显示面板窄边框的测试方法与显示面板与流程

1.本公开涉及显示技术领域，具体而言，涉及一种显示面板窄边框的测试方法与显示面板。


背景技术：

2.随着amoled技术的迅猛发展，客户端对手机产品的窄边框要求很高，对大尺寸oled车载和大尺寸产品的边框要求也越来越高。由于车载和大尺寸产品的尺寸较大，为了更好的保证产品的各项规格满足要求，一是边框走线就需要比正常手机产品更大的空间去进行走线连接；二是为了保证亮度均一性，边框阴阳级搭接面积需求更大。
3.但是，这样造成大尺寸的产品的边框比正常手机产品大很多，不满足窄边框产品需求，且客户要求进行窄边框设计验证，这就需要进行重新进行掩膜版设计和掩膜版购买验证，需要耗费一定的费用。
4.需要说明的是，在上述背景技术部分公开的信息仅用于加强对本发明的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。


技术实现要素：

5.本公开实施例的目的在于提供一种显示面板窄边框的测试方法与显示面板，降低了测试成本，提高了测试效率。
6.根据本公开的一个方面，提供了一种显示面板窄边框的测试方法，该显示面板窄边框的测试方法包括：
7.提供一显示面板，包括衬底基板，所述衬底基板包括显示区和围绕所述显示区的非显示区；所述衬底基板的所述非显示区上形成有预设宽度的低电平信号线；
8.将所述显示面板至少一个侧边的所述低电平信号线的宽度进行减窄，形成目标宽度的低电平信号线；
9.根据所述目标宽度的低电平信号线，对所述显示面板进行功能测试；
10.若功能测试通过，则确定所述低电平信号线的宽度可减至所述目标宽度。
11.在本公开的一种示例性实施例中，所述测试方法还包括：
12.若根据所述目标宽度的低电平信号线，功能测试不通过；
13.则确定所述低电平信号线的宽度不可减至所述目标宽度。
14.在本公开的一种示例性实施例中，所述显示面板包括：相对的上边沿与下边沿，以及位于所述上边沿与所述下边沿之间的两个侧边沿；
15.对靠近所述侧边沿的所述低电平信号线的宽度进行减窄，形成靠近所述侧边沿的目标宽度的低电平信号线。
16.在本公开的一种示例性实施例中，对相对的两个所述侧边沿对应的所述低电平信号线的宽度均进行减窄，在相对的两侧边沿均形成目标宽度的低电平信号线。
17.在本公开的一种示例性实施例中，将所述显示面板至少一个侧边的所述低电平信
号线的宽度进行减窄，包括：
18.沿所述低电平信号线的延伸方向，通过隔离槽在所述低电平信号线分割出隔离部，以形成所述目标宽度的低电平信号线；所述隔离部位于所述隔离槽靠近所述显示区的一侧。在本公开的一种示例性实施例中，所述低电平信号线包括位于衬底基板上的像素电极层与公共电极层；
19.沿所述低电平信号线的延伸方向，通过隔离槽在所述像素电极层分割出隔离部；
20.将所述显示区的像素界定层延伸至在所述像素电极的隔离部与所述公共电极层之间，以将所述像素电极的分隔部与所述公共电极层绝缘隔离。
21.在本公开的一种示例性实施例中，所述衬底基板的非显示区上包括：
22.栅绝缘层，设于所述衬底基板的一侧；
23.第一源漏金属层，设于所述栅绝缘层背离所述衬底基板的一侧；
24.钝化层，设于所述栅绝缘层背离所述衬底基板的一侧，并从所述显示区靠近所述非显示区的一侧延伸至所述第一源漏金属层上，覆盖部分所述第一源漏金属层；
25.第一平坦层，设于所述钝化层背离所述衬底基板的一侧，并覆盖所述钝化层；
26.第二源漏金属层，设于所述第一平坦层背所述钝化层的一侧，并覆盖第一平坦层以及部分所述第一源漏金属层；
27.第二平坦层，设于所述第二源漏金属层背离所述第一平坦层的一侧；
28.像素电极层，设于所述第二平坦层背离所述衬底基板的一侧，并覆盖所述第二平坦层以及部分所述第二源漏金属层；
29.公共电极层，设于所述像素电极层背离所述衬底基板的表面上；其中，所述第一源漏金属层、第二源漏金属层、像素电极层与公共电极层连接形成所述预设宽度的低电平信号线；
30.沿所述低电平信号线的延伸方向，在所述非显示区上形成隔离槽，通过所述隔离槽将所述第一源漏金属层、第二源漏金属层、像素电极层与公共电极层分割为断开的两个部分，以在所述低电平信号线分割出隔离部，形成所述目标宽度的低电平信号线；
31.使所述显示区的像素界定层延伸至在所述隔离部中的所述像素电极层与所述公共电极层之间，以将所述像素电极层与所述公共电极层绝缘分离。
32.在本公开的一种示例性实施例中，将所述显示面板至少一个侧边的所述低电平信号线的宽度进行减窄，包括：
33.沿所述低电平信号线的延伸方向，通过隔离槽在所述低电平信号线分割出主体部、隔离部与连接部，所述连接部连接所述主体部与所述隔离部；
34.在需要进行功能测试时，将所述隔离部与所述主体部之间的所述连接部的断开，以使所述主体部形成所述目标宽度的低电平信号线。
35.在本公开的一种示例性实施例中，通过激光将所述隔离部与所述主体部之间的所述连接部切割开。
36.根据本公开的另一个方面，还提供了一种显示面板，该显示面板包括：
37.衬底基板，包括显示区和围绕所述显示区的非显示区；
38.低电平信号线，设于所述衬底基板的所述非显示区上；所述低电平信号线上形成有隔离槽，所述隔离槽沿所述低电平信号线的延伸方向，在所述低电平信号线上分割出主
体部、隔离部与连接部，所述连接部连接所述主体部与所述隔离部；所述主体部形成目标宽度的低电平信号线。
39.本公开提供的显示面板窄边框的测试方法，通过将显示面板至少一个侧边的低电平信号线的宽度进行减窄，形成目标宽度的低电平信号线，进而根据目标宽度的低电平信号线对显示面板进行功能测试，若功能测试通过，则确定低电平信号线的宽度可减至目标宽度，实现了显示面板窄边框的验证，不需要进行重新进行mask设计和mask购买验证，降低了验证成本，提高了验证效率。
40.应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本发明。
附图说明
41.此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本发明的实施例，并与说明书一起用于解释本发明的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。在附图中：
42.图1为本公开的一种实施例提供的显示面板窄边框的测试方法的流程图；
43.图2为本公开的一种实施例提供的显示面板的俯视示意图；
44.图3为本公开的一种实施例提供的图2中a区域的放大示意图；
45.图4为本公开的一种实施例提供的图3中虚线位置未切割前沿x方向的截面示意图；
46.图5为本公开的一种实施例提供的图3中虚线位置未切割后沿x方向的截面示意图；
47.图6为本公开的一种实施例提供的图3中虚线位置未切割前沿y方向的截面示意图；
48.图7为本公开的一种实施例提供的图3中虚线位置未切割后沿y方向的截面示意图。
49.附图标记说明：
50.10、衬底基板；11、显示区；
51.21、缓冲层；22、栅绝缘层；23、层间绝缘层；
52.31、第一源漏金属层；32、第二源漏金属层；
53.40、钝化层；
54.51、第一平坦层；52、第二平坦层；
55.60、像素电极层；
56.70、像素界定层；71、挖槽区域；72、像素界定层边界
57.80、公共电极层；
58.90、低电平信号线；91、主体部；92、连接部；93、隔离部；94、隔离槽。
具体实施方式
59.现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形
式实施，且不应被理解为限于在此阐述的范例；相反，提供这些实施方式使得本公开将更加全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。
60.此外，所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施例中。在下面的描述中，提供许多具体细节从而给出对本公开的实施例的充分理解。然而，本领域技术人员将意识到，可以实践本公开的技术方案而没有特定细节中的一个或更多，或者可以采用其它的方法、组元、装置、步骤等。在其它情况下，不详细示出或描述公知方法、装置、实现或者操作以避免模糊本公开的各方面。附图中所示的方框图仅仅是功能实体，不一定必须与物理上独立的实体相对应。即，可以采用软件形式来实现这些功能实体，或在一个或多个硬件模块或集成电路中实现这些功能实体，或在不同网络和/或处理器装置和/或微控制器装置中实现这些功能实体。
61.虽然本说明书中使用相对性的用语，例如“上”“下”来描述图标的一个组件对于另一组件的相对关系，但是这些术语用于本说明书中仅出于方便，例如根据附图中所述的示例的方向。能理解的是，如果将图标的装置翻转使其上下颠倒，则所叙述在“上”的组件将会成为在“下”的组件。当某结构在其它结构“上”时，有可能是指某结构一体形成于其它结构上，或指某结构“直接”设置在其它结构上，或指某结构通过另一结构“间接”设置在其它结构上。
62.用语“一个”、“一”、“该”、和“至少一个”用以表示存在一个或多个要素/组成部分/等；用语“包括”和“具有”用以表示开放式的包括在内的意思并且是指除了列出的要素/组成部分/等之外还可存在另外的要素/组成部分/等；用语“第一”、“第二”等仅作为标记使用，不是对其对象的数量限制。
63.本公开的实施例提供了一种显示面板窄边框的测试方法，如图1所示，该显示面板窄边框的测试方法包括：
64.步骤s100、提供一显示面板，包括衬底基板，衬底基板包括显示区和围绕显示区的非显示区；衬底基板的非显示区上形成有预设宽度的低电平信号线；
65.步骤s200、将显示面板至少一个侧边的低电平信号线的宽度进行减窄，形成目标宽度的低电平信号线；
66.步骤s300、根据目标宽度的低电平信号线，对显示面板进行功能测试；
67.步骤s400、若功能测试通过，则确定低电平信号线的宽度可减至目标宽度。
68.本公开提供的显示面板窄边框的测试方法，通过将显示面板至少一个侧边的低电平信号线的宽度进行减窄，形成目标宽度的低电平信号线，进而根据目标宽度的低电平信号线对显示面板进行功能测试，若功能测试通过，则确定低电平信号线的宽度可减至目标宽度，实现了显示面板窄边框的验证，不需要进行重新进行mask设计和mask购买验证，降低了验证成本，提高了验证效率。
69.具体地，本公开提供的显示面板窄边框的测试方法还包括：
70.步骤s500、若根据目标宽度的低电平信号线，功能测试不通过；则确定低电平信号线的宽度不可减至目标宽度。
71.下面，将对本公开提供的显示面板窄边框的测试方法中的各步骤进行详细地说明。
72.在步骤s100中，提供一显示面板，包括衬底基板，衬底基板包括显示区和围绕显示
区的非显示区；衬底基板的非显示区上形成有预设宽度的低电平信号线。
73.具体地，提供一显示面板，如图2所示，包括衬底基板10，衬底基板10包括显示区11和围绕显示区11的非显示区；衬底基板10的非显示区上形成有预设宽度的低电平信号线(vss)。
74.在本公开的一种实施例中，如图4和图5所示，显示面板的非显示区上包括：衬底基板(pi)10、缓冲层(buffer)21、栅绝缘层(gi)22、层间绝缘层(ild)23、第一源漏金属层(sd1)31、钝化层(pvx)40、第一平坦层(pln1)51、第二源漏金属层(sd2)32、第二平坦层(pln2)52、像素电极层60和公共电极层80。缓冲层21位于衬底基板10的一侧；栅绝缘层22位于缓冲层21背离衬底基板10的一侧，栅绝缘层22可为包括多个栅绝缘层22的复合层；层间绝缘层23位于栅绝缘层22背离缓冲层21的一侧；第一源漏金属层31位于层间绝缘层23背离衬底基板10的一侧，第一源漏金属层31形成有靠近显示区11的goa走线，以及靠近外围的vss走线部分；钝化层40设于层间绝缘层23背离衬底基板10的一侧，且覆盖第一源漏金属层31形成的goa走线，部分覆盖第一源漏金属层31形成的vss走线部分；第一平坦层51位于钝化层40背离衬底基板10的侧翼，第一平坦层51覆盖位于goa走线上的钝化层40；第二源漏金属层32位于第一平坦层51背离衬底基板10的一侧，且覆盖部分第一源漏金属层31；第二平坦层52设于第二源漏金属层32背离衬底基板10的一侧，且位于goa走线走线对应的第二源漏金属层32的区域上；像素电极层60位于第二平坦层52背离衬底基板10的一侧，且覆盖部分第二源漏金属层32；公共电极层80位于像素电极层60背离衬底基板10的一侧。
75.其中，如图2所示，像素电极层60与公共电极层80搭接的部分为像素界定的挖槽区域71，像素电极层60与公共电极层80通过挖槽区域71搭接在一起。进而，可通过位于非显示区上的第一源漏金属层31、第二源漏金属层32、像素电极层60、公共电极层80连接导通形成预设宽度的vss走线。
76.其中，像素电极层60可为阳极层(anode)，公共电极层80可为公共阴极层(cathode)。通过第一平坦层51、第二平坦层52与像素界定层可在钝化层40上形成靠近外围的dam结构。
77.在步骤s200中，将显示面板至少一个侧边的低电平信号线的宽度进行减窄，形成目标宽度的低电平信号线。
78.具体地，显示面板通常包括有相对的上边沿与下边沿，以及位于上边沿与下边沿之间的两个侧边沿。可将显示面板至少一个侧边的低电平信号线的宽度进行减窄，形成目标宽度的低电平信号线。
79.在本公开的一种实施例中，对靠近侧边沿的低电平信号线的宽度进行减窄，形成靠近侧边沿的目标宽度的低电平信号线，从而验证其侧边框减窄的可行性。
80.在本公开的一种实施例中，如图2所示，对相对的两个所述侧边沿对应的低电平信号线的宽度均进行减窄，在相对的两侧边沿均形成目标宽度的低电平信号线，从而验证显示面板两个相对的侧边框减窄的可行性。
81.具体地，将显示面板至少一个侧边的低电平信号线的宽度进行减窄包括：沿低电平信号线的延伸方向，通过隔离槽94在低电平信号线90上隔离出减窄宽度的主体部91，以形成目标宽度的低电平信号线。通过设置隔离槽94，能够将低电平信号线分股，形成两个走线部分，被隔离槽94分割出去的隔离部93相当于形成对低电平信号线的减窄。
82.其中，减窄宽度小于目标宽度，隔离部93位于隔离槽94靠近显示区11的一侧。也就是说，将低电平信号线90靠近显示区11的一侧，通过隔离槽94隔离出一部分，从而实现低电平信号线90的减窄。当然也可从低电平信号线原理显示区11的一侧进行隔断减窄，本公开对此不做限制。
83.在本公开的一种实施例中，低电平信号线包括位于衬底基板10上的像素电极层与公共电极层；沿低电平信号线的延伸方向，通过隔离槽在像素电极层隔离出隔离部；将显示区11的像素界定层延伸至在像素电极的隔离部与公共电极层之间，以将像素电极的分隔部与公共电极层绝缘隔离。通过隔离槽在像素电极层隔离出隔离部后，再通过将显示区的像素界定层延伸至在像素电极的隔离部与公共电极层之间，实现了将像素电极的分隔部与公共电极层绝缘隔离，进而实现了对低电平信号线减窄的目的。
84.在本公开的一种实施例中，如图5所示，第一源漏金属层31、第二源漏金属层32、像素电极层60与公共电极层80连接形成预设宽度的低电平信号线90；在非显示区上形成隔离槽94，通过隔离槽94将第一源漏金属层31、第二源漏金属层32、像素电极层60与公共电极层80隔离为断开的两个部分，在低电平信号线隔离出减窄宽度的主体部91，以形成目标宽度的低电平信号线；如图3和图5所示，使显示区11的像素界定层(pdl)70的延伸至在隔离部93中的像素电极层60与公共电极层80之间，使像素界定层边界72延伸至隔离槽94另一侧的像素电极层60与公共电极层80之间，以将像素电极层60与公共电极层80绝缘隔离。通过隔离槽94将第一源漏金属层31、第二源漏金属层32、像素电极层60隔离分分割后，再通过将显示区11的像素界定层70延伸至在像素电极的隔离部93与公共电极层80之间，实现了将像素电极的分隔部与公共电极层80绝缘隔离，进而实现了对低电平信号线减窄的目的。
85.在本公开的一种实施例中，将显示面板至少一个侧边的低电平信号线的宽度进行减窄包括：沿低电平信号线的延伸方向，通过隔离槽94在低电平信号线隔离出减窄宽度的主体部91、隔离部93与连接部92，连接部92连接主体部91与隔离部，即隔离部93与隔离槽94另一侧的主体部91连接；在需要进行功能测试时，将隔离部93与主体部91之间的连接部92断开，以使主体部91形成目标宽度的低电平信号线。通过使隔离部93与隔离槽94另一侧的主体部91连接，在不进行测试时，可保证显示面板的vss走线还保持原有的宽度，产品可以正常产出。
86.其中，如图2和图3所示，将左右边框低电平信号线90在左右边框位置进行挖断处理，隔离部93与主体部91只在四角进行连接。如图4和图6所示，在未将四角连接部92切断时，隔离槽94两侧的第一源漏金属层31、第二源漏金属层32与像素电极层60还连通在一起；如图5和图7所示，产品在将要产出时，将四角连接位置的低电平信号线采用激光进行切断，切断后四角位置隔离槽94两侧的第一源漏金属层31、第二源漏金属层32与像素电极层60断开，实现了vss走线减窄，进而进行后续规格检测和判定。通过隔离部93与主体部91在四角进行连接，可保证显示面板的vss走线在不需要进行测试还保持原有的宽度，产品可以正常产出。
87.在步骤s300中，根据目标宽度的低电平信号线，对显示面板进行功能测试。
88.具体地，在将低电平信号线宽度减窄，形成目标宽度的低电平信号线后，根据目标宽度的低电平信号线后对显示面板的各种功能按照常规测试进行验证，以判断低电平信号线宽度减窄是否满足原有宽度时的性能。需要说明的是，对显示面板进行的功能测试是常
规功能测试，因此本公开在此不再赘述。
89.在步骤s400中，若功能测试通过，则确定低电平信号线的宽度可减至目标宽度。
90.具体地，若在低电平信号线宽度减窄后，对显示面板进行的功能测试通过，则说明减窄后的低电平信号的宽度满足显示面板功能的需求；因此，在后续显示面板的制造中可将vss走线直接减窄至目标宽度，实现显示面板窄边框的目的。
91.示例的，减窄前的边框例如可为5mm，vss走线的宽度可为3mm，通过使vss走线减窄至2mm，测试减窄后2mm的使vss走线是否能满足显示面板功能的需求；若通过对显示面板进行的功能测试通过，则说明vss走线可减窄至2mm，即边框可从5mm减至4mm，从而实现窄边框需求。
92.在步骤s500中，若根据目标宽度的低电平信号线，功能测试不通过；则确定低电平信号线的宽度不可减至目标宽度。
93.具体地，若在低电平信号线宽度减窄后，对显示面板进行的功能测试通过，则说明减窄后的低电平信号的宽度无法满足显示面板功能的需求，因此，在后续显示面板的制造中不能将vss走线直接减窄至该目标宽度。可重新设定一减窄后的目标宽度采用上述方法进行测试。
94.需要说明的是，附图中所示的流程图仅是示例性说明，不是必须包括所有的内容和操作/步骤，也不是必须按所描述的顺序执行。例如，有的操作/步骤还可以分解，而有的操作/步骤可以合并或部分合并，因此实际执行的顺序有可能根据实际情况改变。
95.本公开的实施例还提供了一种显示面板，如图2和图3所示，该显示面板包括：衬底基板10和低电平信号线90；衬底基板10包括显示区11和围绕显示区的非显示区；低电平信号线90设于衬底基板10的非显示区11上；低电平信号线90上形成有隔离槽94，隔离槽94沿低电平信号线的延伸方向，在低电平信号线90上分割出主体部91、隔离部93与连接部92，连接部92连接主体部91与隔离部93；主体部91形成目标宽度的低电平信号线。
96.在本公开的一种实施例中，如图2和图3所示，将左右边框低电平信号线90在左右边框位置进行挖断处理，隔离部93与主体部91通过连接部93只在四角进行连接。如图4和图6所示，在未将四角连接部92切断时，隔离槽94两侧的第一源漏金属层31、第二源漏金属层32与像素电极层60还连通在一起，即通过隔离部93与主体部91在四角进行连接，可保证显示面板的vss走线在不需要进行测试还保持原有的宽度，产品可以正常产出。当然，位于同一侧的隔离部93与主体部91，可通过一连接部93仅在隔离部93与主体部91同一端部连接，或在中间部位连接；此外，位于同一侧的隔离部93与主体部91也可通过三个或更多个连接部连接在一起，本公开对此不做限制。
97.在本公开的一种实施例中，如图5和图7所示，将四角连接位置的隔离部93采用激光进行切断，切断后四角位置隔离槽94两侧的第一源漏金属层31、第二源漏金属层32与像素电极层60断开，实现了vss走线减窄，进而进行后续规格检测和判定。
98.本公开提供的显示面板，在不需要进行功能测试时，通过使隔离部与隔离槽另一侧的主体部连接，可保证显示面板的vss走线还保持原有的宽度，产品可以正常产出；在需要进行功能测试时，再将隔离部与主体部连接的连接部断开，以使主体部形成目标宽度的低电平信号线，实现显示面板窄边框的验证，不需要进行重新进行mask设计和mask购买验证，降低验证成本，提高验证效率。
99.本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的发明后，将容易想到本发明的其它实施方案。本技术旨在涵盖本发明的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本发明的一般性原理并包括本发明未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本发明的真正范围和精神由下面的权利要求指出。
100.应当理解的是，本发明并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构，并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本发明的范围仅由所附的权利要求来限制。