晶舟装置的制作方法

1.本发明涉及一种晶舟装置。


背景技术：

2.太阳能电池制造装置是通过将多个基板投入到腔室内部并通过如等离子增强化学气相沉积(pecvd)等等离子体工程在基板上形成p-n结。
3.晶舟装置可以在腔室内部对太阳能电池基板进行支撑。
4.为了在腔室内部形成感应耦合等离子体(icp)方式或电容耦合等离子体(ccp)方式的等离子体，或为了达成将基板静电卡紧(chucking)到晶舟装置的目的，可以通过向晶舟装置加载电力而对基板进行支撑。
5.此时，如果在晶舟装置中发生电力短路现象，则可能会导致等离子体形成不良现象或基板薄膜形成不良现象。


技术实现要素：

6.技术课题
7.本发明的目的在于提供一种作为太阳能电池制造装置的晶舟装置，可以在形成腔室内部的等离子体时对因为晶舟装置的电力短路而导致的基板薄膜不良现象进行抑制的晶舟装置。
8.技术方案
9.本发明可以提供一种晶舟装置，包括：板部，包括彼此相邻的第1板以及第2板，用于在上述各个板之间的空隙中拆装基板；扣紧部件，用于对上述板部进行贯通结合；以及，绝缘部，结合到上述扣紧部件，用于维持上述各个板之间的间隔；在上述绝缘部中，为了避免在上述基板上沉积薄膜时在板之间形成电流而对薄膜进行阻断的间隙。
10.发明效果
11.如上所述，本发明可以在腔室内部配置批量式晶舟装置并在晶舟装置的板之间安置各个基板，接下来向腔室的内部投入气体，从而在板之间维持等离子体的状态下在安置在板的基板上沉积形成所需要的膜质，而此时在沉积形成导电膜时整个晶舟也都会被沉积，因此配备用于维持板之间的绝缘状态的部件即绝缘垫片，但是因为在绝缘垫片的外部同样会沉积形成导电膜，因此可能会因为通电而导致无法正常进行等离子体放电的问题。
12.此外，考虑到在板之间生成等离子体时等离子体被集中到距离较近的部分的现象，当等离子体被集中到相当于板的连接部位的绝缘垫片而不是集中到基板上时，可能会在基板上沉积薄膜时导致厚度均匀度下降以及沉积膜的品质下降的问题。
13.而且，如果为了形成等离子体而加载到第1板以及第2板的电流没有被绝缘垫片阻断，而是因为绝缘垫片发生短路而在第1板以及第2板上形成电流通路，则可能会导致等离子体品质方面的问题并形成电弧(arcing)。
14.本发明可以对在晶舟装置内位于板连接部位的绝缘垫片上沉积形成薄膜的现象
进行抑制。可以对因为在绝缘垫片上沉积形成的不需要的薄膜而导致的相邻的两个板被电气短路(short)的现象进行抑制。可以避免因为薄膜而在绝缘垫片上发生短路，而且还可以防止因为绝缘部的短路而导致的电流从极性彼此不同的一侧板向另一侧板流动的现象。可以防止因为绝缘垫片的短路而在绝缘垫片上发生等离子体不良或形成电弧的现象。
15.借此，可以对等离子体集中现象以及形成电弧(arcing)的现象进行抑制。可以提升在基板上沉积形成的薄膜的均匀度并改善其品质，而且还可以通过对电弧进行抑制而提升装置的可靠性。
16.本发明可以通过在晶舟装置的两侧面配备刚性补强组装体而使得晶舟装置维持更加坚固的状态。
17.适用本发明的刚性补强组装体可以由具有绝缘性的锁结部件、插入到锁结部件的外周面且用于对不同极性的板进行连接的第1支撑部件以及插入到第1支撑部件的外周面且具有绝缘性的第2支撑部件构成，而且可以通过维持坚固的支撑状态并通过第2支撑部件实现不同极性的板之间的通电，从而可以在腔室内部执行基板的沉积工程时形成正常的等离子体放电并借此以最佳的状态执行沉积工程。
18.适用本发明的刚性补强组装体以圆筒形构成，从而可以在腔室内部执行基板的处理工程时不对工程处理气体的流动造成阻碍而实现流畅的流动状态，并借此确保工程的均匀度并防止电弧现象、异常放电等，从而实现良好的基板处理。
19.此外，本发明可以配备适当数量的刚性补强组装体并借助于如上所述的安装结构将工程处理气体流动时的干涉最小化，从而在实现良好的处理工程的同时维持晶舟装置的结构性刚性。
20.本发明通过采用在形成于支撑体两侧的第1支撑部件上结合绝缘部件并在绝缘部件的下部结合第2支撑部件的结构，绝缘部件可以通过第1插入槽以及第1结合片锁定到第1支撑部件的嵌入槽以及结合凸起中，从而维持可靠的结合状态。
21.此外，在适用本发明的绝缘结构体中被腔室内部的下部面支撑的第2支撑部件与绝缘部件结合，而绝缘部件的第2插入槽以及第3结合片锁定到第2支撑部件的嵌入槽以及结合凸起中，从而维持可靠的结合状态。
22.进而，本发明采用结合部件被插入结合到第1支撑部件、绝缘部件以及第2支撑部件的结构，因此即使是在绝缘结构体的组装状态可能发生变形的情况下，也会因为被所插入的结合部件支撑而防止其发生变形。
23.此外，因为适用本发明的结合部件采用与第2支撑部件进行螺纹结合的结构，因此第2支撑部件不会轻易地从绝缘部件发生脱离而是维持坚固结合的状态，从而稳定地与腔室内部的下部面接触并得到支撑。
24.因为在构成适用本发明的绝缘部件的第2结合片的外周面形成一定深度的间隙，因此可以形成较为复杂的结构，并借此在腔室内部执行基板的沉积工程时避免因为所形成的沉积膜而轻易地发生通电现象。
25.此外，因为适用本发明的绝缘结构体是以可拆解组装的方式进行结合，因此在必要时可以轻易地对锁结部件进行分解更换。
附图说明
26.图1是对安装有适用本发明的晶舟装置的太阳能电池制造装置进行图示的截面图。
27.图2是对适用本发明的晶舟装置的一侧面进行图示的斜视图。
28.图3是对配备于适用本发明的晶舟装置中的电极板部的配置结构进行图示的部分放大斜视图。
29.图4是图2中的a部分的放大斜视图。
30.图5是对适用本发明的分离的电极板的配置结构进行图示的概要图。
31.图6是适用本发明的另一侧面的晶舟装置的斜视图。
32.图7是适用本发明的晶舟装置的正面图。
33.图8是适用本发明的刚性补强组装体的结合截面图。
34.图9是对工程处理气体通过适用本发明的刚性补强组装体之间的状态进行图示的概要性平面图。
35.图10是对适用本发明之另一实施例的晶舟装置进行图示的斜视图。
36.图11是对配备于适用本发明的晶舟装置中的电极板的配置结构进行图示的部分放大斜视图。
37.图12是图10中的b部分的放大截面图。
38.图13是图10中的b部分的放大分离斜视图。
39.图14是图13的结合截面图。
40.图15是配备适用本发明之又一实施例的绝缘部的结构，是对彼此相邻的板进行部分图示的截面图。
41.图16是对图15中的绝缘部的一实施例进行图示的放大截面图。
42.图17是对图15中的绝缘部的另一实施例进行图示的放大截面图。
43.图18是对图15中的绝缘部的又一实施例进行图示的放大截面图。
44.图19是对图15中的绝缘部的又一实施例进行图示的放大截面图。
45.图20是对图15中的绝缘部的又一实施例进行图示的放大截面图。
46.图21是对图15中的绝缘部的又一实施例进行图示的放大截面图。
47.图22是对图15中的绝缘部的又一实施例进行图示的放大截面图。
48.图23是对图15中的绝缘部的又一实施例进行图示的放大截面图。
49.符号说明
50.100：基板，205：加热器，210：腔室，211：腔室入口，214：喷嘴部，220：晶舟装置，221：电极板，221a：第1板，221b：第2板，221c：第3板，223：支撑销，230：第4板，231：第5板，240：第1支撑体，250：第2支撑体，300、302：扣紧部件，310：绝缘垫片，400：刚性补强组装体，410：锁结部件，420：第1支撑部件，430：第2支撑部件，500、510：结合部件，600：支撑体，601：第1支撑片，601a、602a：嵌入槽，601b、602b：结合凸起，602：第2支撑片，602c：倾斜面，610：支撑体，700：绝缘结构体，710：绝缘部件，711：第1结合片，712：第2结合片，713：第3结合片，720：结合部件，1000、1100、1200、1300、1400：绝缘部，1010、1110、1210、1310：第1绝缘部，1012：第1断坎部，1013：第1末端部，1020、1120、1220、1320：第2绝缘部，1022：第2断坎部，1023：第2末端部，1122：凹槽部，1124、1332、1342：第1面，1126、1334、1344：第2面，1222、
1322：连接部，1410：第1绝缘部，1411：凸出部，1420：第2绝缘部，1421：第1内侧面，1422：第2内侧面，1330、1430：第3绝缘部，1340：第4绝缘部，1431：第1面，1432：第2面，1433：第3面，d1：第1插入槽，d2：第2插入槽，f：导电膜，g、g1、g1：间隙，l、l1：间隔，s：间隙，s1：第1间隙，s2：第2间隙，s3：第3间隙。
具体实施方式
51.参阅图1，配备用于将反应气体或惰性气体投入到腔室210内部的喷嘴部214。通过喷嘴部214，可以根据不同的工程将多种不同类型的反应气体或惰性气体投入到维持一定的反应温度或压力的腔室210内部。根据反应气体或惰性气体的类型，可以在腔室210内部在基板100上沉积形成掺杂层、钝化层、覆盖层以及反射防止层等。
52.因为一次性加工多个基板100有利于提升生产性，因此可以利用晶舟装置220一次性地投入多个基板100。可以通过腔室入口211将装载有基板100的晶舟220投入到腔室210中，而在腔室210的内部或外部可以安装用于向腔室210供应热量的加热器205。
53.在腔室210内部不仅可以执行等离子体工程，还可以执行热处理工程。例如，可以通过喷嘴部214向为了执行沉积后退火(pda，post-deposition annealing)而维持一定温度的腔室210的内部喷射氧化剂、反应气体等。可以在腔室210内部的氧化剂环境下，在将腔室210内部的温度维持200～500℃的同时执行热处理工程。
54.图2是对适用本发明的晶舟装置200进行图示的斜视图。参阅图1以及图2，电极板221是彼此相距一定间隔配备的多个板，例如可以包括第1板221a、第2板221b以及第3板221c。
55.在各个板之间的空隙中可以对基板100进行拆装。基板100可以在板与板之间安装多个，可以沿着一个板的长度方向安装多个。
56.电极板221可以以装载有多个基板100的状态向腔室100的内部或外部移动。在将晶舟装置220通过腔室入口211引出到外部的状态下，可以对完成加工的基板100进行卸载或者将新的基板100装载到腔室内部。
57.晶舟装置220可以以装载有多个基板100的状态投入到腔室100内部。当在腔室210内部形成等离子体时，被装载到晶舟装置220中的多个基板100将一次性地被加工。
58.将第1板221a以及第2板221b层叠的电极板221的水平方向定义为第1方向，并将第1板221a或第2板221b延长的电极板221的长度方向定义为第2方向。基板100沿着各个板的长度方向即第2方向装载多个，并沿着与板的数量对应的第2方向装载多个。多个基板100将一次性地投入到腔室210中，从而一次性地进行加工。
59.在各个板中配备对各个板进行部分穿孔的板凹穴，通过板凹穴裸露的基板100将与等离子体或反应气体相向并借此完成加工。
60.为了实现太阳能电池制造装置，腔室210可以是用于执行热处理的加热炉(furnace)。在腔室210为按照如图1所示的方式沿着水平方向较长延长的卧式炉(horizontal furnace)的情况下，为了向基板100加载等离子体形成用电源，可以将导电性物体即石墨材质的销作为用于供应等离子体电源以及对基板100进行支撑的支架使用。
61.此外，在加载到基板100上的等离子体的电源是以非对称方式供应的情况下，可能会发生等离子体电力集中在特定区域的现象，并因此导致薄膜的局部厚度增加的不良问
题，进而导致在量产过程中难以均匀地对薄膜厚度进行控制的问题。
62.本发明可以通过在腔室210内部形成均匀的等离子体密度而改善薄膜均匀度，而且通过采用可以在不追加部件的情况下在晶舟装置220内均匀地维持板的间隔的结构而达成提升品质并节省成本的目的。
63.在通过将多个基板100一次性地投入到腔室210中或从中取出的批量(batch)方式对基板进行移送，或起到可以在基板100上诱导等离子体的电极作用的晶舟装置220中，与基板100的外廓接触的销结构体可以与板相比更加凸出。
64.作为一实施例，在将板自身作为电极使用或者在晶舟装置220上安装与销相比更低的电极的情况下，用于对基板100进行支撑的销结构体可能与板或电极相比更加凸出。因此，当在晶舟装置220上相当于基板100的支撑结构体的销与板或电极相比更加凸出时，销之间的距离与电极之间的距离相比可能相对更加接近。
65.在采取如上所述的结构时，考虑到在生成等离子体时等离子体被集中到距离较近的部分的现象，在基板100上沉积薄膜时可能会导致厚度均匀度下降以及沉积膜的品质下降的问题。此外，因为用于形成等离子体的电流会集中在相当于基板100的支撑结构体的销中，因此会导致形成电弧(arcing)的问题。
66.因此，本发明通过在晶舟装置220内曲折配置基板100的支撑结构体即销，可以使得支撑结构体之间的距离大于电极间的距离，从而对等离子体的集中现象以及形成电弧(aacing)的问题进行抑制。
67.晶舟装置220配备起到电极作用的板，而且在板上可以以曲折的结构配置用于对基板100进行固定的支撑结构体即销。销可以起到将基板100固定到板的电极面或将加载到板上的电源传递到基板100上的功能。
68.图3是对配备于适用本发明的晶舟装置中的电极板部的配置结构进行图示的部分放大斜视图，图4是图3中的a部分的放大斜视图。
69.参阅图3以及图4，在具有绝缘性的扣紧部件300的外周面上，可以沿着长度方向相距一定间隔配备多个电极板221。
70.具有绝缘性的扣紧部件300可以利用如陶瓷材料构成。
71.接下来，将对电极板221的安装结构进行更为详细的说明。扣紧部件300可以包括在外周面上以相同的极性相距一定间隔结合多个的板即第1板221a、第2板221b以及第3板221c。
72.此外，相当于第1板221a、第2板221b以及第3板221c之间的扣紧部件300的外周面上分别结合绝缘垫片310，从而可以在实现绝缘的同时维持板之间的间隔。
73.在第1板221a、第2板221b以及第3板221c的下部一侧之间，可以配备通过相距一定间隔而形成间隙g的同时具有不同极性的第4板230以及第5板231。
74.换言之，在第1板221a、第2板221b以及第3板221c均具有(+)极性的情况下，第4板230以及第5板231可以具有(-)极性。
75.本发明在配置构成电极板221的板时，将极性不同的板交替安装，此时可以将具有不同极性中的某一极性(例如(+)极性)的板结合到扣紧部件300中，而具有另一极性(例如(-)极性)的板可以不与扣紧部件300直接结合，而是以形成间隙g的方式分离支撑。
76.借此，在腔室的内部对基板进行沉积的过程即沉积导电膜f的过程中，相同的电极
将相互连接而在不同的极性之间将形成间隙g，从而实现正常的等离子体放电。
77.本发明为了可以防止因为在电极板之间形成通电而在对基板100进行薄膜沉积的过程中无法正常实现等离子体放电的现象，将具有不同极性的板分离配置，而不是配备单独的绝缘结构体，从而可以防止在基板100的沉积工程时形成通电的现象。
78.当在基板210内部执行基板100的沉积工程时，即使是在导电性沉积膜被沉积到晶舟装置内部的情况下，因为分别具有(+)以及(-)极性的板是以在相互之间形成间隙g的方式分离连接，因此不会形成电气连接，从而可以避免在板之间发生绝缘破坏并借此实现正常的等离子体放电。
79.参阅图3以及图6，本发明可以在晶舟装置220的两侧配备用于对电极板221进行支撑的支撑体。
80.支撑体可以包括第1支撑体240以及以与第1支撑体240相距一定间隔的方式配置在下部的第2支撑体250。
81.第1支撑体240以及第2支撑体可以采用相互分开而进行组装的结构。
82.第1支撑体240以相互分开的方式配备多个，而第1板221a、第2板221b以及第3板221可以被嵌入到所分开的第1支撑体240之间并通过如螺栓等一个以上的结合部件500进行固定。
83.第2支撑体250与第1支撑体240相同，同样以相互分开的方式配备多个，而与扣紧部件300以形成间隙g的方式分开的第4板230以及第5板231，可以通过如螺栓等结合部件510结合固定。
84.在第1板221a、第2板221b、第3板221c、第4板230以及第5板231中，可以分别凸出形成用于对基板100进行支撑以及安置的多个支撑销223。
85.此外，在第1支撑体240以及第2支撑体250上可以以相距一定间隔的方式配备用于对刚性进行补强的多个刚性补强组装体400。
86.参阅图8，刚性补强组装体400可以由与第1支撑体240以及第2支撑体250结合的锁结部件410、与锁结部件410的外周面结合并被支撑到第1支撑体240与第2支撑体250之间的间隙d上的第1支撑部件420、以及被插入到第1支撑部件420的外周面上的第2支撑部件430构成。
87.参阅图3或图6，刚性补强组装体400可以以圆筒形形成。在将晶舟装置220插入到腔室210内部并执行基板100的沉积工程时，工程处理气体可以按照如箭头所示的方向沿着晶舟装置220的长度方向进行流动。
88.即，构成刚性补强组装体400的第1支撑部件420以及第2支撑部件430可以以圆筒形形成。
89.借此，在工程处理气体通过刚性补强组装体400的过程中，不会对流体(工程处理气体)的流动造成阻碍。因为在刚性补强组装体400是以有棱角的形态构成的情况下，可能会由于流体流动时的干涉变多而导致流动状态变差的问题，并因此对利用工程处理气体的处理工程造成不良影响，而在本发明中通过采用圆筒形构成，可以实现工程处理气体的良好的流动状态。
90.锁结部件410贯通第1支撑体240，并在被插入到第2支撑体250之后被螺纹结合固定。
91.锁结部件410和第1支撑部件420以及第2支撑部件430可以由绝缘材料构成，例如可以由陶瓷材料构成。
92.第1支撑部件420可以是如套管的形态，可以对具有彼此不同的电极的支撑体进行连接，并起到维持间隔的垫片作用。
93.换言之，第1支撑体240以及第2支撑体可以具有彼此不同的极性。第1支撑体240与第1板221、第2板221b以及第3板221c结合并对其进行支撑，因此可以具有(+)极性，而第2支撑体250与第4板230以及第5板240结合并对其进行支撑，因此可以具有(-)极性。
94.借此，第1支撑部件420可以对具有彼此不同的极性的第1支撑体240以及第2支撑体250进行连接。
95.因为第1支撑部件420是在第1支撑体240以及第2支撑体250的间隔d之间支撑多个，因此可以进一步强化刚性并借此实现坚固的晶舟装置220。
96.此外，在彼此不同的电极之间，例如因为第2板221b以及第3板221c具有(+)极性并结合到第1支撑体240，而第4板230以及第5板231具有(-)极性并结合到第2支撑体250，因此第1支撑部件420可以对第1支撑体240以及第2支撑250的间隔d之间进行连接。
97.第2支撑部件430可以对第1支撑部件420进行围绕并借此实现绝缘。
98.第2支撑部件430的长度可以以小于第1支撑部件420的长度形成，借此，可以以形成有间隙g的状态配置在第1支撑体240以及第2支撑体250之间。
99.此外，第2支撑部件430可以被固定安装到第1支撑部件420的外周面上。
100.在第2支撑部件430没有被固定到第1支撑部件420的情况下，可能会在晶舟装置210的搬运或工程处理过程中沿着第第2支撑部件420的长度方向进行移动，并因此导致第1支撑部件420与第2支撑部件430之间的间隙g1消失并相互接触的问题。在如上所述的情况下，可能会在沉积工程中导致通电的可能性，因此通过将第2支撑部件430以形成有间隙g1的方式固定到第1支撑部件420的外周面上，可以防止因为通过沉积工程形成的沉积膜而导致的通电现象。
101.参阅图8，第2支撑部件430的下端部采用被在插入到其内部的第1支撑部件420的下端部形成的阻挡坎阻挡结合的结构，第2支撑部件430不会沿着第1支撑部件420的长度方向上升而维持组装状态。
102.因此，即使是在通过第1支撑部件420对彼此不同极性的板进行连接的情况下，因为被具有绝缘性的第2支撑部件430围绕而可以起到绝缘功能，而且因为是以形成有间隙g1的状态结合，因此可以避免彼此不同极性的板发生通电，从而可以在腔室210内部正常执行基板100的薄膜沉积工程时实现正常的等离子体放电。
103.此外，如图6所示，本发明中的刚性补强组装体400的安装数量可以小于在图3中图示的刚性补强组装体400的数量。
104.例如，在图3中所图示的刚性补强组装体400的安装数量为10个的情况下，可以提升晶舟装置220的结构刚性。
105.但是，当刚性补强组装体的安装数量增加时，可能会成为对投入到腔室210内部的工程处理气体的流动造成阻碍的因素，因此可能会对基板处理工程造成不良影响。
106.因此，本发明为了可以在结构刚性以及工程处理气体的流动方面发挥出更加优秀的效果，如图6所示，可以安装适当数量的刚性补强组装体400。
107.参阅图6以及图9，可以分别在第1支撑体240以及第2支撑体250的两侧边缘进行安装，并相距一定的间隔在其内侧安装2个，即安装共计4个刚性补强组装体400。
108.借此，可以增加4个刚性补强组装体400之间的间隔，从而将在工程处理气体沿着箭头所示的方向流动时的干涉最小化，与此同时可以维持晶舟装置220的结构刚性。
109.图10是对适用本发明之另一实施例的晶舟装置220进行图示的斜视图，图11是被插入到腔室210内部的晶舟装置220的正面图，参阅图10以及图11，晶舟装置200可以包括支撑体600、以与支撑体600相距一定间隔的方式配备多个的电极板221、贯通电极板221并对其进行支撑的具有绝缘性的扣紧部件300。
110.电极板221例如可以由第1板221a、第2板221b以及第3板221c构成。
111.第1板221a、第2板221b以及第3板221c可以通过扣紧部件300结合并得到支撑，此时在第1板221a、第2板221b以及第3板221c之间可以分别嵌入绝缘垫片。
112.参阅图10，在支撑体600的上部还可以配备另一个支撑体610。各个支撑体600、610可以对具有彼此不同的极性的板进行支撑。因此，各个支撑体600、610可以具有彼此不同的极性。
113.具有彼此不同的极性的多个板可以由与扣紧部件300结合的板以及以与扣紧部件300之间形成间隙的方式配备的板构成。
114.与扣紧部件300结合的板可以具有彼此相同的极性，同理，以与扣紧部件300之间形成间隙的方式配备的板也可以具有彼此相同的极性。
115.晶舟装置220的支撑体600可以与腔室210的内部下部面接触并得到支撑。
116.借此，在对基板100执行沉积工程时，在腔室210内部与支撑体600以及腔室210的内部下部面接触的部分可能无法维持绝缘而形成通电。
117.因此，本发明可以通过在晶舟装置220的支撑体600侧面配备与腔室210的内部下部面接触的同时提供支撑的绝缘结构体700，在对基板100执行薄膜沉积工程时借助于沉积膜在电极板之间实现通电，从而确保良好的等离子体放电。
118.图12是图10中的a部分的侧面图，图13是图10中的a部分的放大分离斜视图，而图14是图13的结合截面图。
119.参阅图12至图14，在适用本发明的晶舟装置220的支撑体600的两侧面可以组装绝缘结构体700。
120.绝缘结构体700可以由在晶舟装置220的两侧面形成的支撑体600的两侧形成的第1支撑片601、与第1支撑片601结合的绝缘部件710、与绝缘部件710的下部结合的第2支撑片602构成。
121.此外，第1支撑片601、绝缘部件710以及第2支撑片602可以通过如螺栓或螺丝等结合部件720以可分离的方式结合。
122.在结合部件720的端部一侧形成有螺纹部，可供第1结合片711以及第2结合片712贯通并与第3结合片713螺纹结合固定。但是，并不限定于如上所述的结合结构，也可以采用整体螺纹结合的方式。
123.第1支撑片601以及第2支撑片602可以利用石墨(graphite)材质制成，而绝缘部件710可以利用如具有绝缘性的陶瓷材质制成。
124.绝缘部件710可以由第1结合片711、在第1结合片711的下部以配备有第1插入槽d1
的方式形成的第2结合片712、在第2结合片712的下部以配备有第2插入槽d2的方式形成的第3结合片713构成。
125.第2结合片712可以沿着周围表面形成特定深度的间隙g1。
126.在执行基板的沉积膜工程时可能会通过绝缘部件710的表面发生通电现象，而通过形成间隙g1，可以借助于间隙g1延长表面长度并延缓在沉积工程时发生通电的时间，从而可以达成避免轻易地形成通电的效果。
127.在第1支撑片601中可以形成可供第1结合片711嵌入的嵌入槽601a，而在第2支撑片602中可以形成可供第3结合片713嵌入的嵌入槽601a。
128.此外，在第1支撑片601以及第2支撑片602中可以分别凸出形成结合凸起601b、602b，从而通过分别嵌入到插入槽即第1插入槽d1以及第2插入槽d2而实现阻挡。
129.适用本发明的绝缘结构体700为可分解组装的结构，但是在组装之后不应该轻易地发生分离。
130.因此，适用本发明的绝缘部件710采用在第2结合片712的上部两侧形成插入槽d1并通过上述插入槽d1配备第1结合片711的结构，因为第1结合片711可以被嵌入到在第1支撑片601的两侧面形成的嵌入槽601a中而实现阻挡，因此不会轻易地因为自重而向下部分离，而是可以维持结合的状态。
131.此时，绝缘部件710的第1插入槽d1与第1支撑片601的结合凸起601b结合而实现阻挡，因此绝缘部件710可以维持更加可靠的结合状态。
132.与绝缘部件710的下部结合的第2支撑片602可以起到通过安置在腔室210的内部下部面而稳定地进行支撑的支撑腿的作用，通过在下端面以倾斜面602c形成而可靠地对在腔室210的内部以曲面形成的下部面进行支撑。
133.第2支撑片602可以形成可维持与绝缘部件710的可靠的结合状态的结合结构。
134.即，通过绝缘部件710的第2插入槽d2形成的第3结合片713可以被嵌入到第2支撑片602的嵌入槽602a中而实现阻挡，与此同时，第2插入槽d2被嵌入到第2支撑片602的结合凸起602b，因此绝缘部件710与第2支撑片602可以维持可靠的结合状态。
135.进而，本发明可以更加可靠地维持位于绝缘部件710下部的第2支撑片602的结合状态，同时还可以防止通过绝缘部件710的结合而形成的组装状态发生变形，从而具有可以以维持坚固刚性的方式对结合部件720进行扣紧的结构。
136.参阅图13以及图14，因为结合部件720处于贯通第1支撑片601、绝缘部件710并与第2支撑片602螺纹结合而锁定的状态，因此可以维持第2支撑片602与绝缘部件710的结合状态，防止其轻易地发生分离。
137.进而，因为具有特定长度的结合部件720处于在绝缘结构体700的整个垂直方向长度上插入并支撑的状态，因此即使是在绝缘结构体700的组装状态可能发生变形的情况下，也可以防止如上所述的组装状态发生变形。
138.换言之，因为处于结合部件720插入到绝缘结构体700的内部并结合的状态，因此即使是在受到可能导致绝缘结构体700的组装状态发生变形的外力作用的情况下，也可以通过利用结合部件720进行支撑而维持未发生变形的组装状态。
139.此外，因为在构成适用本发明的绝缘部件710的第2结合片712的外周面形成一定深度的间隙g1，因此可以形成较为复杂的结构，并借此在腔室210内部执行基板的沉积工程
时避免因为所形成的沉积膜而轻易地发生通电现象。
140.因为适用本发明的绝缘结构体700是在晶舟装置220的支撑体600的两侧面向下部方向凸出形成，因此即使是在与腔室210的内部下部面接触并支撑的情况下，也不会在执行基板100的沉积工程时导致通电现象，从而实现正常的等离子体放电。
141.图15是配备适用本发明之又一实施例的绝缘部的结构，是对彼此相邻的板进行部分图示的截面图。
142.参阅图15，基板100的接触点被限制在第1销222、第2销以及第3销与基板100接触的3个位置上，从而实现稳定的3点支撑结构，而分别安装在彼此相邻的板上的第1销222值第3销以彼此不相向的方式进行配置，而且各个销可以沿着多个板的层叠方向即第1方向曲折配置。
143.在从晶舟装置220的上侧进行观察时，分别配置在彼此相邻的第1板221a以及第2板221b上的第1销222，沿着排列第1板221a以及第2板221b的第1方向配置在彼此不同的位置上为宜。
144.对于安装在第1板221a上的第1销222从晶舟装置220的一侧端部测定的晶舟端部距离即第1距离，与对于安装在与第1板221a相邻的第2板221b上的第1销222从晶舟装置220的一侧端部测定的晶舟端部距离即第2距离相比更长为宜。
145.安装在与第2板221b相邻的第3板221c上的第1销222的晶舟端部距离，可以与安装在不与第3板221c相邻配置的第1板221a上的第1销222的晶舟端部距离相同。
146.各个销可以配备从板凸出的凸出部250。
147.在各个销中可以配备与基板100倾斜接触或与基板100的侧面点接触的倾斜部251。倾斜部251相当于在凸出部250的侧面形成的倾斜面。
148.在板上可以配备可供被各个销按压的基板100的至少一部分与板发生接触的贴紧部252。为了可以仅使基板100的一部分通过贴紧部252贴紧到板中，可以配备对板的一部分进行切开的间隙部254。
149.在各个板中可以配备贴紧部252以及间隙部254，在间隙部254中基板100不会与板发生接触，而在贴紧部252中基板100可以与板贴紧。
150.可以通过在各个销上形成的吐出部250、在各个销上形成的倾斜部251以及在各个板上形成的贴紧部252中的至少一个向基板100加载电源。被加载到基板100上的电源可以形成等离子体或提供静电力。
151.用于对多个板进行支撑的扣紧部件302可以贯通结合。在扣紧部件302的各个板的间隔上可以结合绝缘部320。绝缘部320可以以圆筒形形成，从而通过插入到扣紧部件302的外周面而维持板之间的间隔。
152.作为绝缘部320的一实例，可以利用陶瓷套管构成。
153.在腔室210的内部可以配置晶舟装置220，而在晶舟装置220的板之间可以配置各个基板100。为了诱发等离子体的形成，可以向彼此相邻的第1板221a、第2板221b以及第3板221c加载不同极性的(+)以及(-)电力。可以向腔室210内部注入反应气体，从而通过在反应气体环境下形成等离子体而在基板100上沉积薄膜。此时，不仅在基板100上，在包括各个板的连接部位在内的晶舟装置220上也可能会沉积薄膜。
154.在向基板1100沉积薄膜时，可能会在绝缘部320的整个外周面上沉积形成薄膜
301。
155.因此，当为了形成等离子体而加载到第1板221a、第2板221b以及第3板221c上的电流没有被板的绝缘部320阻断而在绝缘部320上发生短路并因此在第1板221a以及第2板221b上形成电气通路时，则可能会导致等离子体品质方面的问题并形成电弧(arcing)。
156.图16是对适用本发明之一实施例的绝缘部结构进行图示的放大截面图。参阅图16，绝缘部320可以由插入到扣紧部件302的外周面的第1绝缘部321以及第2绝缘部322构成。
157.第1绝缘部321以及第2绝缘部322可以是分别与一侧板相向并接触的状态。在图4中，作为板对第1板221a、第2板221b以及第3板221c进行了图示，可以是第1绝缘部321的一侧面与各个第1板221a与第2板221b之间以及第2板221b与第3板221c之间相向接触的状态，以及第2绝缘部322的一侧面与另一侧版相向接触的状态。
158.此时，可以是扣紧部件302对第1至第3板221a、221b、221c和第1绝缘部321以及第2绝缘部322进行贯通并接触的结构。
159.第1板221a可以具有(+)极性，第2板221b可以具有(-)极性，而第3板221c可以具有(+)极性。
160.在第1绝缘部321上可以凸出形成凸起部321a，第2绝缘部322可以是形成有可供第1绝缘部321的凸起部321a插入的插入槽322a的结构。
161.在第1绝缘部321的第1面323与第2绝缘部322的末端部之间以及凸起部321a与插入槽322a之间可以形成间隙s，第1绝缘部321的第2面324可以与板的侧面相向、
162.借助于如上所述的结构，在第1绝缘部321与第2绝缘部322之间形成的间隙s可以形成
“┗”
字形的路径。
163.因此，在通过形成等离子体而在基板100上沉积薄膜时，不仅在基板100上，包括各个板的连接部位在内的晶舟装置220上也可能会沉积薄膜，而且在绝缘部320上也可能会沉积薄膜。
164.在适用本发明的绝缘部320中，薄膜可能很容易沉积在第1绝缘部321的外侧面以及第2绝缘部322的外侧面。但是，在第1绝缘部321与第2绝缘部322之间形成的间隙s上很难沉积薄膜。
165.即，因为可以通过间隙s防止薄膜沉积，因此不会因为绝缘部320而在板之间形成通电，进而可以通过在绝缘部320上形成的间隙s而阻断在板之间流动的电流，从而防止因为在板之间的通电而导致的短路现象。
166.图17是对适用本发明之另一实施例的绝缘部结构进行图示的放大截面图。参阅图17，适用本发明之第2实施例的绝缘部320可以由插入到扣紧部件302的外周面并与其相向的第1绝缘部326以及以可滑动移动的方式插入到第1绝缘部326的外周面的第2绝缘部327构成。
167.为了在第1绝缘部326的外周面与第2绝缘部327之间形成间隙s，第2绝缘部327可以是形成有与第1绝缘部326的外周面相距一定间隔并相向的内侧面327a、以与板相距一定间隔的方式形成的两侧的侧面部327b、以可滑动移动的方式与第1绝缘部326的外周面相向的凸出面327c的结果。
168.因为第2绝缘部327可以借助于两侧的侧面部327b在第1板221a以及第2板221b之
间以相距一定间隔(第1间隔)的方式形成，且第2绝缘部327的内侧面327a可以借助于凸出面327c以与第1绝缘部326相距一定间隔(第2间隔)的方式形成，因此在通过形成等离子体而进行沉积时不会轻易地形成薄膜。通过如上所述的2处的第1、第2间隔，可以形成间隙s。
169.借此，可以阻断板之间的通电，从而防止因为薄膜沉积到绝缘部320而导致的短路现象。
170.此外，因为第2绝缘部327可以沿着第1绝缘部326的外周面进行滑动移动，因此可以更加良好地对在间隙s上的薄膜沉积以及在第1绝缘部326的外周面上的薄膜沉积进行抑制。
171.因为可以借助于间隙s使其路径变得复杂并使得发生薄膜沉积的第2绝缘部327的相应区域的面具有延长的长度，因此难以沉积形成薄膜。
172.图18是对适用本发明之又一实施例的绝缘部结构进行图示的放大截面图。参阅图18，适用本发明之第3实施例的绝缘部320可以配备由以与扣紧部件302的外周面相向的方式插入的第1绝缘部328以及以形成间隙s的方式与第1绝缘部328结合的第2绝缘部329构成的2个部件。
173.在第1绝缘部328的外周面328a上可以形成第1凸出部328b，在第1凸出部328b上可以形成凹槽，而第2绝缘部329可以采用由以与板相距一定间隔的方式形成的第1面329a、从第1面329a以与第1绝缘部328的外周面328a相距一定间隔的方式向接近的方向形成的第2面329b、从第2面329b向第2绝缘部329的内侧形成的第3面329c、被插入到第1绝缘部328的第1凸出部328b的第2凸出部329d构成的结构。
174.因此，适用本发明之第3实施例的绝缘部320为第2绝缘部329的第2凸出面329d被插入到第1绝缘部328的第1凸出部328b内部，而且通过以与板相距一定间隔的方式形成的第2绝缘部329的第1面329a、从第1面329a在与第1绝缘部328形成间隙s的同时向接近的方向形成的第2面329b、从第2面329b向内侧形成的第3面329c形成的间隙s的路径复杂且间隙s的长度被延长的结构，因此在向基板沉积薄膜时，在绝缘部320的间隙s位置上不会连续形成薄膜沉积而被断开。借此，可以防止板之间的通电现象。
175.图19是对适用本发明之又一实施例的绝缘部结构进行图示的放大截面图。
176.参阅图19，绝缘部1000可以由可供扣紧部件302贯通结合的第1绝缘部1010、与第1绝缘部1010相距一定间隔且可供第1绝缘部1010插入的第2绝缘部1020构成。
177.在第1绝缘部1010的外周面上形成有沿着长度方向以阶梯式结构构成的多个第1断坎部1012，在第2绝缘部1020的内周面上形成有与在第1绝缘部1010的外周面上形成的多个第1断坎部1012对应并以具有间隙s的方式形成有多个第2断坎部1022。
178.第1断坎部1012的最末端部的第1末端部1013，可以是与第2绝缘部1020的第2断坎部1022的最末端部的第2末端部1023相向并接触的状态。
179.此外，第1绝缘部1010的一侧面可以是与一侧板相向的状态，而第2绝缘部1020的一侧面可以是与另一侧板相向并接触的状态。
180.第1断坎部1012可以向第2绝缘部1020的内部逐渐向下倾斜形成，而第2断坎部1022与第1断坎部1012相同，也可以向第2绝缘部1020的内部逐渐向下倾斜形成。
181.即，因为适用本发明的第4实施例为第1绝缘部1010以及第2绝缘部1020之间的间隙s的路径复杂且间隙s的长度延长的结构，因此在基板上沉积薄膜时，在绝缘部1000的间
隙s位置上不会连续形成薄膜沉积而被断开。借此，可以防止板之间的通电现象。
182.图20是对适用本发明之又一实施例的绝缘部结构进行图示的放大截面图。
183.参阅图20，绝缘部1100可以由可供扣紧部件贯通结合的第1绝缘部1110以及以可滑动移动的方式插入到第1绝缘部1110的外周面的第2绝缘部1120构成。
184.第1绝缘部1110的两侧侧面分别与板相向，而且在第2绝缘部1120的内部沿着长度方向形成多个凹槽部1122，可以由与第1绝缘部1110的外周面相距一定间隔形成的第1面1124以及以可滑动移动的方式与第1绝缘部1110的外周面相向的第2面526构成。
185.可以通过在第1面1124与第1绝缘部1110的外周面之间的间隔形成间隙s，并通过凹槽部1122形成间隙s。
186.即，因为适用本发明的第5实施例为第1绝缘部1110以及第2绝缘部1120之间的间隙s的路径复杂且间隙s的长度延长的结构，因此在基板上沉积薄膜时，在绝缘部1100的间隙s位置上不会连续形成薄膜沉积而被断开。借此，可以防止板之间的通电现象。
187.图21是对适用本发明之又一实施例的绝缘部结构进行图示的放大截面图。
188.参阅图21，绝缘部1200可以由可供扣紧部件贯通结合的第1绝缘部1210以及配备于第1绝缘部1210的外周面上的第2绝缘部1220构成。
189.第1绝缘部1210的两侧侧面可以与板相向，而第2绝缘部1220可以以与板相距一定间隔的方式形成。
190.第2绝缘部1220的内部可以采用通过连接部1222与第1绝缘部610连接并与连接部1222相距一定间隔的方式形成间隙s的结构。
191.即，因为是在第1绝缘部1210的外周面以形成间隙s的方式配备第2绝缘部1220并通过连接部1222连接的结构而可以延长间隙s的长度，因此可以延长间隙s的长度，从而在基板上沉积薄膜时，在绝缘部1200的间隙s位置上不会连续形成薄膜沉积而被断开。借此，可以防止板之间的通电现象。
192.图22是对适用本发明之又一实施例的绝缘部结构进行图示的放大截面图。
193.参阅图22，适用本发明之又一实施例的绝缘部1300可以由可供扣紧部件302贯通结合的第1绝缘部1310、在第1绝缘部1310的外周面形成的第2绝缘部1320、在第2绝缘部1320的两侧以相距一定间隔的方式形成的第3绝缘部1330以及第4绝缘部1340构成。
194.换言之，在图22中所图示的绝缘部1300可以是在图12中所图示的绝缘部1200的结构上配备第3绝缘部1330以及第4绝缘部1340的结构。
195.第2绝缘部1320通过连接部1322与第1绝缘部1310的外周面连接，而除连接部1322之外的剩余部分可以是相距一定的间隔形成间隙s的结构。
196.第3绝缘部1330以及第4绝缘部1340可以与第1绝缘部1310的外周面相向，而第3绝缘部1330以及第4绝缘部1340的一侧面可以分别与板相向。
197.此外，第3绝缘部1330以及第4绝缘部1340可以以相距一定的间隔围绕第2绝缘部1320的外周面的方式分别形成第1面1332、1342以及第2面1334、1344。
198.即，第3绝缘部1330以及第4绝缘部1340可以以与第2绝缘部1320形成间隙s的方式构成。
199.此外，第3绝缘部1330以及第4绝缘部1340可以相距不同的间隔l构成。
200.第3绝缘部1330以及第4绝缘部1340可以是截面以
“┓”
字形折曲的结构。
201.因为适用本发明的绝缘部1300是在第1绝缘部1310的外周面以形成间隙s的方式配备第2绝缘部1320并通过连接部1322连接的结构而可以延长间隙s的长度，因此可以延长间隙s的长度，而且因为第3绝缘部1330以及第4绝缘部1340为与第2绝缘部1320的外周面形成间隙s的结构，从而在基板上沉积薄膜时，在绝缘部1300的间隙s位置上不会连续形成薄膜沉积而被断开。借此，可以防止板之间的通电现象。
202.图23是对适用本发明之又一实施例的绝缘部结构进行图示的放大截面图。参阅图23，适用第8实施例的绝缘部1400可以由可供扣紧部件302贯通结合的第1绝缘部1410、配备于第1绝缘部1410的外周面的第2绝缘部1420、配备于第1绝缘部1410以及第2绝缘部1420之间的第3绝缘部1430构成。
203.在第1绝缘部1410的外周面上可以形成凸出部1411，在凸出部1411的一侧可以插入第2绝缘部1420，而在凸出部1411的另一侧可以插入第3绝缘部1430。
204.配备于第2绝缘部1420的内侧的第3绝缘部1430可以以与第1绝缘部1410以及第2绝缘部1420形成间隙s的方式构成。
205.即，在第1绝缘部1410的外周面上形成的凸出部1411与第3绝缘部1430的内周面即第1面1431之间可以形成第1间隙s1。
206.在第3绝缘部1430的末端面即第2面1432与在第2绝缘部1420的内侧形成的第1内侧面1421之间可以形成第2间隙s2。
207.此外，在第3绝缘部1430的外周面即第3面1433与在第2绝缘部1420的内侧形成且沿着与第1内侧面1421垂直相交的方向配置的第1内侧面1422之间可以形成第3间隙s3。
208.此外，第2绝缘部1420的一侧末端面可以与板相向，而第2绝缘部1420的另一侧末端面可以以与板相距间隔l1的方式结合。
209.通过如上所述的适用本发明的又一实施例，因为在第1绝缘部1410的外周面以形成第1间隙s1的方式配备第3绝缘部1430，第3绝缘部1430在外侧与第2绝缘部1420形成第3间隙s3，而在第2绝缘部1420的内侧形成的第1内侧面1421与第3绝缘部1430的末端面即第2面1432之间形成第2间隙s2，从而在基板上沉积薄膜时，在绝缘部1300的间隙s位置上不会连续形成薄膜沉积而被断开。借此，可以防止板之间的通电现象。