技术特征：
1.一种酸抛光刻蚀机的改造方法，所述酸抛光刻蚀机具有刻蚀槽，所述刻蚀槽内具有可旋转的螺牙滚轮，其特征在于，所述酸抛光刻蚀机的改造方法包括：将所述螺牙滚轮更换为粘液滚轮，并在所述刻蚀槽内设置用于与磷硅玻璃反应的药液，且所述粘液滚轮在高度方向的1/3～2/3浸入所述刻蚀槽的所述药液中；所述粘液滚轮包括多个间隔布置的环形槽，所述环形槽的深度为0.5～1mm。2.根据权利要求1所述的酸抛光刻蚀机的改造方法，其特征在于，所述粘液滚轮中任意相邻的两个所述环形槽的间距为1～3mm。3.根据权利要求1所述的酸抛光刻蚀机的改造方法，其特征在于，所述粘液滚轮的端部直径为30～35mm。4.根据权利要求1所述的酸抛光刻蚀机的改造方法，其特征在于，调整用于控制所述刻蚀槽的最高液面高度的液位调节板，以使当所述刻蚀槽中的所述药液处于最高液面高度时，所述粘液滚轮在高度方向的1/3～2/3浸入所述刻蚀槽的所述药液中。5.根据权利要求1所述的酸抛光刻蚀机的改造方法，其特征在于，所述酸抛光刻蚀机具有至少一个碱槽、至少一个酸槽和多个水洗槽，在所述至少一个碱槽、所述至少一个酸槽和所述多个水洗槽内设置去离子水。6.一种采用酸抛光刻蚀机去除硅片表面磷硅玻璃的方法，其特征在于，所述采用酸抛光刻蚀机去除硅片表面磷硅玻璃的方法包括：先根据权利要求1～5任一项所述的酸抛光刻蚀机的改造方法对所述酸抛光刻蚀机进行改造，然后在所述刻蚀槽上侧设置硅片，所述硅片的下表面接触所述粘液滚轮的上端，所述粘液滚轮旋转将所述刻蚀槽中的所述药液运输至所述硅片的下表面和边缘。7.根据权利要求6所述的采用酸抛光刻蚀机去除硅片表面磷硅玻璃的方法，其特征在于，所述酸抛光刻蚀机具有至少一个碱槽、至少一个酸槽和多个水洗槽，将完成粘附所述药液的硅片依次运输至所述至少一个碱槽、所述至少一个酸槽和所述多个水洗槽进行多次水洗。8.根据权利要求7所述的采用酸抛光刻蚀机去除硅片表面磷硅玻璃的方法，其特征在于，所述酸抛光刻蚀机具有烘干槽，在所述硅片完成所述多次水洗后，将所述硅片运输至所述烘干槽进行烘干处理。9.根据权利要求6～8任一项所述的采用酸抛光刻蚀机去除硅片表面磷硅玻璃的方法，其特征在于，所述药液为氢氟酸溶液。10.一种去除硅片表面磷硅玻璃的设备，其特征在于，所述去除硅片表面磷硅玻璃的设备包括根据权利要求1～5任一项所述的酸抛光刻蚀机的改造方法改造后的酸抛光刻蚀机。
技术总结
本申请提供一种酸抛光刻蚀机的改造方法、采用酸抛光刻蚀机去除硅片表面磷硅玻璃的方法及设备，属于硅片加工工艺领域。酸抛光刻蚀机的改造方法包括将螺牙滚轮更换为粘液滚轮，并在刻蚀槽内设置用于与磷硅玻璃反应的药液，且粘液滚轮在高度方向的1/3～2/3浸入刻蚀槽的药液中。粘液滚轮包括多个间隔布置的环形槽，环形槽的深度为0.5～1mm。本申请的酸抛光刻蚀机能够在原酸抛光工艺升级为碱抛光工艺后，将原酸抛光刻蚀机改造成为能够用于去除硅片的磷硅玻璃，从而与新的碱抛光刻蚀机配合使用，减少购买新的用于去除硅片的磷硅玻璃的设备，减少技改成本。减少技改成本。减少技改成本。
技术研发人员：崔逸 苏中阳 关柏
受保护的技术使用者：通威太阳能(安徽)有限公司
技术研发日：2021.10.19
技术公布日：2022/1/18