层直接形成或设置在另一层上，也可以表示一层间接形成或设置在另一层上，即两层之间还存在其它的层。

需要说明的是，虽然术语“第一”、“第二”等可以在此用于描述各种部件、构件、元件、区域、层和/或部分，但是这些部件、构件、元件、区域、层和/或部分不应受到这些术语限制。而是，这些术语用于将一个部件、构件、元件、区域、层和/或部分与另一个相区分。因而，例如，下面讨论的第一部件、第一构件、第一元件、第一区域、第一层和/或第一部分可以被称为第二部件、第二构件、第二元件、第二区域、第二层和/或第二部分，而不背离本发明的教导。

在本发明中，除非另有说明，所采用的术语“同层设置”指的是两个层、部件、构件、元件或部分可以通过相同制备工艺(例如构图工艺等)形成，并且，这两个层、部件、构件、元件或部分一般由相同的材料形成。例如两个或更多个功能层同层设置指的是这些同层设置的功能层可以采用相同的材料层并利用相同制备工艺形成，从而可以简化显示基板的制备工艺。

在本发明中，除非另有说明，表述“构图工艺”一般包括光刻胶的涂布、曝光、显影、刻蚀、光刻胶的剥离等步骤。表述“一次构图工艺”意指使用一块掩模板形成图案化的层、部件、构件等的工艺。

现有技术中，外界自然光经过显示面板内的阳极(一般为金属)，会被阳极反射回用户的眼中，使得用户从画面中看到自己，影响用户的观看效果和对比度。现有技术中，存在通过采用偏光片和1/4λ波片从而克服上述问题的方案：即当外界自然光先经过偏光片时，已经有一半光无法通过，该一半的光线经过1/4λ波片和反射之后与原先的光线之间已经偏离90°，反射回来的光线无法通过偏光片，从而解决外界自然光反射的问题。

为了降低功耗，现有技术中还存在采用coe(colorfilmonen)技术，即通过在封装层100上形成厚度小于10微米的彩膜110(colorfilter，cf)以及黑矩阵120(blackmartix)以取代传统的偏光片的方案，如图1所示。其中，coe技术是通过彩膜110的滤光作用，滤去了环境光中大部分波段的光，从而起到降低反射光的作用。而黑矩阵120由不透光的黑色材料制成，用于防止混色，同时也能起到一定的吸收反射光的作用。因此，在应用于集成有光学指纹识别结构的显示装置中时，需要在黑矩阵120上形成开孔130以便于经手指反射的光线(如光线a)透过，从而被光学指纹传感器140接收，利用小孔成像原理，将手指反射的光线成像在光学指纹传感器140上，以实现光学指纹识别。

经发明人发现，如图1所示，经手指反射后的一部分光线(如光线b)会被黑矩阵120所吸收，从而无法通过开孔130被光学指纹传感器140所接收，从而导致整体的透光率不足，经手指反射光线的损耗量较大，进而导致光学指纹识别的灵敏度降低，容易出现无法识别的情况。

针对现有技术中存在的上述技术问题，本发明的一个实施例提供一种显示面板200，如图2-6所示，该显示面板200包括阵列基板210及设置在阵列基板210出光侧的色阻层220。阵列基板210包括衬底211、多个光学指纹传感器212以及位于衬底211上的多个像素单元213，其中，光学指纹传感器212用于接收经手指反射的可见光，从而进行光学指纹识别。在一个具体示例中，该光学指纹传感器212包括多个具有感光功能的器件，例如感光二极管等。

在该实施例中，色阻层220包括多个彩膜层221及设置在彩膜层221之间的黑矩阵222，其中，黑矩阵222用于吸收反射光，黑矩阵222开设有多个开孔2221，多个彩膜层221与多个像素单元213对应，多个开孔2221与多个光学指纹传感器212对应，以使得经手指反射后的光线透过开孔2221，入射到光学指纹传感器212内。

在一个具体示例中，开孔2221在衬底211上的正投影与光学指纹传感器212在衬底211上的正投影重合。在另一个具体示例中，开孔2221在衬底211上的正投影可覆盖光学指纹传感器212在衬底211上的正投影。

黑矩阵222的远离阵列基板210的一侧的至少部分区域设置有图案化的阵列排布的反射金属230，该反射金属230具有反射光线的效果，用于将像素单元213所发出的经手指反射后的光线进行再反射。具体如图2中的光线a1-a4所示，即反射金属230将经手指反射的光线a2进行再反射，再反射光线a3反射至手指，经手指反射后的光线a4穿过开孔2221，射入位于开孔2221下的光学指纹识别传感器212中，以实现指纹识别。在一个具体示例中，该反射金属230环绕开孔2221设置。

在一个具体示例中，黑矩阵222的材料为有机碳黑材料，使得黑矩阵222可实现防止混色的作用，保证显示面板200的正常显示。

在一个具体示例中，像素单元213例如可包括红色像素单元、绿色像素单元和蓝色像素单元，如图2所示，位于红色像素单元和绿色像素单元之间的黑矩阵222上形成有呈网格状阵列排布的反射金属230，类似的，在其他的像素单元之间可以有相同的设计。多个彩膜层221与多个像素单元213对应，即在像素单元213的出光侧设置有与该像素单元213所发出的光线颜色对应的彩膜层221，彩膜层221用于对其所对应的像素单元213所发出的光线进行过滤，以透过对应颜色的光线。例如，红色像素单元213与红色彩膜层221对应，以使得红色彩膜层221对红色像素单元213所发出的光进行过滤，以透过红色光线。在一个具体示例中，如图2所述，彩膜层221在衬底211上的正投影位于像素单元213在衬底211上的正投影范围内。

该实施例所提供的显示面板200通过在黑矩阵222上设置反射金属230，将原先经手指反射后被黑矩阵222所吸收的光线进行再反射，以使得再反射后的光线进入开孔2221内，被光学指纹传感器212所接收，即对经手指反射的部分光线进行回收利用，从而实现增强光学传感器212所接收到的手指反射光线的效果，减小手指反射光线的损耗，提升入射到光学指纹传感器212中的手指反射光线的量，增大手指反射光线的利用率，提高光学式指纹屏下指纹识别的灵敏度，改善消费者的使用感受。同时，该显示面板200的制作方法在工艺上易于实现，形成工艺与现有技术的工艺匹配良好，可有效降低制作成本。

在一个具体示例中，该反射金属230例如可为具有高反射特性的金属，如银、镁和铝等，其中，银材料对可见光的反射率在90％以上，为现有工艺中常用的金属材料，无需额外增加新的原材料，与现有工艺的匹配良好。在另一个具体示例中，该反射金属230通过掩膜板沉积工艺形成在黑矩阵222上。

在一种可能的实现方式中，反射金属230的高度取值为0.2μm-0.5μm。在一个具体示例中，反射金属230的高度可与阴极的厚度相同，约为0.2μm，从而使得反射金属230与黑矩阵222(约为1μm)的厚度之和小于彩膜层221(约为3μm)的厚度，即反射金属230不会凸出于彩膜层221，从而使得反射金属230起到避让彩膜层221的作用，防止反射金属230对经彩膜层221过滤后所透过的光线进行反射，从而影响显示面板的显示，保证像素单元213所发出的光通过彩膜层221后正常出射，确保显示面板200的正常显示，也就是说，在有效提升入射到光学指纹传感器212中的手指反射光线的量，提高光学式指纹屏下指纹识别的灵敏度的同时，确保显示面板200的显示画质。

在一种可能的实现方式中，反射金属230在平行于阵列基板210方向上的截面面积取值为3μm²-5μm²，其中，阵列基板210的方向如图2的箭头所示。在一个具体示例中，如图3-5所示，反射金属230的长度和宽度均约为2μm。在另一种可能的实现方式中，反射金属230在平行于阵列基板210方向上的截面呈矩形、正六边形或圆形，即该反射金属230可为正方形、正六面体等立方体形状或者半球体等半球形态。

在一种可能的实现方式中，每一开孔2221周围的反射金属230相对于开孔2221呈中心对称分布。具体地，如图3所示，位于开孔2221周围的反射金属230可呈网格状的规则排布。如图4所示，多个反射金属230可在竖直方向和水平方向上呈一字型排布；或如图5所示，多个反射金属230可相对于开孔2221呈对角线排布。在另一个具体示例中，多个反射金属230也可呈钻石型排列。可理解的是，反射金属230的排列方式不仅限于上述的几种方式，还可以为本领域所熟知的排列方式，本发明对此不作进一步限定。

在一种可能的实现方式中，阵列排布的反射金属230中的相邻反射金属230的间距取值为1μm-5μm，即相邻的反射金属230在排列方向上的间距可为1μm-5μm，设置该间距范围的反射金属230可在确保黑矩阵222和彩膜层221正常起到提高色纯度和降低显示面板200对外界自然光的反射率的作用的同时，提高对经手指反射的部分光线的再反射量，从而增多入射到光学指纹传感器212中的手指反射光线的量，提高光学式指纹屏下指纹识别的灵敏度。

在一种可能的实现方式中，阵列基板210包括衬底211及分别设置在衬底211两侧的发光层214和传感器层215。阵列基板210的出光侧为发光层214的远离衬底211一侧。发光层214包括多个像素单元213，传感器层215包括多个光学指纹传感器212，衬底211开设有多个透光孔2111，多个透光孔2111与多个光学指纹传感器212对应，以使得经手指反射的光线穿过透光孔2111，入射到光学指纹传感器212中。

多个透光孔2111与多个光学指纹传感器212分别一一对应，即透光孔2111在竖直方向上的投影与光学指纹传感器212在竖直方向上的投影重合。在另一个具体示例中，多个光学指纹传感器212与多个透光孔2111、多个开孔2221分别呈一一对应，也就是说，光学指纹传感器212在竖直方向上的投影和与其对应的透光孔2111和开孔2221在竖直方向上的投影至少部分重合。

在另一个具体示例中，阵列基板210还包括有位于衬底211和发光层214之间的驱动电路层216，该显示面板200还包括位于阵列基板210和色阻层220之间的封装结构240。其中，封装结构240用于对阵列基板210内的发光层214、驱动电路层216、衬底211等功能结构起到保护作用。

在另一个具体示例中，驱动电路层216包括有源层、栅极绝缘层、栅极金属层、层间绝缘层和源漏金属层以及与源漏金属层同层设置的数据线。其中，有源层、栅极金属层和源漏金属层共同形成薄膜晶体管(thinfilmtransistor)。需要说明的是，该薄膜晶体管既可为底栅型薄膜晶体管、顶栅型薄膜晶体管或氧化物薄膜晶体管，对此不作限定。

在一个具体示例中，发光层214包括有用于界定相邻的像素单元213的像素界定层(pdl)2141，像素界定层2141用于使得各个像素单元213对应分割为一个个相对独立的结构，以防止相邻的像素单元213相互影响。在该具体示例中，穿过黑矩阵222的开孔2221的经手指反射的光线，分别穿过封装结构240、像素界定层2141和驱动电路层216，再通过衬底211上的透光孔2111，射入到光学指纹传感器212。在另一个具体示例中，像素界定层2141的材料可为负性光刻胶、有机硅、氮化硅、硫酸钡、三氧化二铝、氧化镁、聚酰亚胺、环氧树脂、聚苯醚等材质，但本发明的示例性实施例并不限于此。在另一个具体示例中，光学指纹传感器212以及透光孔2111在竖直方向上的投影位于像素界定层2141在竖直方向上的投影区域内。

在一个具体示例中，如图2所示，传感器层215位于衬底211背向发光层214的底侧，发光层214位于衬底211的顶侧。在另一个具体示例中，传感器层215可直接形成在衬底211上，即衬底211靠近发光层214的一侧，例如传感器层215形成在衬底211和驱动电路层216之间，而透光孔2111形成在驱动电路层216的膜层内；在又一个具体示例中，光学指纹传感器212和透光孔2111也可直接形成在驱动电路层216的膜层内。只要保证透光孔2111位于光学指纹传感器212的上方，且光学指纹传感器212与黑矩阵222的开孔2221，透光孔2111呈一一对应关系不变即可。

经发明人发现，如图1所示，经手指反射后的一部分光线(如光线c)反射至开孔130的内壁上，仍会被黑矩阵120所吸收，同样无法穿过开130孔被光学指纹传感器140所接收，同样会导致整体的透光率不足，造成经手指反射光线的损耗，最终也会导致光学指纹识别的灵敏度降低。

在一种可能的实现方式中，显示面板200还包括设置在色阻层220的远离阵列基板210一侧的平坦化层250，平坦化层250具有第一折射率；至少部分开孔2221中设置有具有第二折射率的透光层260，第二折射率大于第一折射率。其中，具有比平坦化层250的折射率更高的折射率的透光层260用于改变经手指反射光线的传输路径，即，将原先经手指反射的出射至开孔2221内壁的光线进行折射，使其折射至下层的透光孔2111中，并入射至光学指纹传感器212中，从而提高手指反射光的透过率。

具体地，如图6的光线a5-a7所示，即像素单元213所发出的光线a5通过彩膜层221经手指反射后，反射光线a6通过具有第一折射率的平坦化层250，入射至黑矩阵222的开孔2221内的具有第二折射率的透光层260后，光线发生折射，折射角度变小，折射光线a7透过透光孔2111射入光学指纹传感器212中，最后被光学指纹传感器212所接收。

该可能的实现方式通过在开孔2221中设置具有大于平坦化层250的折射率的透光层260，即，经手指反射光线通过平坦化层250射入比平坦化层250的折射率更高的透光层260中，使经手指反射的光线的传输路径产生改变，光线折射进入透光孔2111内，从而使得更多的经手指反射后的光线进入到光学指纹传感器212中，对经手指反射光线进一步回收，进一步增强光学传感器212所接收到的手指反射光线，减少经手指反射光线的损耗，提高光学式指纹屏下指纹识别的灵敏度。

在一种可能的实现方式中，第一折射率取值为1.5，第二折射率取值为1.7。在一个具体实施例中，平坦化层250的材料可以采用采用有机树脂形成，有机树脂包括丙烯酸类成膜树脂、酚醛树脂类成膜树脂、乙烯基聚合物成膜树脂或聚亚胺成膜树脂。上述材料的折射率约为1.5,。而填充在开孔2221中的透光层260的折射率大于1.5，例如透光层260的第二折射率为1.7.在一个具体示例中，透光层260可为高折射率的光学透明粘剂(英文：opticallyclearadhesive；简称：oca)。在另一个具体示例中，透光层260可为聚对苯二甲酸类塑料。在又一个具体示例中，透光层260的材料包括氧化镁、络酸钾、氧化铝中的至少一种。

在一个具体示例中，透光层260的厚度与黑矩阵222的厚度相同。在另一个具体示例中，透光层260高于黑矩阵222约1.5-2μm，使得更多的经手指反射光线入射至透光层260中以发生折射，提高入射到光学指纹传感器212中的光线量。

本发明的另一个实施例提供一种如上述实施例所提供的显示面板200的制备方法，如图7所示，以显示面板200为oled显示面板为例，该制备方法包括：

s110、形成阵列基板210，其中，阵列基板210包括多个像素单元213和多个光学指纹传感器212，以形成如图8所示的结构。

在一个具体示例中，形成阵列基板210包括如下步骤：

步骤s1、提供衬底211，并在衬底211上开设有多个透光孔2111。例如，当阵列基板210为oled柔性阵列基板时，所提供的衬底211可以为聚酰亚胺(pi)、聚萘二甲酸乙二醇酯(pen)、热塑性聚酯(pet)等；当阵列基板210为oled刚性阵列基板时，衬底211可以为玻璃、石英等刚性材料。

步骤s2、在衬底211的一侧形成传感器层215，该传感器层215包括多个光学指纹传感器212，其中，光学指纹传感器212用于接收经手指反射的可见光，从而进行光学指纹识别。在一个具体示例中，该光学指纹传感器212包括多个具有感光功能的器件，例如感光二极管等。衬底211上的多个透光孔2111与多个光学指纹传感器212对应，以使得经手指反射的光线穿过透光孔2111，入射到光学指纹传感器212中。

步骤s3、在衬底211背离传感器层215的一侧形成驱动电路层216，包括：

采用构图工艺在衬底上形成有源层；在有源层上通过沉积等方式形成栅绝缘层；在栅绝缘层上采用构图工艺形成栅极；在栅极上通过沉积等方式形成层间介电层；然后，刻蚀层间介电层以形成暴露有源层的过孔。

在层间介电层中的过孔形成后，形成源极和漏极以及与源极或漏极之一电连接的信号线。

其中，有源层可以采用多晶硅和金属氧化物等材料，栅绝缘层可以采用氧化硅、氮化硅或者氮氧化硅等无机绝缘材料，层间介电层可以采用氧化硅、氮化硅或者氮氧化硅等无机绝缘材料。栅极材料包括铝、钛、钴等金属或者合金材料。在制备时，首先采用溅射或者蒸镀等方式形成一层栅极材料层，然后对栅极材料层进行构图工艺，以形成图案化的栅极。

优选地，在形成有源层之前，在衬底上形成阻挡层和缓冲层。例如，阻挡层和缓冲层可以整面形成在衬底上。例如，阻挡层可以采用氧化硅、氮化硅、或者氮氧化硅等无机绝缘材料，缓冲层也可以采用氧化硅、氮化硅、或者氮氧化硅等无机绝缘材料。阻挡层有利于从底部阻挡水、氧进入之后形成的oled中。缓冲层有利于后续的材料沉积质量。

本发明的实施例对各功能层的材料不做限定，各功能层的材料并不局限于上述示例。以上，完成了薄膜晶体管结构的制作。

本领域技术人员能够理解，上述薄膜晶体管以顶栅结构为例，但本发明不限于此，底栅结构也包括在本发明的范围内。

步骤s4、形成平坦化层。

具体地，沉积一层平坦化层材料，例如有机材料，厚度为1～3μm左右，覆盖上述各膜层，然后，利用构图工艺，对其进行图案化，在对应上述源极和漏极中的另一个的位置形成开孔。

步骤s5、形成发光层214，阵列基板210的出光侧为发光层214的远离衬底211一侧，发光层214包括多个像素单元213，每个像素单元213包括层叠设置的阳极、发光材料层和阴极，该步骤s5包括：

步骤s51、在平坦化层的开孔中沉积oled的阳极层金属并图案化形成阳极，其中，示例性的，阳极的材料包括ito、izo等金属氧化物或者ag、al、mo等金属或其合金；

步骤s52、利用构图工艺形成围绕阳极的像素界定层2141，具体地，沉积一层像素界定层2141材料，例如厚度为1～2μm左右，利用构图工艺在显示区形成像素界定层2141。示例性的，像素界定层2141的材料可为负性光刻胶、有机硅、氮化硅、硫酸钡、三氧化二铝、氧化镁、聚酰亚胺、环氧树脂、聚苯醚等材质，但本发明的示例性实施例并不限于此。在一个具体示例中，光学指纹传感器212以及透光孔2111在竖直方向上的投影位于像素界定层2141在竖直方向上的投影区域内。

步骤s53、通过喷墨打印或者蒸镀等方式在像素界定层2141的开口中的阳极上形成发光材料层；

步骤s54、形成阴极，阴极例如在oled阵列基板上整面形成，阴极的材料可以包括mg、ca、li或al等金属或其合金，或者izo、zto等金属氧化物，又或者pedot/pss(聚3，4-乙烯二氧噻吩/聚苯乙烯磺酸盐)等具有导电性能有机材料。

其中，对应于各个像素单元的阳极彼此隔离、而对应于各个像素单元的阴极彼此相连。

还可以在阳极与发光材料层之间以及发光材料层和阴极之间形成有助于发光层发光的辅助发光层，例如包括电子传输层、电子注入层、空穴传输层以及空穴注入层中的一种或多种。辅助发光层例如为有机材料层。

s6、像素单元213形成后，可以形成封装层。例如，封装层第一无机封装层、有机封装层和第二无机封装层。

例如，第一无机封装层和第二无机封装层采用沉积等方式形成。有机封装层采用喷墨打印的方式形成。

例如，第一无机封装层和第二无机封装层可以采用氮化硅、氧化硅、氮氧化硅等无机材料形成，有机封装层可以采用聚酰亚胺(pi)、环氧树脂等有机材料形成。由此，第一无机封装层，有机封装层以及第二无机封装层形成为复合封装层，该复合封装层可以对显示区的功能结构形成多重保护，具有更好的封装效果。

本发明的一些实施例中，根据需要，显示区和隔离区中还可以形成其他必要的功能膜层，例如在显示区中的存储电容，这些膜层可采用常规方法形成，在此不再赘述。

s120、在阵列基板210的出光侧形成色阻层220，其中，色阻层220包括多个彩膜层221及设置在彩膜层221之间的黑矩阵222，黑矩阵222开设有多个开孔2221，多个彩膜层221与多个像素单元213对应，多个开孔2221与多个光学指纹传感器212对应，以形成如图9所示的结构。

在一个具体示例中，多个光学指纹传感器212与多个透光孔2111、多个开孔2221分别呈一一对应，也就是说，光学指纹传感器212在竖直方向上的投影和与其对应的透光孔2111和开孔2221在竖直方向上的投影至少部分重合。

s130、在黑矩阵222的远离阵列基板210的一侧的至少部分区域形成阵列排布的反射金属230，以形成如图2所示的结构。

在一个具体示例中，可通过掩膜板沉积的工艺在黑矩阵222上形成反射金属230。

在本发明的另一个具体示例中，该制备方法还包括：

s140、在至少部分开孔2221中形成具有第二折射率的透光层260；

s150、形成覆盖色阻层220和透光层260的具有第一折射率的平坦化层250，第二折射率大于第一折射率，以形成如图6所示的结构。

本发明的另一个实施例提供了一种显示装置，包括上述显示面板200、触控层以及盖板。其中，显示装置可以为电子纸、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件，本实施例对此不做限定。在一个具体示例中，该显示装置例如可为用以实现屏下指纹识别和全面屏显示的oled显示装置，如oled柔性显示装置。可理解的是，通过对本发明的上述实施例进行适应性修改，也可应用于其他类型的显示装置中，本发明对此不作进一步限定。

显然，本发明的上述实施例仅仅是为清楚地说明本发明所作的举例，而并非是对本发明的实施方式的限定，对于本领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动，这里无法对所有的实施方式予以穷举，凡是属于本发明的技术方案所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明的保护范围之列。