显示面板的制作方法

1.本公开属于显示领域，具体涉及一种显示面板。


背景技术：

2.amoled(active-matrix organic light emitting diode，有源矩阵有机发光二极体)显示面板因为是自发光，理论上时不需要偏光片，但是由于amoled的阴极以及基板中排布着各种金属走线，使得amoled基板看起来像一张银色发光的锡箔纸，这样在环境光照射下，面板会因为走线反光而导致显示效果和对比度大幅下降。
3.因此，目前amoled显示面板采用一种相对特殊的圆偏光片用于降低反光，即：光线入射到偏光片内后成为垂直方向的偏振光，反射后成水平方向的偏振光，因而不能透过偏光片，反射到人眼中。也就是说，在amoled面板上，偏光片的用途是降低反光。
4.现有大尺寸的面板常用的发光方式为白光有机发光层和彩膜基板组合的底发光技术，有机发光层产生的白光通过发光区并经由彩膜基板转换成红绿蓝光，再经过阵列基板和偏光片出光，生成图像，然而tft晶体管层的金属会将外界环境光反射回去，所以还需要偏光片降低反射，降低了发光区的透光率。


技术实现要素：

5.本公开的目的在于提供一种无需偏光片的显示面板，以能够在降低反射率的同时，提高透过率。
6.本公开提供一种显示面板，包括：透明基板及形成在所述透明基板上的发光功能层及色阻层；所述透明基板具有发光区和非发光区，所述发光功能层位于所述透明基板的一侧，所述发光功能层包括晶体管和有机发光器件，所述晶体管形成在所述非发光区上，所述有机发光器件的部分形成在所述发光区上，另一部分形成在所述非发光区并与所述晶体管连接；
7.所述色阻层位于在所述透明基板远离所述发光功能层的一侧，所述色阻层包括黑矩阵和彩色滤光部，所述黑矩阵形成在所述非发光区上，所述彩色滤光部形成在所述发光区上；
8.其中，所述有机发光器件发出的光线依次经过所述透明基板的发光区及所述彩色滤光部射出。
9.在本公开一种示例性实施例中，所述显示面板还包括反光结构，形成在所述非发光区上，所述反光结构的至少一反光侧与所述黑矩阵和所述彩色滤光部的交接处相对齐。
10.在本公开一种示例性实施例中，所述反光结构位于所述透明基板远离所述色阻层的一侧；
11.其中，所述反光结构与所述晶体管的栅极和源漏极中至少一者同层设置。
12.在本公开一种示例性实施例中，所述反光结构包括第一反光层和第二反光层；其中，
13.所述第一反光层与所述源漏极同层设置，
14.所述第二反光层与所述栅极同层设置，
15.所述第一反光层和所述第二反光层中至少一者的至少一反光侧与所述黑矩阵和所述彩色滤光部的交接处相对齐。
16.在本公开一种示例性实施例中，所述发光功能层还包括存储电容，其中，
17.所述第一反光层与所述第二反光层相对设置且相互绝缘，所述第一反光层构成所述存储电容的第一极板，所述第二反光层构成所述存储电容的第二极板。
18.在本公开一种示例性实施例中，所述反光结构还包括第三反光层，所述第三反光层的至少一反光侧与所述黑矩阵和所述彩色滤光部的交接处相对齐，所述第三反光层构成所述存储电容的第三极板；其中，
19.所述第三反光层位于所述第一反光层远离所述第二反光层的一侧，并与所述第一反光层相对且绝缘设置；或
20.所述第三反光层位于所述第二反光层远离所述第一反光层的一侧，并与所述第二反光层相对且绝缘设置。
21.在本公开一种示例性实施例中，所述反光结构还包括反光柱，所述反光柱的至少一反光侧与所述黑矩阵和所述彩色滤光部的交接处相对齐；其中，
22.在所述第三反光层位于所述第一反光层远离所述第二反光层的一侧，并与所述第一反光层相对且绝缘设置的情况下：所述反光柱与所述第三反光层同层设置且相连，所述反光柱至少贯穿所述第三反光层和所述第二反光层之间的绝缘层并与所述第二反光层相连，且还与所述第一反光层相断开；或
23.在所述第三反光层位于所述第二反光层远离所述第一反光层的一侧，并与所述第二反光层相对且绝缘设置的情况下：所述反光结构还包括反光柱，所述反光柱与所述第一反光层同层设置且相连，所述反光柱至少贯穿所述第一反光层和所述第三反光层之间的绝缘层，所述反光柱与所述第三反光层相连，并与所述第二反光层相断开。
24.在本公开一种示例性实施例中，所述晶体管的有源层位于所述栅极靠近所述透明基板的一侧；所述显示面板还包括遮光金属部，所述遮光金属部位于所述非发光区上，并位于所述有源层靠近所述透明基板的一侧，所述遮光金属部与所述有源层绝缘设置并遮挡所述有源层；其中，
25.所述源漏极中的一者贯穿多层绝缘层与所述遮光金属部连接；和/或
26.在所述第三反光层位于所述第二反光层远离所述第一反光层的一侧，并与所述第二反光层相对且绝缘设置的情况下：所述第三反光层与所述遮光金属部同层设置。
27.在本公开一种示例性实施例中，
28.所述反光结构的反光侧环绕所述发光区设置，或
29.所述反光结构的反光侧位于所述发光区的相对两侧。
30.在本公开一种示例性实施例中，
31.所述显示面板还包括增透膜，位于所述色阻层远离所述透明基板的一侧；和/或
32.所述显示面板还包括保护膜，位于所述色阻层远离所述透明基板的一侧；和/或
33.所述显示面板还包括金属封装层，位于所述发光功能层远离所述透明基板的一侧。
34.本公开方案的有益效果：
35.在本公开中，色阻层和发光功能层分设在透明基板的两侧，具体地，发光功能层可理解为位于透明基板的入光侧，色阻层可理解为位于透明基板的出光侧，也就是说，发光功能层中有机发光器件发出的光线可依次经过透明基板及色阻层射出，通过将色阻层设置在透明基板的出光侧，这样可利用色阻层的黑矩阵遮挡发光功能层的金属走线，例如：遮挡发光功能层的晶体管、有机发光器件的阴极等金属结构，相比于利用偏光片降低反光的方案，本方案在降低这些金属结构对外界环境光反射的同时，由于无需使用偏光片，因此，还可提高面板透过率和节省成本。
36.本公开的其他特性和优点将通过下面的详细描述变得显然，或部分地通过本公开的实践而习得。
37.应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本公开。
附图说明
38.此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本公开的实施例，并与说明书一起用于解释本公开的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
39.图1示出了本公开实施例一所述的第一种显示面板的示意图；
40.图2示出了本公开实施例一所述的第二种显示面板的示意图；
41.图3示出了本公开实施例一所述的第三种显示面板的示意图；
42.图4示出了本公开实施例二所述的第一种显示面板的示意图；
43.图5示出了本公开实施例二所述的第二种显示面板的示意图；
44.图6示出了本公开实施例三所述的显示面板的制造方法的流程图。
45.附图标记说明：
46.1、色阻层；11、彩色滤光部；12、黑矩阵；2、透明基板；3、晶体管；311、缓冲层；312、第一平坦化层；313、第二平坦化层；32、层间介质层；33、钝化层；34、平坦化层；35、有源层；36、栅绝缘层；37、栅极；381、漏极；382、源漏极；391、遮光金属部；392、转接电极；4、有机发光器件；41、阳极；42、发光层；43、阴极；44、像素界定部；5、发光功能层；6、增透膜；7、保护膜；8、金属封装层；9、反光结构；91、第一反光层；92、第二反光层；93、第三反光层；94、反光柱；a、发光区；b、非发光区。
具体实施方式
47.现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的范例；相反，提供这些实施方式使得本公开将更加全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。
48.需要说明的是，本文中所述的“在
……
上”、“在
……
上形成”和“设置在
……
上”可以表示一层直接形成或设置在另一层上，也可以表示一层间接形成或设置在另一层上，即两层之间还存在其它的层。
49.在本公开中，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本公开的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
50.在本公开中，除非另有说明，所采用的术语“同层设置”指的是两个层、部件、构件、元件或部分可以通过同一构图工艺形成，并且，这两个层、部件、构件、元件或部分一般由相同的材料形成。
51.在本公开中，除非另有说明，表述“构图工艺”一般包括光刻胶的涂布、曝光、显影、刻蚀、光刻胶的剥离等步骤。表述“一次构图工艺”意指使用一块掩模板形成图案化的层、部件、构件等的工艺。
52.此外，所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施例中。在下面的描述中，提供许多具体细节从而给出对本公开的实施例的充分理解。然而，本领域技术人员将意识到，可以实践本公开的技术方案而没有特定细节中的一个或更多，或者可以采用其它的方法、组元、装置、步骤等。在其它情况下，不详细示出或描述公知方法、装置、实现或者操作以避免模糊本公开的各方面。
53.实施例一
54.如图1-图3所示，本公开实施例提供一种显示面板，该显示面板包括：透明基板2及形成在透明基板2上的发光功能层5及色阻层1；发光功能层5位于透明基板2的一侧，色阻层1位于在透明基板2远离发光功能层5的一侧。
55.具体地，透明基板2具有良好的透光性，有利于提高显示面板的透光率，从而提高显示效果。透明基板2的材料可以为玻璃。透明基板2具有发光区a和非发光区b。
56.发光功能层5包括晶体管3和有机发光器件4，晶体管3形成在非发光区b上，有机发光器件4的部分形成在发光区a上，另一部分形成在非发光区b并与晶体管3连接。即，本实施例所述的显示面板可以为oled(organiclight-emitting diode，有机发光二极管)显示面板，具体可为amoled显示面板。
57.以下将对晶体管3的结构进行详细说明。
58.如图1-图3所示，本实施例中，晶体管3可以为顶栅型，此晶体管3可包括有源层35、栅绝缘层36、栅极37、层间介质层32、源极382、漏极381。具体地，有源层35可形成在缓冲层311上，栅绝缘层36覆盖有源层35，栅极37形成在栅绝缘层36背离有源层35的一侧，即晶体管3的有源层35位于栅极37靠近透明基板2的一侧。层间介质层32覆盖栅极37、栅绝缘层36和有源层35。源极382和漏极381形成在层间介质层32背离透明基板2的一侧并分别位于栅极37的相对两侧，该源极382和漏极381可分别通过过孔(例如：金属过孔)与有源层35的相对两侧接触。层间介质层32还覆盖过孔。应当理解的是，此晶体管也可为底栅型。
59.举例而言，栅极37的材料可以包括金属材料或者合金材料，例如包括钼、铝及钛等。源极382和漏极381可以包括金属材料或者合金材料，例如由钼、铝及钛等形成的金属单层或多层结构，例如，该多层结构为多金属层叠层，例如钛、铝、钛三层金属叠层(al/ti/al)等。有源层35的材料可为氧化物，例如，可采用izgo(indium gallium zinc oxide，铟锌氧化物)等金属氧化物材料，izgo具有高精度、高电子迁移率、低功耗与高触控性能。
60.本实施例中，晶体管3与有机发光器件4之间还具有钝化层33和平坦化层34。此钝
化层33的材料可以为无机材料，例如：氮化硅或氧化硅。此平坦化层34可为单层结构，也可为多层结构；此平坦化层34可以采用有机材料制作而成，例如：光刻胶、丙烯酸基聚合物、硅基聚合物等材料。
61.有机发光器件4包括阳极41和阴极43，以及位于二者之间的发光层42。此外，还包括像素界定部44。像素界定部44可以覆盖平坦化层34，像素界定部44中位于发光区a的部分可具有露出阳极41的像素开口。此外，根据实际不同需要，在不同的示例中，有机发光器件4还可以进一步包括电子注入层、电子传输层、空穴注入层、空穴传输层等功能层。
62.此阳极41可为ito(氧化铟锡)、氧化铟锌(izo)、氧化锌(zno)等材料制作而成；此阴极43可为锂(li)、铝(al)、镁(mg)、银(ag)等金属材料制作而成。发光层42可包括小分子有机材料或聚合物分子有机材料，可以为荧光发光材料或磷光发光材料，可以发红光、绿光、蓝光，或可以发白光等。此像素界定部44可为有机材料制作而成，例如：光刻胶等有机材料。
63.有机发光器件4的阳极41与晶体管3的源极382电连接。进一步地，如图1和图3所示，阳极41可以与源极382直接电连接；或者，如图2所示，阳极41也可以通过转接电极392与源极382电连接。此转接电极392可为金属材料制作，因此，此转接电极位于非发光区b。
64.色阻层1包括黑矩阵12和彩色滤光部11，黑矩阵12形成在非发光区b上，彩色滤光部11形成在发光区上a。黑矩阵12能够吸收外部光线，同时阻挡晶体管3的反射光，避免反光影响显示效果。不同彩色滤光部11可以过滤不同颜色的光线，如红光、绿光和蓝光，从而显示色彩画面。
65.有机发光器件4发出的光线依次经过透明基板2的发光区a及彩色滤光部11射出。即，本实施例中，有机发光器件4发出的光线需经过相邻晶体管3之间的像素开口，因此，显示面板为底发射显示面板。
66.在本公开中，色阻层1和发光功能层5分设在透明基板2的两侧，具体地，发光功能层5可理解为位于透明基板2的入光侧，色阻层1可理解为位于透明基板2的出光侧，也就是说，发光功能层5中有机发光器件4发出的光线可依次经过透明基板2及色阻层1射出，通过将色阻层1设置在透明基板2的出光侧，这样可利用色阻层1的黑矩阵12遮挡发光功能层5的金属走线，例如：遮挡发光功能层5的源极382、漏极381、转接电极392、栅极37、遮光金属部391、阴极43等金属结构，相比于利用偏光片降低反光的方案，本方案在降低这些金属结构对外界环境光反射的同时，由于无需使用偏光片，因此，还可提高面板透过率和节省成本。
67.如图1-图3所示，显示面板还包括反光结构9，形成在非发光区上b，此反光结构9能够将光线反射至发光区a，能够减小非发光区b对光线的消耗程度，使更多光线从彩色滤光部11射出，从而提高光线透过率，进而提高显示效果。
68.其中，反光结构9的至少一反光侧与黑矩阵12和彩色滤光部11的交接处相对齐。这样在不影响发光面积的同时，还可进一步对光线进行反射，减少光损耗，能够进一步提高光线利用率，即：使得更多光线从彩色滤光部射出，提高显示效果。
69.示例地，反光结构9可位于透明基板2远离色阻层1的一侧，例如，此反光结构9可属于前述提到的发光功能层5。
70.其中，反光结构9与晶体管3的栅极37和源漏极中至少一者同层设置；从而有利于提高发光功能层5的空间利用率，从而减小显示面板的厚度，还有利于简化生产步骤。
71.应当理解的是，反光结构9还可以位于透明基板2与色阻层1之间的非发光区b，同样可以提高光线利用率。
72.以下将对反光结构9位于透明基板2远离色阻层1的一侧进行详细说明。
73.如图1所示，反光结构9包括第一反光层91和第二反光层92。
74.其中，第一反光层91与源极382和漏极381同层设置，即第一反光层91可以与源极382和漏极381在一次构图工艺中同时形成。相应的，第一反光层91的材料可以与源极382和漏极381相同。第二反光层92与栅极37同层设置，即第二反光层92可以与栅极37在一次构图工艺中同时形成，相应的，第二反光层92的材料可以与栅极37相同。如此，有利于简化生产工艺，降低工艺难度。
75.第一反光层91和第二反光层92中至少一者的至少一反光侧与黑矩阵12和彩色滤光部11的交接处相对齐。本实施例中，第一反光层91和第二反光层92均有一反光侧与黑矩阵12和彩色滤光部11的交接处相对齐，从而有利于更多反射光线集中从彩色滤光部11中射出。
76.发光功能层5还包括存储电容，其中，第一反光层91与第二反光层92相对设置且相互绝缘，第一反光层91构成存储电容的第一极板，第二反光层92构成存储电容的第二极板，层间介质层32构成存储电容的介质层。即，本实施例中，第一反光层91和第二反光层92不仅用于将光线反射至发光区a，还用于构成存储电容。如此，可以不再形成其他的极板以构成存储电容，从而有利于缩小非发光区b所占据的空间，从而提高开口率，以提高光线透过率。
77.在另一些实施例中，第一反光层91和第二反光层92也可以仅用于反光。存储电容由其他极板构成，进一步地，存储电容的极板可以为不透明极板，且不透明极板设置于非发光区b；存储电容的极板也可以为透明极板，且透明极板设置于发光区a，在存储电容的极板为透明极板的情况下，也有利于缩小非发光区b所占据的空间，进而提高开口率。
78.如图2-图3所示，反光结构9还包括第三反光层93，第三反光层93的至少一反光侧与黑矩阵12和彩色滤光部11的交接处相对齐，第三反光层93构成存储电容的第三极板。应理解，由于存储电容的极板面积增大，存储电容的存储容量也相应增大。
79.以下将对第三反光层93的位置进行详细说明。
80.示例一，参考图2，第三反光层93位于第一反光层91远离第二反光层92的一侧，并与第一反光层91相对且绝缘设置。即，第一反光层91和第二反光层92构成一电容，第二反光层92和第三反光层93构成另一电容。
81.第三反光层93与阳极41之间还可以设置第一平坦化层312和第二平坦化层313。
82.在示例一所述的情况中，显示面板还可以包括转接电极392，转接电极392位于非发光区b上，并用于电连接有机发光器件4的阳极41和晶体管3的源极382，从而有利于减小接触电阻，以提高有机发光器件4的发光效果。在另一些例子中，显示面板也可以不具有转接电极392。
83.进一步地，转接电极392与第三反光层93同层设置，即二者可以利用一次构图工艺形成，从而有利于简化生产工艺。
84.示例二，参考图3，第三反光层93位于第二反光层92远离第一反光层91的一侧，并与第二反光层92相对且绝缘设置。即，第一反光层91和第二反光层92构成一电容，第二反光层92和第三反光层93构成另一电容。
85.在示例一所述的情况中，显示面板还可以包括遮光金属部391，遮光金属部391位于非发光区b上，并位于有源层35靠近透明基板2的一侧，遮光金属部391与有源层35绝缘设置并遮挡有源层35。遮光金属部391能够进一步减小反光对有源层35造成的影响，从而提高晶体管3的电性能和稳定性。
86.进一步地，遮光金属部391与第三反光层93同层设置，即二者可以利用一次构图工艺形成，从而有利于简化生产工艺。在另一些例子中，也可以不具有遮光金属部391。
87.如图1-图3所示，显示面板还可以包括增透膜6，位于色阻层1远离透明基板2的一侧；增透膜6有利于进一步提高光线透过率，进而提高显示效果。
88.显示面板还可以包括保护膜7，位于色阻层1远离透明基板2的一侧。保护膜7能够对色阻层1提供保护作用，以提高色阻层1的使用寿命。
89.显示面板还可以包括金属封装层8，位于发光功能层5远离透明基板2的一侧。金属封装层8用于保护发光功能层5，以提高发光功能层5的使用寿命。此外，金属封装层8还可以用于与外部的器件电连接。
90.综上所述，本实施例中色阻层1能够降低反光，提高光透过率，从而提高对比度和显示效果。此外，反光结构9的至少一反光侧与黑矩阵12和彩色滤光部11的交接处相对齐，有利于将光线集中反射至发光区a，从而减小光线损失，提高光线的利用率。此外，第一反光层91、第二反光层92和第三反光层93还用于构成存储电容，从而可以不再形成其他极板以构存储电容，有利于缩小非发光区b的所占据的空间面积。
91.实施例二
92.如图4-图5所示，本实施例提供了一种显示面板，本实施例与实施例一的区别在于：反光结构9还包括反光柱94，反光柱94的至少一反光侧与黑矩阵12和彩色滤光部11的交接处相对齐。本实施例与实施例一相同或相似的部分请参考前述实施例的详细说明，在此不再赘述。
93.反光柱94能够增大反光面积，从而形成光线透过通道，使光线集中从发光区a射出。如此，能够进一步提高显示效果和对比度。
94.以下将对反光柱94与各反光层的相对位置关系进行示例说明。
95.示例一，如图4所示，在第三反光层93位于第一反光层91远离第二反光层92的一侧，并与第一反光层91相对且绝缘设置的情况下：反光柱94与第三反光层93同层设置且相连，即反光柱94可以与第三反光层93在同一构图工艺中形成。
96.反光柱94至少贯穿第三反光层93和第二反光层92之间的绝缘层并与第二反光层92相连，且还与第一反光层91相断开。即反光层94贯穿平坦化层34、钝化层33和层间介质层32。
97.第三反光层93还可以与转接电极392同层设置。即反光柱94、转接电极392、第三反光层93可以在同一构图工艺中形成。
98.示例二，如图5所示，在第三反光层93位于第二反光层92远离第一反光层91的一侧，并与第二反光层92相对且绝缘设置的情况下：反光结构9还包括反光柱94，反光柱94与第一反光层91同层设置且相连，即反光柱94可以与第一反光层91在同一构图工艺中形成。
99.反光柱94至少贯穿第一反光层91和第三反光层93之间的绝缘层，反光柱94与第三反光层93相连，并与第二反光层92相断开。即反光柱94贯穿缓冲层311和层间介质层32。
100.第三反光层93还可以与遮光金属部391同层设置。即反光柱94、遮光金属部391以及第三反光层93可以在同一构图工艺中形成。
101.在上述两个示例中，反光柱94与两个反光层连接。然不限于此，在另一些示例中，反光柱94也可以与所有反光层间隔设置；在另一些示例中，反光柱94也可以仅与一个反光层连接。在另一些示例中，反射结构9也可以只包括反光柱94，而不包括反光层，相应地，存储电容的极板可以设置为透明基板，并设置于发光区a。
102.此外，本实施例中，反光结构9的反光侧环绕发光区a设置，从而能够形成一个连续的光线通道，以更大程度地增加反光面积，减小光线的损失，从而提高光线的透过率。在另一些实施例中，反光结构9的反光侧也可以位于发光区a的相对两侧。
103.实施例三
104.如图6所示，本实施例提供一种显示面板的制造方法，该制造方法能够用于制造实施例一和实施例二所述的显示面板。该制造方法包括：步骤s100、步骤s110、步骤s120及步骤s130。
105.在步骤s100中：提供一透明基板。
106.具体地，透明基板具有发光区和非发光区。
107.在步骤s110中：在透明基板的一侧形成发光功能层，发光功能层包括晶体管和有机发光器件；其中，步骤s110包括步骤s111和步骤s112。
108.步骤s111：在透明基板的一侧形成晶体管。
109.具体地，依次在透明基板上缓冲层、有源层、栅绝缘层、栅极、层间介质层、源漏极和平坦化层。
110.在一些实施例中，利用同一次构图工艺形成栅极和第二反光层；第二反光层可以构成存储电容的第二极板。
111.在一些实施例中，利用同一次构图工艺形成源漏极和第一反光层；第一反光层可以构成存储电容的第一极板。
112.应理解，在形成缓冲层前，还可以在透明基板上形成遮光金属部；在形成平坦化层后，还可以形成与源极电连接的转接电极。
113.相应的，可以利用同一次构图工艺形成遮光金属部和第三反光层；或者，可以利用同一次构图工艺形成转接电极和第三反光层。第三反光层可以构成存储电容的第三极板。
114.在一些实施例中，还可以利用同一次构图工艺形成遮光金属部和反光柱，反光柱连接第一反光层和第三反光层；或者，利用同一次构图工艺形成转接电极和反光柱，反光柱连接第二反光层和第三反光层。
115.至此，在形成晶体管的同时可以形成反光结构，且反光结构中的反光层能够用于构成存储电容。
116.步骤s112：在透明基板的一侧形成有机发光器件。
117.具体地，可依次形成阳极、像素界定部、发光层和阴极。
118.在步骤s120中：在有机发光器件上形成金属封装层。
119.具体地，可以通过蒸镀或溅射等工艺形成金属封装层。
120.在步骤s130中：将透明基板翻转，形成色阻层和彩色滤光部。
121.具体地，在发光区形成彩色滤光部，在非发光区形成色阻层。
122.综上，此方案的色阻层不再设计在晶体管和有机发光器件之间，而是在做完晶体管和有机发光器件，并完成封装后，将透明基板翻转，形成色阻层和彩色滤光部。
123.应当注意，尽管在附图中以特定顺序描述了本公开中方法的各个步骤，但是，这并非要求或者暗示必须按照该特定顺序来执行这些步骤，或是必须执行全部所示的步骤才能实现期望的结果。附加的或备选的，可以省略某些步骤，将多个步骤合并为一个步骤执行，以及/或者将一个步骤分解为多个步骤执行等。此外，上面的一些步骤可以并行执行或顺序执行等等，并不局限于上文描述的具体操作顺序。
124.实施例四
125.本实施例提供一种显示装置，可包括前述实施例中所描述的显示基板。该显示装置的具体类型不受特别的限制，本领域常用的显示装置类型均可，具体例如oled(organiclight-emitting diode，有机发光二极管)显示屏、手机等移动装置、手表等可穿戴设备、vr(virtual reality，虚拟现实)装置等等，本领域技术人员可根据该显示设备的具体用途进行相应地选择，在此不再赘述。
126.在本说明书的描述中，参考术语“一些实施例”、“示例地”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本公开的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
127.尽管上面已经示出和描述了本公开的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本公开的限制，本领域的普通技术人员在本公开的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型，故但凡依本公开的权利要求和说明书所做的变化或修饰，皆应属于本公开专利涵盖的范围之内。