技术特征：
1.一种n型立体缺陷金属墙方向图修正的去耦结构，其特征在于，包括缺陷金属墙和两组贴片天线,两组所述贴片天线并列排布，所述缺陷金属墙嵌设在两组所述贴片天线之间，所述缺陷金属墙平行于天线e面放置。2.如权利要求1所述的n型立体缺陷金属墙方向图修正的去耦结构，其特征在于，每组所述贴片天线由辐射贴片、阻抗变换器、微带线、介质基板和金属地板组成，所述辐射贴片、所述阻抗变换器和所述微带线均设置在所述介质基板的上表面，所述金属地板与所述介质基板固定连接，并位于所述介质基板的下方。3.如权利要求2所述的n型立体缺陷金属墙方向图修正的去耦结构，其特征在于，两组所述贴片天线的介质基板连成一个整体并呈公用层形式设置，所述金属地板呈同样设置。4.如权利要求3所述的n型立体缺陷金属墙方向图修正的去耦结构，其特征在于，所述缺陷金属墙贯穿所述介质基板与所述金属地板固定连接，所述缺陷金属墙与所述介质基板所在的平面垂直设置。5.如权利要求4所述的n型立体缺陷金属墙方向图修正的去耦结构，其特征在于，所述缺陷金属墙包括介质板和两组金属条带，两组所述金属条带分别设置在所述介质板的两侧，并关于所述介质板对称布置。6.如权利要求5所述的n型立体缺陷金属墙方向图修正的去耦结构，其特征在于，每组所述金属条带包括第一金属条带、第二金属条带和第三金属条带，所述第一金属条带的一端贯穿所述介质基板并与所述金属地板相连，所述第一金属条带的另一端与所述缺陷金属墙的顶端持平，所述第三金属条带与第一金属条带关于所述介质板中心对称放置，所述第二金属条带分别与所述第一金属条带和第三金属条带垂直相连。
技术总结
本实用新型公开了一种n型立体缺陷金属墙方向图修正的去耦结构，其结构包括平行于E面放置的n型缺陷金属墙和两组贴片天线。所述缺陷金属墙贯穿所述介质基板并与所述金属地板相连，两组所述贴片天线的间距为λ0/20，采用微带线馈电，并用四分之一波长阻抗变换器调整阻抗匹配。该结构在满足去耦和匹配要求的前提下，还修正了H面的辐射方向图，提高了E面的实际增益，从而较好的解决了现有紧间距去耦结构中存在的方向图偏移问题。中存在的方向图偏移问题。中存在的方向图偏移问题。
技术研发人员：莫锦军 张胜妃 王宜颖 于新华 伍铁生 王庆勇
受保护的技术使用者：桂林电子科技大学
技术研发日：2021.09.10
技术公布日：2022/4/8