一种具有压力传感功能的薄膜式静电吸盘的制作方法

1.本发明涉及静电吸盘技术领域，尤其涉及一种具有压力传感功能的薄膜式静电吸盘。


背景技术：

2.静电吸盘所使用的静电吸附技术是一种替代传统机械夹持、真空吸附方式的优势技术，在半导体、面板显示、光学等领域中有着广泛应用。
3.目前薄膜式的静电吸盘已被广泛的运用在半导体晶圆加工、液晶面板和amoled面板等显示器产业中，但由于无法和压力传感器做良好的结合，导致无法及时反馈压力的变化情形，同时电阻式传感器对噪声和电磁波的干扰非常敏感，所以静电吸盘容易对压力传感器造成干扰，导致无法针对设备和工艺来进行同步调整以提高良率，达到优化。


技术实现要素：

4.本发明的目是针对背景技术中存在的问题，提出一种可以调整工艺参数以提高良率，更加智能化；可以对静电吸盘做出保护，延长使用寿命；可以确认薄膜式静电吸盘能否正确的吸住目标物，以确保运作正常的具有压力传感功能的薄膜式静电吸盘。
5.本发明的技术方案：一种具有压力传感功能的薄膜式静电吸盘，包括静电吸盘、干扰屏蔽膜和压力传感器；
6.静电吸盘和压力传感器设置在干扰屏蔽膜上，且静电吸盘和压力传感器分别位于干扰屏蔽膜的两侧；
7.干扰屏蔽膜的制作工艺步骤如下：
8.s1、利用计算软件搭配材料的参数以及算法来进行多次的设计，最后选择出具有压力传感功能的电路图；
9.s2、根据设计好的具有压力传感功能的电路图来配合设备对薄膜来进行光刻和钻孔；
10.s3、将钻孔后具有电路的薄膜，放入电镀设备中来进行电镀，使得薄膜表面镀铜并将不需要的部分去除，得到薄膜电路；
11.s4、接下来再将薄膜表面已经镀上铜的线路再镀上镍金，达到对铜线路抗氧化的保护，最后再将已经形成镍金保护层的薄膜表面镀上一层铟化合物，形成干扰屏蔽膜。
12.优选的，计算软件包括电路设计软件和仿真软件，通过电路设计软件和仿真软件进行仿真计算。
13.优选的，薄膜镀铟化合物的步骤为；将已镀有镍金保护层的薄膜放入真磁控溅射设备中，并通过物理气象沉积pvd设备搭配高纯度的铟化合物靶材来进行加工。
14.优选的，静电吸盘薄膜背面镀有铟化合物，且制作过程与干扰屏蔽膜镀铟化合物的制作方法相同；来同时进行隔绝保护，以确保静电吸盘在运作时不会干扰到压力传感器的正常运作。
15.优选的，薄膜光刻钻孔设备包括卷对卷生产设备和绿光皮秒激光设备。
16.优选的，薄膜不需要的部分通过薄膜用湿式蚀刻的方法将去除。
17.优选的，薄膜表面镀镍金的方式包括电镀或无电镀。
18.优选的，压力传感器、静电吸盘和干扰屏蔽膜通过胶水贴合，结合外部的控制电路板完成设计。
19.与现有技术相比，本发明具有如下有益的技术效果：在本发明工作时，静电吸盘利用高电压、低电流和相对应的电路设计，并通过仿真软件,将铜线路的阻抗和相关的参数来进行模拟,产生优化的电路图案设计,以达到将电荷离子化做有效的分布，来产生瞬间吸力通过利用压力对压力传感器会造成阻抗大小的变化，经由阻抗的变化，我们可以确认x轴、y轴和z轴压力的大小和位置，再产生相对应的电子讯号输出，将压力传感器结合静电吸盘在一起，并利用物理气象沉积pvd设备和镀铟化合物的方法制造干扰屏蔽膜来克服静电吸盘对压力传感器的噪声干扰；本发明使得静电吸盘同时具有压力量测能力，通过实时数据的反馈来调整工艺参数以提高良率，让生产变得更加智能化，达到质的有效提升；通过压力数据的及时反馈，可以对静电吸盘做出保护，以延长薄膜式静电吸盘的使用寿命；通过压力的变化，可以确认薄膜式静电吸盘能正确的吸住目标物，以确保运作正常。
附图说明
20.图1为本发明一种实施例结构示意图；
21.图2为图1的a处局部放大结构示意图；
22.图3为图1的局部放大图。
23.附图标记：1、静电吸盘；2、干扰屏蔽膜；3、压力传感器。
具体实施方式
24.为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。
25.实施例一
26.本发明提出的一种具有压力传感功能的薄膜式静电吸盘，包括静电吸盘1、干扰屏蔽膜2和压力传感器3；
27.如图1-3所示，静电吸盘1和压力传感器3设置在干扰屏蔽膜2上，且静电吸盘1和压力传感器3分别位于干扰屏蔽膜2的两侧；压力传感器3、静电吸盘1和干扰屏蔽膜2通过特殊胶水连接，结合外部的控制电路板完成设计；
28.干扰屏蔽膜2的制作工艺步骤如下：
29.s1、利用计算软件搭配材料的参数以及算法来进行多次的设计，最后选择出具有压力传感功能的电路图；计算软件包括电路设计软件和仿真软件，通过电路设计软件和仿真软件进行仿真计算；多次仿真计算并筛选最佳方案，提高干扰屏蔽膜2的加工精度；
30.s2、根据设计好的具有压力传感功能的电路图来配合设备对薄膜来进行光刻和钻孔；薄膜光刻钻孔设备包括卷对卷生产设备和绿光皮秒激光设备，降低开发成本提高良率和效率；
31.s3、将钻孔后具有电路的薄膜，放入电镀设备中来进行电镀，使得薄膜表面镀铜并将不需要的部分去除，得到薄膜电路；不需要的部分通过薄膜用湿式蚀刻的方法去除；
32.s4、接下来再将薄膜表面已经镀上铜的线路再镀上镍金，达到对铜线路抗氧化的保护，最后再将已经形成镍金保护层的薄膜表面镀上一层铟化合物，形成干扰屏蔽膜2；薄膜表面镀镍金的方式包括电镀或无电镀，且将已镀有镍金保护层的薄膜放入真磁控溅射设备中，并通过物理气象沉积pvd设备搭配高纯度的铟化合物靶材来进行加工。
33.本实施例中，通过静电吸盘1利用高电压、低电流和相对应的电路设计，并通过仿真软件,将铜线路的阻抗和相关的参数来进行模拟,产生优化的电路图案设计,以达到将电荷离子化做有效的分布，来产生瞬间吸力通过利用压力对压力传感器3会造成阻抗大小的变化，经由阻抗的变化，我们可以确认x轴、y轴和z轴压力的大小和位置，再产生相对应的电子讯号输出，将压力传感器3结合静电吸盘1在一起，并利用物理气象沉积pvd设备和镀铟化合物的方法制造干扰屏蔽膜2来克服静电吸盘1对压力传感器3的噪声干扰；使得静电吸盘1同时具有压力量测能力，通过实时数据的反馈来调整工艺参数以提高良率，让生产变得更加智能化，达到质的有效提升；通过压力数据的及时反馈，可以对静电吸盘1做出保护，以延长薄膜式静电吸盘的使用寿命；通过压力的变化，可以确认薄膜式静电吸盘能正确的吸住目标物，以确保运作正常。
34.实施例二
35.本发明提出的一种具有压力传感功能的薄膜式静电吸盘，相较于实施例一，本实施例还包括静电吸盘1、干扰屏蔽膜2和压力传感器3；
36.如图1-3所示，静电吸盘1和压力传感器3设置在干扰屏蔽膜2上，且静电吸盘1和压力传感器3分别位于干扰屏蔽膜2的两侧；
37.干扰屏蔽膜2的制作工艺步骤如下：
38.s1、利用计算软件搭配材料的参数以及算法来进行多次的设计，最后选择出具有压力传感功能的电路图；
39.s2、根据设计好的具有压力传感功能的电路图来配合设备对薄膜来进行光刻和钻孔；
40.s3、将钻孔后具有电路的薄膜，放入电镀设备中来进行电镀，使得薄膜表面镀铜并将不需要的部分去除，得到薄膜电路；
41.s4、接下来再将薄膜表面已经镀上铜的线路再镀上镍金，达到对铜线路抗氧化的保护，最后再将已经形成镍金保护层的薄膜表面镀上一层铟化合物，形成干扰屏蔽膜2。
42.本实施例中，静电吸盘1薄膜背面镀有铟化合物，且制作过程与干扰屏蔽膜2镀铟化合物的制作方法相同，来同时进行隔绝保护，以确保静电吸盘1在运作时不会干扰到压力传感器3的正常运作。
43.上面结合附图对本发明的实施方式作了详细说明，但是本发明并不限于此，在所属技术领域的技术人员所具备的知识范围内，在不脱离本发明宗旨的前提下还可以作出各种变化。