衬底处理装置的制作方法

1.本发明涉及一种对衬底进行处理的衬底处理装置。衬底例如为半导体晶圆、液晶显示器用衬底、有机el(electroluminescence：电致发光)用衬底、fpd(flat panel display：平板显示器)用衬底、光显示器用衬底、磁盘用衬底、光盘用衬底、磁光盘用衬底、光罩用衬底、太阳能用衬底。


背景技术：

2.日本专利特开2009-200193号公报揭示一种衬底处理装置。衬底处理装置具备处理外壳与供气单元。处理外壳在处理外壳的内部处理衬底。供气单元将气体(例如空气)供给到处理外壳的内部。
3.供气单元具备过滤器、导管、及风扇。过滤器配置在处理外壳的上部。过滤器将气体吹出到处理外壳的内部。导管设置在处理外壳的外部。导管连接到过滤器。风扇设置在处理外壳的外部。风扇连接到导管。
4.风扇配置在过滤器的上方。风扇在俯视下配置在与过滤器重叠的位置。风扇与过滤器在铅直方向上排列。导管在过滤器与风扇之间在铅直方向延伸。


技术实现要素：

5.[发明所要解决的问题]
[0006]
然而，日本专利特开2009-200193号公报的衬底处理装置具有如下的问题。过滤器配置在处理外壳的上部。风扇配置在过滤器的上方。因此，整个风扇配置在处理外壳的上方。因此，供气单元从处理外壳朝上方大幅突出。换言之，供气单元从处理外壳朝上方伸出的供气单元的突出长度相对较大。
[0007]
然而，通过将多个处理外壳配置在铅直方向，衬底处理装置的占地面积不会增大，衬底处理装置的处理能力提高。然而，供气单元从处理外壳朝上方大幅突出的情况下，很难容易地增加排列在铅直方向的处理外壳的数量。这是因为铅直方向上的衬底处理装置的长度变得过大。
[0008]
本发明是鉴于此种事项而完成的，目的在于提供一种能减少供气单元从处理外壳朝上方伸出的供气单元的突出长度的衬底处理装置。
[0009]
[解决问题的技术手段]
[0010]
本发明为了达成此种目的，设为如下的构成。也就是说，本发明是一种衬底处理装置，具备在内部处理衬底的第1处理外壳、及将气体供给到所述第1处理外壳的内部的第1供气单元，所述第1供气单元具备：过滤器，配置在所述第1处理外壳的上部，将气体吹出到所述第1处理外壳的内部；导管，设置在所述第1处理外壳的外部，连接到所述过滤器；及风扇，设置在所述第1处理外壳的外部，连接到所述导管；所述风扇在俯视下配置在不与所述过滤器重叠的位置，所述风扇的至少一部分配置在与所述第1处理外壳相同的高度位置。
[0011]
衬底处理装置具备第1处理外壳与第1供气单元。第1处理外壳在第1处理外壳的内
部处理衬底。第1供气单元将气体供给到第1处理外壳的内部。第1供气单元具备过滤器、导管及风扇。过滤器配置在第1处理外壳的上部。过滤器将气体吹出到第1处理外壳的内部。导管与风扇分别设置在第1处理外壳的外部。导管连接到过滤器。风扇连接到导管。
[0012]
此处，风扇在俯视下配置在不与过滤器重叠的位置。因此，过滤器与风扇不排列在铅直方向上。此外，风扇的至少一部分配置在与第1处理外壳相同的高度位置。因此，风扇的至少一部分不从第1处理外壳朝上方突出。因此，减少第1供气单元从第1处理外壳朝上方伸出的第1供气单元的突出长度。
[0013]
如上所述，根据本发明的衬底处理装置，能减少第1供气单元从第1处理外壳朝上方伸出的第1供气单元的突出长度。以下，将第1供气单元从第1处理外壳朝上方伸出的第1供气单元的突出长度简称为“第1供气单元的突出长度”。
[0014]
所述衬底处理装置中，优选为所述风扇的至少一部分配置在比所述过滤器低的位置。风扇的高度位置相对较低。因此，适宜地减少第1供气单元的突出长度。
[0015]
所述衬底处理装置中，优选为所述风扇在俯视下配置在不与所述第1处理外壳重叠的位置。风扇不配置在第1处理外壳的上方。因此，有效地减少第1供气单元的突出长度。
[0016]
所述衬底处理装置中，优选为所述第1供气单元从所述第1处理外壳朝上方伸出的所述第1供气单元的突出长度为铅直方向上的所述过滤器的长度的2倍以下。第1供气单元的突出长度充分小。
[0017]
所述衬底处理装置中，优选为所述导管具备：第1水平部，从所述过滤器大致水平方向地延伸；铅直部，从所述第1水平部朝下方延伸；及第2水平部，从所述铅直部大致水平方向地延伸到所述风扇，配置在比所述第1水平部低的位置。通过铅直部，能容易地将第2水平部配置在比第1水平部低的位置。通过第2水平部，能容易地降低风扇的高度位置。因此，适宜地减少第1供气单元的突出长度。
[0018]
所述衬底处理装置中，优选为所述第1处理外壳具备上板，所述上板具备：第1上板部，供设置所述过滤器；及第2上板部，配置在所述铅直部及所述第2水平部的下方；所述第2上板部比所述第1上板部低。第2上板部比第1上板部低。因此，能容易地降低铅直部的高度位置。此外，能容易地降低第2水平部的高度位置。因此，能容易地降低风扇的高度位置。因此，适宜地减少第1供气单元的突出长度。
[0019]
所述衬底处理装置中，优选为所述导管的一部分在前视下与所述过滤器重叠。换言之，优选为导管的一部分配置在与过滤器相同的高度位置。导管的高度位置相对较低。因此，适宜地减少第1供气单元的突出长度。
[0020]
所述衬底处理装置中，优选为所述导管具备：扁平部，配置在所述过滤器的上方，在水平方向延伸，朝下方吹出气体；铅直方向上的所述扁平部的长度小于铅直方向上的所述过滤器的长度。铅直方向上的扁平部的长度小于铅直方向上的过滤器的长度。也就是说，扁平部薄于过滤器。因此，适宜地减少第1供气单元的突出长度。
[0021]
所述衬底处理装置中，优选为铅直方向上的所述扁平部及所述过滤器整体的长度小于铅直方向上的所述过滤器的长度的2倍。扁平部的高度位置相对较低。因此，适宜地减少第1供气单元的突出长度。
[0022]
所述衬底处理装置中，优选为所述扁平部的上表面的高度位置相当于所述导管的上端。导管的上端相对较低。因此，适宜地减少第1供气单元的突出长度。
[0023]
所述衬底处理装置中，优选为所述导管具备：外槽部，连通连接到所述扁平部的周缘部，将气体输送到所述扁平部；铅直方向上的所述外槽部的长度大于铅直方向上的所述扁平部的长度。铅直方向上的外槽部的长度大于铅直方向上的扁平部的长度。因此，外槽部能将气体顺利地供给到扁平部。
[0024]
所述衬底处理装置中，优选为所述外槽部在俯视下具有包围所述扁平部的环形状。外槽部能将气体供给到扁平部的整个周缘部。外槽部能通过整个周缘部将气体供给到扁平部。
[0025]
所述衬底处理装置中，优选为所述外槽部从所述扁平部的所述周缘部朝下方延伸，所述外槽部的至少一部分在前视下与所述过滤器重叠。外槽部从扁平部的周缘部朝下方延伸。因此，能容易地降低外槽部的高度位置。外槽部的至少一部分在前视下与过滤器重叠。因此，外槽部的高度位置相对较低。因此，适宜地减少第1供气单元的突出长度。
[0026]
所述衬底处理装置中，优选为所述导管具备：挡板，设置在所述外槽部，将流过所述外槽部的气体的一部分引导到所述扁平部。通过挡板，气体从外槽部更顺利地流到扁平部。因此，过滤器适宜地吹出气体。因此，能在第1处理外壳的内部适当地处理衬底。
[0027]
所述衬底处理装置中，优选为所述挡板相对于所述外槽部延伸的方向交叉。挡板能将流过外槽部的气体的一部分适宜地引导到扁平部。
[0028]
所述衬底处理装置中，优选为所述衬底处理装置具备：搬送空间，在水平的第1方向延伸，与所述第1处理外壳相邻；搬送机构，设置在所述搬送空间，将衬底搬送到所述第1处理外壳的内部；及配管空间，与所述第1处理外壳相邻；所述第1处理外壳与所述搬送空间在俯视下排列在与所述第1方向正交的水平的第2方向，所述第1处理外壳与所述配管空间排列在所述第1方向上，所述风扇朝所述配管空间打开，所述风扇将所述配管空间的气体输送到过滤器。搬送空间在第1方向延伸。第1处理外壳与搬送空间在俯视下排列在第2方向上。第1处理外壳与配管空间在俯视下排列在第1方向上。此处，第2方向与第1方向正交。因此，搬送空间与配管空间不会互相干涉，搬送空间与配管空间分别与第1处理外壳相邻。风扇朝与第1处理外壳相邻的配管空间打开。风扇将与第1处理外壳相邻的配管空间的气体输送到过滤器。因此，风扇不会与搬送机构干涉，风扇容易地配置到第1处理外壳附近。因此，容易将第1供气单元小型化。
[0029]
所述衬底处理装置中，优选为所述第1处理外壳具备：排气端口，形成在面向所述配管空间的位置；所述风扇配置在所述排气端口的上方。风扇不与排气端口干涉。
[0030]
所述衬底处理装置中，优选为所述衬底处理装置具备：水平排气部，设置在所述配管空间，连接到所述排气端口，在水平方向延伸；及铅直排气部，设置在所述配管空间，连接到所述水平排气部，在铅直方向延伸；所述风扇配置在比所述水平排气部高的位置，所述风扇与所述铅直排气部从第1方向观察时排列在所述第2方向上。风扇配置在比水平排气部高的位置。因此，风扇不与水平排气部干涉。风扇与铅直排气部从第1方向观察时排列在第2方向上。换言之，风扇与铅直排气部在前视下排列在第2方向上。因此，风扇不与铅直排气部干涉。
[0031]
所述衬底处理装置中，优选为所述铅直排气部具备：第1铅直排气管，在铅直方向延伸；及第2铅直排气管，在铅直方向延伸；所述水平排气部具备：切换机构，将所述第1处理外壳的排气路切换为所述第1铅直排气管及所述第2铅直排气管中的1个；所述风扇、所述第
1铅直排气管及所述第2铅直排气管从第1方向观察时排列在所述第2方向上。通过切换机构、第1铅直排气管及第2铅直排气管，能从第1处理外壳的内部适当地排出气体。因此，能在第1处理外壳的内部适当地处理衬底。风扇、第1铅直排气管及第2铅直排气管从第1方向观察时排列在第2方向上。换言之，风扇、第1铅直排气管及第2铅直排气管在前视下排列在第2方向上。因此，风扇不与第1铅直排气管及第2铅直排气管干涉。
[0032]
所述衬底处理装置中，优选为所述衬底处理装置具备：压力感测器，测量所述第1处理外壳的内部气体的压力；及控制部，基于所述压力感测器的检测结果，控制所述风扇。控制部能适宜地控制第1处理外壳的内部气体的压力。因此，能在第1处理外壳的内部适当地处理衬底。
[0033]
所述衬底处理装置中，优选为具备：调整部，设置在所述第1处理外壳的内部，接收从所述过滤器吹出的气体，将气体朝下方吹出；及衬底保持部，设置在所述第1处理外壳的内部，配置在所述调整部的下方，保持衬底；所述过滤器将气体朝下方吹出，所述调整部具备：调整室，配置在所述过滤器的下方，在水平方向延伸，在俯视下大于所述过滤器；引导部件，设置在所述调整室，在所述调整室将气体朝下方引导；及吹出板，配置在所述调整室的下方，在水平方向延伸，具有多个吹出孔；整个所述引导部件在俯视下配置在所述过滤器的外侧，整个所述引导部件在俯视下配置在保持于所述衬底保持部的衬底的外侧。
[0034]
过滤器将气体吹出到第1处理外壳的内部。过滤器将气体朝下方吹出。调整部设置在第1处理外壳的内部。调整部具备调整室。调整室配置在过滤器的下方。因此，调整部能在调整室中适宜地接收从过滤器吹出的气体。
[0035]
调整部具备吹出板。吹出板配置在调整室的下方。吹出板在水平方向延伸。吹出板具有多个吹出孔。因此，调整部能通过吹出孔从吹出板朝下方适宜地吹出气体。
[0036]
衬底保持部设置在第1处理外壳的内部。衬底保持部配置在调整部的下方。衬底保持部保持衬底。因此，调整部能将气体适宜地供给到保持于衬底保持部的衬底。
[0037]
调整室在水平方向延伸。调整室在俯视下大于过滤器。调整室具备引导部件。引导部件设置在调整室。引导部件在调整室内将气体朝下方引导。整个引导部件在俯视下配置在过滤器的外侧。因此，引导部件防止吹出板包含吹出不良部分。吹出不良部分为实质上不吹出气体的吹出板的部分。因此，吹出板不包含实质上不吹出气体的喷出口。所有喷出孔都吹出气体。
[0038]
整个引导部件在俯视下配置在保持于衬底保持部的衬底的外侧。此处，将位于引导部件的下方的吹出板的部分称为引导区。将引导区吹出的气流称为第3吹出流。引导区在俯视下配置在保持于衬底保持部的衬底的外侧。第3吹出流相对较强。因此，第3吹出流保护保持于衬底保持部的衬底不受第3吹出流外侧的氛围的影响。因此，第3吹出流将保持于衬底保持部的衬底保持清洁。结果，衬底处理装置能品质良好地处理保持于衬底保持部的衬底。
[0039]
所述衬底处理装置中，优选为所述引导部件仅配置在所述调整室的上部，且在铅直方向延伸。引导部件在调整室内能适宜地将气体朝下方引导。此外，气体无停滞地流过调整室的下部。因此，调整室的气体沿着吹出板顺利流动。结果，引导部件更适宜地防止吹出板包含吹出不良部分。
[0040]
所述衬底处理装置中，优选为具备将所述调整室的侧部封闭的阻断壁。阻断壁防
止气体通过调整室的侧部从调整室流出。因此，调整室内的所有气体通过吹出孔从吹出板排出。因此，阻断部件防止吹出板包含吹出不良部分。
[0041]
所述衬底处理装置中，优选为具备：喷出部，设置在所述第1处理外壳的内部，将处理液喷出到保持于所述衬底保持部的衬底；所述喷出部包含能移动到喷出位置与待机位置的前端部，所述前端部位于待机位置时，所述前端部在俯视下配置在保持于所述衬底保持部的衬底的外侧，所述前端部位于待机位置时，所述引导部件在俯视下配置在所述前端部与保持于所述衬底保持部的衬底之间。前端部位于待机位置时，引导部件在俯视下配置在前端部与保持于衬底保持部的衬底之间。因此，前端部位于待机位置时，引导区在俯视下配置在前端部与保持于衬底保持部的衬底之间。前端部位于待机位置时，第3吹出流朝前端部与保持于衬底保持部的衬底之间吹出。因此，前端部位于待机位置时，第3吹出流保护保持于衬底保持部的衬底免受前端部的影响。因此，第3吹出流将保持于衬底保持部的衬底保持得更清洁。结果，衬底处理装置能品质良好地处理保持于衬底保持部的衬底。
[0042]
所述衬底处理装置中，优选为具备：杯，设置在所述第1处理外壳的内部，配置在所述衬底保持部的周围，接收处理液；所述引导部件的至少一部分在俯视下与所述杯重叠。引导部件的至少一部分在俯视下与杯重叠。因此，引导区的至少一部分在俯视下与杯重叠。第3吹出流的至少一部分朝杯吹出。因此，第3吹出流有效地保护保持于衬底保持部的衬底。因此，第3吹出流有效地将保持于衬底保持部的衬底保持清洁。结果，衬底处理装置能品质良好地处理保持于衬底保持部的衬底。
[0043]
所述衬底处理装置中，优选为所述吹出板能装卸于所述第1处理外壳。能容易地保养吹出板。
[0044]
所述衬底处理装置中，优选为所述吹出板具备：第1部件；及第2部件，与所述第1部件相邻。吹出板包含第1部件与第2部件。第1部件小于吹出板的整体。因此，能更容易地保养第1部件。第2部件小于吹出板的整体。因此，能更容易地保养第2部件。因此，能更容易地保养吹出板。
[0045]
本发明是一种衬底处理装置，具备在内部处理衬底的第1处理外壳、及将气体供给到所述第1处理外壳的内部的第1供气单元，所述第1供气单元具备：过滤器，配置在所述第1处理外壳的上部，将气体吹出到所述第1处理外壳的内部；及导管，设置在所述第1处理外壳的外部，连接到所述过滤器；所述导管具备：扁平部，配置在所述过滤器的上方，在水平方向延伸，朝下方吹出气体；及外槽部，连通连接于所述扁平部的周缘部，将气体输送到所述扁平部；铅直方向上的所述外槽部的长度大于铅直方向上的所述扁平部的长度。
[0046]
铅直方向上的外槽部的长度大于铅直方向上的扁平部的长度。因此，外槽部能将气体顺利地供给到扁平部。结果，能容易地将扁平部薄化。因此，适宜地减少第1供气单元的突出长度。
附图说明
[0047]
为了说明发明，图示出当前认为适宜的若干个方式，但当理解发明不限定于图示的构成及对策。
[0048]
图1是表示实施方式的衬底处理装置的内部的俯视图。
[0049]
图2是处理块的前视图。
[0050]
图3是表示衬底处理装置的左部构成的左侧视图。
[0051]
图4是处理外壳的立体图。
[0052]
图5是处理外壳的俯视图。
[0053]
图6是处理外壳的侧视图。
[0054]
图7是处理外壳的前视图。
[0055]
图8是处理外壳的垂直剖视图。
[0056]
图9是导管的一部分的垂直剖视图。
[0057]
图10是导管的一部分的水平剖视图。
[0058]
图11是示意性表示扁平部及外槽部中的气体流动的图。
[0059]
图12是示意性表示扁平部及外槽部中的气体流动的图。
[0060]
图13是表示处理外壳的内部的俯视图。
[0061]
图14是衬底处理装置的控制块图。
[0062]
图15是变化实施方式的处理外壳的前视图。
[0063]
图16是变化实施方式的处理外壳的前视图。
[0064]
图17是表示变化实施方式的处理外壳的内部的俯视图。
[0065]
图18是变化实施方式的处理外壳的垂直剖视图。
[0066]
图19是变化实施方式的调整部的俯视图。
[0067]
图20是表示变化实施方式的处理外壳的内部的俯视图。
[0068]
图21是变化实施方式的处理外壳的垂直剖视图。
[0069]
图22是变化实施方式的吹出板的俯视图。
具体实施方式
[0070]
以下，参考附图说明本发明的衬底处理装置。
[0071]
《1.衬底处理装置的概要》
[0072]
图1是表示实施方式的衬底处理装置1的内部的俯视图。衬底处理装置1对衬底(例如，半导体晶圆)w进行处理。
[0073]
衬底w例如为半导体晶圆、液晶显示器用衬底、有机el(electroluminescence)用衬底、fpd(flat panel display)用衬底、光显示器用衬底、磁盘用衬底、光盘用衬底、磁光盘用衬底、光罩用衬底、太阳能用衬底。衬底w具有较薄的平板形状。衬底w在俯视下具有大致圆形状。
[0074]
衬底处理装置1具备传载部3与处理块11。处理块11连接到传载部3。传载部3将衬底w供给到处理块11。处理块11对衬底w进行处理。传载部3从处理块11回收衬底w。
[0075]
本说明书中，为方便起见，将传载部3与处理块11所排列的方向称为“前后方向x”。前后方向x为水平。将前后方向x中的从处理块11朝向传载部3的方向称为“前方”。将与前方相反的方向称为“后方”。将与前后方向x正交的水平方向称为“宽度方向y”。将“宽度方向y”的一个方向适当称为“右方”。将与右方相反的方向称为“左方”。将相对于水平方向垂直的方向称为“铅直方向z”。各图中，适当表示前、后、右、左、上、下作为参考。
[0076]
前后方向x为本发明的第1方向的例。宽度方向y为本发明的第2方向的例。
[0077]
不特别区分“前方”、“后方”、“右方”及“左方”的情况下，将其称为“水平方向”或“侧方”。
[0078]
传载部3具备多个(例如4个)载体载置部4。载体载置部4排列在宽度方向y上。各载体载置部4各自载置1个载体c。载体c收纳多块衬底w。载体c例如为foup(front opening unified pod：前开式晶圆传送盒)。
[0079]
传载部3具备搬送空间5。搬送空间5配置在载体载置部4的后方。
[0080]
传载部3具备搬送机构6。搬送机构6设置在搬送空间5。搬送机构6配置在载体载置部4的后方。搬送机构6搬送衬底w。搬送机构6能接取载置在载体载置部4的载体c。
[0081]
对搬送机构6的构造进行说明。搬送机构6具备手7与手驱动部8。手7将1块衬底w以水平姿势支撑。手驱动部8连结到手7。手驱动部8移动手7。
[0082]
例示手驱动部8的构造。手驱动部8具备第1驱动部8a与第2驱动部8b。第1驱动部8a自身无法在水平方向移动。第1驱动部8a支撑第2驱动部8b。第1驱动部8a使第2驱动部8b在铅直方向z移动。第1驱动部8a还使第2驱动部8b绕与铅直方向z平行的旋转轴线旋转。第2驱动部8b支撑手7。第2驱动部8b使手7相对于第1驱动部8a在水平方向进退移动。第2驱动部8b例如由多关节臂构成。
[0083]
根据所述手驱动部8，手7能在铅直方向z移动。手7能在水平方向移动。手7能在水平面内旋转。
[0084]
处理块11具备搬送空间12a。搬送空间12a配置在宽度方向y上的处理块11的中央部。搬送空间12a在前后方向x延伸。搬送空间12a的前部与传载部3的传送空间5相连。
[0085]
处理块11具备搬送机构13a。搬送机构13a设置在搬送空间12a。搬送机构13a搬送衬底w。
[0086]
处理块11具备衬底载置部16a。衬底载置部16a设置在搬送空间12a。衬底载置部16a配置在搬送机构13a的前方。搬送机构13a能接取衬底载置部16a。传载部3的搬送机构6也能接取衬底载置部16a。衬底载置部16a载置在搬送机构6与搬送机构13a之间搬送的衬底w。
[0087]
图2是处理块11的前视图。处理块11除搬送空间12a外，还具备搬送空间12b。搬送空间12b配置在搬送空间12a的下方。搬送空间12b在俯视下配置在与搬送空间12a相同的位置。搬送空间12b与传载部3的搬送空间5相连。
[0088]
处理块11具备1个隔板17。隔板17配置在搬送空间12a的下方且搬送空间12b的上方。隔板17具有水平的板形状。隔板17将搬送空间12a与搬送空间12b隔开。
[0089]
处理块11除搬送机构13a，还具备搬送机构13b。搬送机构13b设置在搬送空间12b。搬送机构13b设置在搬送机构13a的下方。搬送机构13b搬送衬底w。
[0090]
虽省略图示，但处理块11具备设置在搬送空间12b的衬底载置部。因此，搬送机构6与搬送机构13b能互相交接衬底w。
[0091]
搬送机构13a、13b彼此具有相同的构造。不区分搬送机构13a、13b的情况下，将其适当称为搬送机构13。
[0092]
不区分搬送空间12a、12b的情况下，将其适当称为搬送空间12。
[0093]
对搬送机构13的构造进行说明。搬送机构13具备手14与手驱动部15。手14将1块衬底w以水平姿势支撑。手驱动部15连结到手14。手驱动部15移动手14。手驱动部15将手14在前后方向x、宽度方向y及垂直方向z移动。
[0094]
例示手驱动部15的构造。手驱动部15例如具备2根支柱15a、垂直移动部15b、水平移动部15c、旋转部15d及进退移动部15e。支柱15a固定设置。支柱15a配置在搬送空间12的侧部。2根支柱15a排列在前后方向x上。各支柱15a在铅直方向z延伸。各支柱15a支撑垂直移动部15b。垂直移动部15b跨及2根支柱15a之间在前后方向x延伸。垂直移动部15b相对于支柱15a在铅直方向z平行移动。垂直移动部15b支撑水平移动部15c。水平移动部15c相对于垂直移动部15b在前后方向x平行移动。水平移动部15c支撑旋转部15d。旋转部15d相对于水平移动部15c旋转。旋转部15d绕与铅直方向z平行的旋转轴线旋转。旋转部15d支撑进退移动部15e。进退移动部15e支撑手14。进退移动部15e使手14相对于旋转部15d进退移动。进退移动部15e使手14相对于旋转部15d进退移动。进退移动部15e使手14在由旋转部15d的方向决定的水平的一个方向往复移动。
[0095]
根据所述手驱动部15，手14能在铅直方向z平行移动。手14能在前后方向x平行移动。手14能在水平面内旋转。手14能相对于旋转部15d进退移动。
[0096]
处理块11具备处理塔21a、21b、21c、21d。处理塔21a、21b配置在搬送空间12的左方。处理塔21a、21b排列在前后方向x上。处理塔21c、21d配置在搬送空间12的右方。处理塔21c、21d排列在前后方向x上。
[0097]
处理块11具备配管空间51a、51b、51c、51d。配管空间51a、51b配置在搬送空间12的左方。配管空间51a与处理塔21a相邻。配管空间51b与处理塔21b相邻。配管空间51c、51d配置在搬送空间12的右方。配管空间51c与处理塔21c相邻。配管空间51d与处理塔21d相邻。配管空间51a-51d分别与搬送空间12隔开。
[0098]
图3是表示衬底处理装置1的左部构成的左侧视图。处理塔21a具备多个(例如6个)处理外壳22。属于处理塔21a的所有处理外壳22在铅直方向z上排成一列。属于处理塔21a的处理外壳22相互积层。
[0099]
配管空间51a在铅直方向z延伸。配管空间51a与属于处理塔21a的各处理外壳22相邻。
[0100]
配管空间51a朝衬底处理装置1的外部打开。例如，处理块11具有形成在配管空间51a的上部的开口52。配管空间51a通过开口52与衬底处理装置1的外部连通。
[0101]
参考图2。属于处理塔21a的各处理外壳22与搬送空间12相邻。属于处理塔21a的一部分处理外壳22与搬送空间12a相邻。属于处理塔21a的其它处理外壳22与搬送空间12b相邻。
[0102]
参考图1-3。处理塔21b具备多个(例如6个)处理外壳22。属于处理塔21b的处理外壳22以与属于处理塔21a的处理外壳22相同的方式配置。配管空间51b以与配管空间51a相同的方式构成。因此，属于处理塔21b的各处理外壳22与配管空间51b相邻。属于处理塔21b的各处理外壳22与搬送空间12相邻。
[0103]
处理塔21c、21d各自具备多个(例如6个)处理外壳22。属于处理塔21c、21d的处理外壳22各自以与属于处理塔21a的处理外壳22相同的方式配置。配管空间51c、51d各自以与配管空间51a相同的方式构成。因此，属于处理塔21c的各处理外壳22与配管空间51c相邻。属于处理塔21c的各处理外壳22与搬送空间12相邻。属于处理塔21d的各处理外壳22与配管空间51d相邻。属于处理塔21d的各处理外壳22与搬送空间12相邻。
[0104]
搬送机构13将衬底w搬送到属于处理塔21a-21d的所有处理外壳22。具体而言，搬
送机构13a将衬底w搬送到与搬送空间12a相邻的处理外壳22。搬送机构13b将衬底w搬送到与搬送空间12b相邻的处理外壳22。
[0105]
参考图1。处理外壳22与搬送空间12在俯视下排列于宽度方向y。例如，属于处理塔21a的处理外壳22与搬送空间12在俯视下排列于宽度方向y。例如，属于处理塔21c的处理外壳22与搬送空间12在俯视下排列于宽度方向y。
[0106]
不区分配管空间51a-51d的情况下，将其适当称为配管空间51。处理外壳22与配管空间51在俯视下排列于前后方向x。例如，属于处理塔21a的处理外壳22和与处理塔21a相邻的配管空间51a在俯视下排列于前后方向x。例如，属于处理塔21c的处理外壳22和与处理塔21c相邻的配管空间51c在俯视下排列于前后方向x。
[0107]
1个处理外壳22为本发明的第1处理外壳的例。
[0108]
《2.处理外壳22的内部构成》
[0109]
参考图1。属于处理塔21a-21d的处理外壳22彼此具有相同的构造。处理外壳22在处理外壳22的内部处理衬底w。处理外壳22在处理外壳22的内部划分用以处理衬底w的处理空间。衬底处理装置1具备衬底保持部26与喷出部27。衬底保持部26配置在处理外壳22的内部。衬底保持部26保持衬底w。喷出部27配置在处理外壳22的内部。喷出部27将处理液喷出到保持在衬底保持部26的衬底w。
[0110]
图4是处理外壳22的立体图。图5是处理外壳22的俯视图。图6是处理外壳22的侧视图。图6是从宽度方向y观察的处理外壳22的图。图7是处理外壳22的前视图。图7是从前后方向x观察的处理外壳22的图。处理外壳22具有大致箱形状。
[0111]
处理外壳22具有搬送口25。搬送口25配置于与搬送空间12相邻的位置。搬送口25面向搬送空间12。衬底w能穿过搬送口25。搬送机构13将衬底w搬送到处理外壳22的内部。搬送机构13通过搬送口25将衬底w搬送到衬底保持部26。
[0112]
图8是处理外壳的垂直剖视图。图8为了方便起见省略喷出部27的图示。衬底保持部26将1块衬底w以水平姿势保持。
[0113]
衬底处理装置1具备旋转驱动部28。旋转驱动部28设置在处理外壳22的内部。旋转驱动部28连结到衬底保持部26。旋转驱动部28使衬底保持部26旋转。保持在衬底保持部26的衬底w与衬底保持部26一体地旋转。
[0114]
衬底处理装置1具备杯29。杯29设置在处理外壳22的内部。杯29具有大致筒形状。杯29配置在衬底保持部26的周围。杯29接住从保持在衬底保持部26的衬底w飞散的处理液。
[0115]
处理外壳22具有上板24。上板24配置在处理外壳22的上部。上板24在大致水平方向延伸。
[0116]
上板24具有朝下方凹陷的凹部空间s。具体而言，上板24具有第1上板部24a与第2上板部24b。第2上板部24b低于第1上板部24a。第2上板部24b在铅直方向z上配置在低于第1上板部24a的高度位置。第1上板部24a配置在衬底保持部26的上方。第2上板部24b配置在靠近配管空间51的位置。凹部空间s位于第2上板部24b的上方。
[0117]
《3.供气单元的构成》
[0118]
参考图2、3。衬底处理装置1具备多个(例如24个)供气单元30。供气单元30将气体(例如空气)供给到处理外壳22的内部。
[0119]
供气单元30相对于各处理外壳22各设置1个。各供气单元30将气体仅供给到1个处
理外壳22。各供气单元30不对多于1个的处理外壳22供给气体。
[0120]
1个供气单元30为本发明的第1供气单元的例。
[0121]
图8为方便起见图示供气单元30的整体。供气单元30具备过滤器31、导管32及风扇41。过滤器31配置在处理外壳22的上部。过滤器31将气体吹出到处理外壳22的内部。导管32设置在处理外壳22的外部。导管32连接在过滤器31。风扇41设置在处理外壳22的外部。风扇41连接到导管32。
[0122]
过滤器31设置在上板24。过滤器31设置在第1上板部24a。过滤器31配置在衬底保持部26的上方。
[0123]
风扇41输送气体。气体从风扇41通过导管32流到过滤器31。1个风扇41仅对1个过滤器31输送气体。过滤器31过滤气体。过滤器31将过滤后的气体吹出。过滤器31例如为ulpa(ultra low penetration air：超低渗透空气)过滤器。气体从过滤器31流到处理外壳22的内部。1个风扇41仅对1个处理外壳22输送气体。1个风扇41的送风量相当于对1个处理外壳22的气体的供给量。
[0124]
风扇41在水平方向输送气体。过滤器31朝下方吹出气体。图8示意性表示风扇41输送的气体流动、与过滤器31吹出的气体流动。风扇41的送风方向与过滤器31的吹出方向不同。例如，风扇41的送风方向与过滤器31的吹出方向正交。
[0125]
从过滤器31吹出的气体到达衬底保持部26。朝下方流动的气流(降流)形成在保持于衬底保持部26的衬底w的周围。
[0126]
说明处理外壳22、过滤器31、导管32及风扇41的配置。
[0127]
过滤器31的至少一部分配置在比处理外壳22高的位置。例如，整个过滤器31配置在比处理外壳22高的位置。例如，整个过滤器31配置在处理外壳22的上方。
[0128]
导管32的一部分配置在比处理外壳22高的位置。导管32的其它部分配置在与处理外壳22相同的高度位置。具体而言，处理外壳22具有上端23t与下端23b。例如，上板24的高度位置相当于上端23t。例如，第1上板部24a的高度位置相当于上端23t。导管32的一部分配置在比上端23t高的位置。导管32的其它部分配置在与上端23t同等或比其低，且与下端23b同等或比其高的高度位置。整个导管32配置在与下端23b同等或比其高的高度位置。
[0129]
导管32的至少一部分配置在处理外壳22的上方。导管32接近上板24配置。导管32沿着上板24延伸。
[0130]
导管32从过滤器31延伸到比过滤器31低的位置。具体而言，导管32具有配置在比过滤器31高的位置的部分、与比过滤器31低的位置的部分。因此，导管32从比过滤器31高的位置遍及到比过滤器31低的位置。
[0131]
导管32具有配置在过滤器31的上方的部分。导管32覆盖过滤器31的上方。导管32从过滤器31大致水平方向地延伸。导管32从过滤器31延伸到配管空间51。
[0132]
风扇41的至少一部分配置在与处理外壳22相同的高度位置。风扇41的至少一部分配置在与上端23t同等或比其低，且与下端23b同等或比其高的高度位置。
[0133]
整个风扇41配置在比下端23b高的位置。
[0134]
风扇41包含配置在比处理外壳22高的位置的部分。因此，风扇41从比上端23t高的位置遍及到比上端23t低的位置。
[0135]
风扇41具有配置在比第2上板部24b低的位置的部分。因此，风扇41从比第1上板部
24a高的位置遍及到比第2上板部24b低的位置。
[0136]
风扇41配置在处理外壳22的侧方。整个风扇41配置在处理外壳22的侧方。风扇41未配置在处理外壳22的上方。
[0137]
风扇41的至少一部分配置在比过滤器31低的位置。风扇41的至少一部分在铅直方向z上配置在比过滤器31低的高度位置。
[0138]
风扇41包含配置在比过滤器31高的位置的部分。因此，风扇41从比过滤器31高的位置遍及到比过滤器31低的位置。
[0139]
风扇41配置在过滤器31的侧方。整个风扇41配置在过滤器31的侧方。风扇41未配置在过滤器31的上方。过滤器31与风扇41未排列在铅直方向z上。
[0140]
风扇41的至少一部分配置在与导管32同等或比其低的高度位置。具体而言，导管32具有上端32t。风扇41的至少一部分配置在与上端32t同等或比其低的高度位置。
[0141]
本实施方式中，整个风扇41配置在比上端32t低的位置。因此，上端32t相当于供气单元30的上端。
[0142]
图5以虚线表示过滤器31。过滤器31在俯视下具有大致矩形形状。整个过滤器31在俯视下与处理外壳22重叠。
[0143]
导管32的大部分在俯视下与处理外壳22重叠。导管32的其它部分在俯视下不与处理外壳22重叠。导管32的其它部分配置在配管空间51。
[0144]
导管32在俯视下与整个过滤器31重叠。
[0145]
风扇41在俯视下配置在不与处理外壳22重叠的位置。风扇41在俯视下不具有与处理外壳22重叠的部分。
[0146]
风扇41在俯视下配置在不与过滤器31重叠的位置。风扇41在俯视下不具有与过滤器31重叠的部分。
[0147]
风扇41配置在配管空间51。例如，整个风扇41配置在配管空间51。
[0148]
风扇41朝配管空间51打开。风扇41提取配管空间51的气体。风扇41将配管空间51的气体输送到过滤器31。
[0149]
图6以虚线显示过滤器31的一部分。导管32的一部分在侧视处理外壳22时与过滤器31重叠。风扇41在侧视处理外壳22时不与处理外壳22重叠。本说明书中，“侧视”的含义与“从宽度方向y观察”相同。
[0150]
图7以虚线表示处理外壳22的一部分。导管32的一部分在前视处理外壳22时与过滤器31重叠。风扇41的至少一部分在前视处理外壳22时与处理外壳22重叠。本说明书中，“前视”的含义与“从前后方向x观察”相同。
[0151]
《4.过滤器31与导管32的详细构成》
[0152]
参考图8。过滤器31在水平方向延伸。过滤器31具有扁平形状。图8表示铅直方向上的过滤器31的长度l1。铅直方向z上的过滤器31的长度l1短于水平方向上的过滤器31的长度。
[0153]
过滤器31具有上表面31a与下表面31b。上表面31a及下表面31b分别为大致水平。过滤器31从上表面31a提取气体。过滤器31从下表面31b释放气体。下表面31b相当于过滤器31的吹出面。
[0154]
过滤器31的上表面31a配置在比处理外壳22高的位置。过滤器31的下表面31b配置
在与第1上板部24a大致相同的高度位置。
[0155]
参考图4、6。导管32具备第1水平部33、铅直部38及第2水平部39。第1水平部33从过滤器31在水平方向延伸。铅直部38从第1水平部33朝下方延伸。第2水平部39在水平方向上从铅直部38延伸到风扇41。第2水平部39的至少一部分配置在比第1水平部33低的位置。第2水平部39的至少一部分在铅直方向z上配置在比第1水平部33低的高度位置。例如，整个第2水平部39配置在比第1水平部33低的位置。
[0156]
参考图5。整个第1水平部33在俯视下与处理外壳22重叠。整个铅直部38在俯视下与处理外壳22重叠。第2水平部39具有在俯视下与处理外壳22重叠的部分、及不与处理外壳22重叠的部分。
[0157]
第1水平部33在俯视下与整个过滤器31重叠。铅直部38在俯视下不与过滤器31重叠。第2水平部39在俯视下不与过滤器31重叠。
[0158]
第1水平部33具备扁平部34。扁平部34具有周缘部35。扁平部34在俯视下具有大致矩形形状。
[0159]
扁平部34在俯视下与整个过滤器31重叠。扁平部34在俯视下具有与过滤器31大致相同的大小。扁平部34在俯视下稍微大于过滤器31。
[0160]
第1水平部33具备外槽部36。外槽部36在俯视下配置在扁平部34的周围。外槽部36在俯视下具有包围扁平部34的环形状。外槽部36连通连接到扁平部34的周缘部35。具体而言，外槽部36连通到扁平部34的周缘部35。外槽部36连接到扁平部34的周缘部35。外槽部36连接到扁平部34的整个周缘部35。外槽部36连接到扁平部34的周缘部35的整周。
[0161]
外槽部36在俯视下具有包围过滤器31的环形状。外槽部36在俯视下不与过滤器31重叠。
[0162]
此外，外槽部36从扁平部34的周缘部35的一部分延伸到铅直部38。扁平部34经由外槽部36间接连接到铅直部38。铅直部38将气体输送到外槽部36。外槽部36将气体输送到扁平部34。扁平部34朝下方吹出气体。扁平部34将气体供给到过滤器31。
[0163]
参考图8。第1水平部33配置在第1上板部24a的上方。第1水平部33沿着第1上板部24a延伸。铅直部38配置在第2上板部24b的上方。铅直部38延伸到比第1上板部24a低的位置。第2水平部39配置在第2上板部24b的上方。第2水平部39的至少一部分配置在比第1上板部24a低的位置。铅直部38与第2水平部39分别配置在凹部空间s。第2水平部39沿着第2上板部24b延伸。第2水平部39延伸到配管空间51。
[0164]
第1水平部33包含导管32的上端32t。
[0165]
扁平部34在水平方向延伸。扁平部34配置在过滤器31的上方。扁平部34覆盖过滤器31的上方。扁平部34接近过滤器31配置。扁平部34朝下方吹出气体。
[0166]
如上所述，图8表示铅直方向z上的过滤器31的长度l1。图8还表示铅直方向z上的扁平部34及过滤器31整体的长度l2。长度l2大于长度l1。长度l2小于长度l1的2倍。
[0167]
外槽部36从扁平部34朝下方延伸。外槽部36延伸到比过滤器31的上表面31a低的位置。整个外槽部36配置在比过滤器31的下表面31b高的位置。外槽部36接近过滤器31的侧方配置。
[0168]
外槽部36不从扁平部34朝上方延伸。外槽部36不延伸到比扁平部34高的位置。整个外槽部36配置在与扁平部34同等或比其低的高度位置。
[0169]
图6表示的第1水平部33相当于外槽部36。外槽部36大致水平方向地延伸。外槽部36的至少一部分在侧视处理外壳22时与过滤器31重叠。
[0170]
图7表示的第1水平部33相当于外槽部36。外槽部36的至少一部分在前视处理外壳22时与过滤器31重叠。
[0171]
图9是导管32的一部分的垂直剖视图。扁平部34具有上表面34a。上表面34a的高度位置相当于导管32的上端32t。上表面34a的高度位置相当于供气单元30的上端。
[0172]
扁平部34具有下表面34b与开口34c。下表面34b与开口34c配置在上表面34a的下方。开口34c形成在下表面34b。开口34c遍及下表面34b的大部分。下表面34b的位置相当于扁平部34的周缘部35的位置。
[0173]
开口34c在俯视下具有与过滤器31大致相同的大小。开口34c配置在过滤器31的上表面31a的上方。开口34c接近过滤器31的上表面31a配置。扁平部34从开口34c吹出气体。扁平部34通过开口34c将气体供给到过滤器31。
[0174]
外槽部36从扁平部34的周缘部35朝下方延伸。
[0175]
图9表示铅直方向z上的扁平部34的长度l3。长度l3小于长度l1。图9表示铅直方向z上的外槽部36的长度l4。长度l4大于长度l3。
[0176]
图10是导管32的一部分的水平剖视图。周缘部35包含第1边35a、第2边35b、第3边35c及第4边35d。外槽部36包含第1部分36a、第2部分36b、第3部分36c及第4部分36d。第1部分36a连接到第1边35a。第1部分36a沿着第1边35a延伸。同样地，第2-第4部分36b-36d分别连接到第2-第4边35b-35d。第2-第4部分36b-36d分别沿着第2-第4边35b-36d延伸。第1-第4部分36a-36d环状相连。
[0177]
第1部分36a及第2部分36b分别延伸到铅直部38。第1部分36a及第2部分36b接近铅直部38。第3部分36c及第4部分36d远离铅直部38。第3部分36c在俯视下窄于第1部分36a及第2部分36b。第4部分36d在俯视下窄于第1部分36a及第2部分36b。
[0178]
导管32具备1个以上的挡板37。挡板37也称为障碍板。挡板37设置在外槽部36。挡板37将流过外槽部36的气体的一部分引导到扁平部34。
[0179]
挡板37相对于外槽部36延伸的方向交叉。挡板37例如相对于外槽部36延伸的方向正交。挡板37例如具有大致垂直的板形状。
[0180]
挡板37将外槽部36的流路缩小。挡板37仅阻断外槽部36的流路的一部分。挡板37例如仅配置在外槽部36的下部。
[0181]
本实施方式中，导管32具备3个挡板37。区分各挡板37的情况下，将其称为挡板37a、37b、37c。挡板37a设置在第2部分36b。挡板37b设置在第3部分36c。挡板37b俯视下在第3部分36c所延伸的方向上配置在第3部分36c的中央。挡板37c设置在第4部分36d。挡板37c俯视下在第4部分36d所延伸的方向上配置在第4部分36d的中央。
[0182]
对挡板37的效果进行说明。本发明者等人就扁平部34及外槽部36中的气体流动进行模拟。图11、12是示意性表示模拟结果的图。图11、12分别示意性表示扁平部34及外槽部36中的气体流动。
[0183]
图11表示导管32不具备挡板37时的模拟结果。导管32不具备挡板37的情况下，气体在扁平部34中容易涡旋。
[0184]
具体而言，未设置挡板37的情况下，气体容易朝外槽部36所延伸的方向流动。未设
置挡板37的情况下，气体不易从外槽部36流到扁平部34。例如，从第1部分36a流到第4部分36d的气体的量相对较多。换言之，从第1部分36a流到第1边35a的气体的量相对较少。从第2部分36b流到第3部分36c的量相对较多。换言之，从第2部分36b流到第2边35b的气体的量相对较少。将第3部分36c与第4部分36d相互连接的部分称为“连接部j”。从第3部分36c流到连接部j的气体的量相对较多。从第4部分36d流到连接部j的气体的量相对较多。气体碰撞到连接部j被弹回后流到扁平部34。因此，从连接部j流到扁平部34的第3边35c及第4边35d的气体的量相对较多。将靠近连接部j的扁平部34的部分称为“深部k”。深部k中容易产生气体的涡流。深部k中气体容易涡旋。在气体涡旋的区域，大多气体大致水平地流动，朝下方流动的气体较少。结果，在产生气体涡流的区域，朝下方流动的气体的量或速度明显降低。从扁平部34吹出的气体遍布扁平部34的整体明显不均。在产生气体涡流的区域，从扁平部34流到过滤器31的气体的量或速度明显降低。从扁平部34流到过滤器31的气体遍布扁平部34的整体明显不均。
[0185]
图12表示导管32具备挡板37时的模拟结果。导管32具备挡板37的情况下，气体在扁平部34中不易涡旋。
[0186]
具体而言，设置着挡板37的情况下，气体容易从外槽部36流到扁平部34。设置着挡板37的情况下，气体不易朝外槽部36所延伸的方向流动。例如，挡板37a使从第2部分36b流到第2边35b的气体的量增加。挡板37a使从第2部分36b流到第3部分36c的气体的量减少。挡板37b使从第3部分36c流到第3边35c的气体的量增加。挡板37b使从第3部分36c流到连接部j的气体的量减少。挡板37c使从第4部分36d流到第4边35d的气体的量增加。挡板37c使从第4部分36d流到连接部j的气体的量减少。结果，从连接部j流到扁平部34的气体的量减少。深部k中不易产生气体涡流。深部k以外的扁平部34的部分中，也不易产生气体涡流。也就是说，在扁平部34整体中不易产生气体涡流。结果，气体遍布扁平部34的整体实质上均匀地从扁平部34吹出。气体从扁平部34遍布扁平部34整体大致均匀地流到过滤器31。
[0187]
本发明者等人对过滤器31的吹出面中的风速分布也进行了模拟。过滤器31的吹出面为下表面31b。导管32不具备挡板37时的模拟结果如下所示。
[0188]
吹出面整体的气体的平均速度va1：0.18m/s
[0189]
气体的最大速度vmax1：0.194m/s
[0190]
气体的最小速度vmin1：0.153m/s
[0191]
速度均匀性u1：23％
[0192]
此处，速度均匀性u1是将最大速度vmax1与最小速度vmin1之间的差除以平均速度va1的值。
[0193]
u1＝(vmax1-vmin1)/va1*100
[0194]
虽省略图示，但将位于深部k正下方的过滤器31的部分称为“深部f”。深部f中的气体速度与平均速度va1相比明显降低。深部f中的气体速度接近最小速度vmin1。
[0195]
导管32具备挡板37时的模拟结果如下所示。
[0196]
吹出面整体的气体平均速度va2：0.18m/s
[0197]
气体的最大速度vmax2：0.190m/s
[0198]
气体的最小速度vmin2：0.176m/s
[0199]
速度均匀性u2：8％
[0200]
此处，速度均匀性u2为将最大速度vmax2与最小速度vmin2之间的差除以平均速度va2的值。
[0201]
u2＝(vmax2-vmin2)/va2*100
[0202]
如此，通过挡板37，过滤器31的吹出面中的风速被有效地均匀化。挡板37提高过滤器31的吹出面中的风速的均匀性。结果，过滤器31从过滤器31的吹出面将气体大致均匀地吹出。
[0203]
参考图8。本实施方式中，在过滤器31的下方且衬底保持部26的上方未设置整流部件。整流部件为调整气体流动的部件。整流部件例如为形成着多个小孔的板。因此，在气体从过滤器31流到衬底保持部26的期间，气体流路未被缩小为小于过滤器31的吹出面的面积。也就是说，气体的流路不会被缩小到小于过滤器31的吹出面的面积，气体从过滤器31到达衬底保持部26。
[0204]
《5.供气单元的突出长度》
[0205]
图6表示供气单元30从处理外壳22朝上方伸出的供气单元30的突出长度l5。本说明书中，将供气单元30从处理外壳22朝上方伸出的供气单元30的突出长度l5适当称为“供气单元30的突出长度l5”。供气单元30的突出长度l5为铅直方向z上的过滤器31的长度l1的2倍以下。
[0206]
供气单元30的突出长度l5例如如下般定义。供气单元30的突出长度l5为铅直方向z上重叠部分的上端与处理外壳22的上端23t之间的距离。此处，“重叠部分”为俯视下与处理外壳22重叠的供气单元30的部分。
[0207]
本实施方式中，供气单元30的重叠部分包含整个所述过滤器31与导管32的一部分。供气单元30的重叠部分不包含风扇41。这是因为风扇41在俯视下不与处理外壳22重叠。因此，风扇41不是突出长度l5的因子。供气单元30的重叠部分的上端相当于导管32的上端32t。因此，供气单元30的突出长度l5为铅直方向z上的上端32t与上端23t之间的距离。
[0208]
将铅直方向z上相邻的2个处理外壳22中的下侧的处理外壳22称为“第1处理外壳22a”，将上侧的处理外壳22称为“第2处理外壳22b”。将对第1处理外壳22a的内部供给气体的供气单元30称为“第1供气单元30a”。所述情况下，第2处理外壳22b配置在第1供气单元30a的导管32的上方。第2处理外壳22b接近第1供气单元30a的导管32配置。
[0209]
第1供气单元30a的风扇41在俯视下不与第2处理外壳22b重叠。因此，第1供气单元30a的风扇41不会与第2处理外壳22b干涉。
[0210]
《6.处理外壳22的排气构成》
[0211]
参考图7。处理外壳22具备排气端口53。排气端口53形成在面向配管空间51的位置。排气端口53形成在与配管空间51相接的处理外壳22的部分。处理外壳22的内部气体通过排气端口53排出到处理外壳22的外部。排气端口53配置在与处理外壳22相同的高度位置。整个排气端口53配置在与上端23t同等或比其低，且与下端23b同等或比其高的高度位置。排气端口53配置在接近下端23b的高度位置。排气端口53配置在处理外壳22的下部。
[0212]
排气端口53配置在风扇41的下方。风扇41与排气端口53在侧视处理外壳22时排列在铅直方向z上。
[0213]
风扇41与排气端口53分别配置在接近搬送空间12的位置。
[0214]
参考图2、4-6。衬底处理装置1具备多个(例如24个)水平排气部55。水平排气部55
对各处理外壳22各设置1个。水平排气部55设置在配管空间51。水平排气部55连接到排气端口53。水平排气部55在水平方向延伸。水平排气部55配置在与处理外壳22相同的高度位置。整个水平排气部55配置在与上端23t同等或比其低，且与下端23b同等或比其高的高度位置。水平排气部55配置在接近下端23b的高度位置。
[0215]
水平排气部55配置在比风扇41低的位置。水平排气部55在铅直方向z上配置在比风扇41低的高度位置。水平排气部55的一部分配置在接近搬送空间12的位置。水平排气部55的一部分配置在风扇41的下方。水平排气部55的一部分在俯视下与风扇41重叠。
[0216]
参考图6。如上所述，第1供气单元30a的风扇41配置在比第1供气单元30a的导管32的上端32t低的位置。第2处理外壳22b配置在第1供气单元30a的导管32的上方。因此，第1供气单元30a的风扇41配置在比第2处理外壳22b低的位置。
[0217]
将连接到第2处理外壳22b的水平排气部55称为“第2水平排气部55b”。整个第2水平排气部55b配置在与第2处理外壳22b相同的高度位置。因此，第1供气单元30a的风扇41配置在比第2水平排气部55b低的位置。因此，第1供给单元30a的风扇41不会与第2水平排气部55b干涉。根据同样的理由，第1供气单元30a的风扇41不会与第2处理外壳22b的排气端口(未图示)干涉。
[0218]
参考图2、4、5。衬底处理装置1具备多个(例如4个)铅直排气部60。铅直排气部60对在铅直方向z上排成1列的多个(例如6个)处理外壳22各设置1个。铅直排气部60设置在配管空间51。铅直排气部60连接在水平排气部55。各铅直排气部60连接到多个(例如6个)水平排气部55。铅直排气部60在铅直方向z延伸。
[0219]
铅直排气部60具备第1铅直排气管61、第2铅直排气管62及第3铅直排气管63。第1-第3铅直排气管61-63分别连接到水平排气部55。第1-第3铅直排气管61-63分别在铅直方向z延伸。
[0220]
参考图2。铅直排气部60从比风扇41低的位置延伸到比风扇41高的位置。风扇41与铅直排气部60从前后方向x观察时排列在宽度方向y上。也就是说，风扇41与铅直排气部60在前视时排列在宽度方向y上。风扇41配置在接近搬送空间12的位置。铅直排气部60配置在远离搬送空间12的位置。
[0221]
第1-第3铅直排气管61-63从前后方向x观察时排列在宽度方向y上。第1-第3铅直排气管61-63分别从比风扇41低的位置延伸到比风扇41高的位置。风扇41与第1-第3铅直排气管61-63从前后方向x观察时排列在宽度方向y上。也就是说，风扇41与第1-第3铅直排气管61-63在前视下排列在宽度方向y上。
[0222]
图13是处理外壳22的俯视图。水平排气部55具备切换机构56。切换机构56将处理外壳22的排气路切换为第1-第3铅直排气管61-63中的1个。此处，处理外壳22的排气路由水平排气部55与铅直排气部60划分。更详细而言，各水平排气部55划分1个处理外壳22的排气路。各铅直排气部60划分在铅直方向z上排成1列的所有处理外壳22的排气路。处理外壳22的排气路不对配管空间51打开。
[0223]
具体而言，切换机构56切换为第1状态、第2状态及第3状态。第1状态下，切换机构56使处理外壳22连通于第1铅直排气管61，且将处理外壳22与第2、第3铅直排气管62、63阻断。第1状态下，第1铅直排气管61专门从处理外壳22排出气体。也就是说，第1状态下，第2铅直排气管62不从处理外壳22排出气体，第3铅直排气管63也不从处理外壳22排出气体。第2
状态下，切换机构56使处理外壳22连通于第2铅直排气管62，且将处理外壳22与第1、第3铅直排气管61、63阻断。第2状态下，第2铅直排气管62专门从处理外壳22排出气体。第3状态下，切换机构56使处理外壳22连通于第3铅直排气管63，且将处理外壳22与第1、第2铅直排气管61、62阻断。第3状态下，第3铅直排气管63专门从处理外壳22排出气体。
[0224]
例如，切换机构56设置在水平排气部55的内部。切换机构56具备第1开闭部57、第2开闭部58及第3开闭部59。第1开闭部57使处理外壳22连通于第1铅直排气管61，且将处理外壳22与第1铅直排气管61阻断。第2开闭部58使处理外壳22连通于第2铅直排气管62，且将处理外壳22与第2铅直管62阻断。第3开闭部59使处理外壳22连通于第3铅直排气管63，且将处理外壳22与第3铅直排气管63阻断。第1-第3开闭部57-59分别为例如阀。
[0225]
《7.用来控制处理外壳22的内部气体的压力的构成》
[0226]
衬底处理装置1具备排气风门65。排气风门65设置在处理外壳22的排气路。排气风门65调整流过处理外壳22的排气路的气体的流量。例如，排气风门65设置在水平排气部55的内部。
[0227]
衬底处理装置1具备压力感测器67。压力感测器67测量处理外壳22的内部气体的压力。压力感测器67设置在处理外壳22的内部。
[0228]
图14是衬底处理装置1的控制方块图。衬底处理装置1具备控制部69。控制部69取得压力感测器67的检测结果。控制部69基于压力感测器67的检测结果，控制风扇41及排气风门65的至少任一个。由此，控制部69调整处理外壳22的内部气体的压力。例如，控制部69基于压力感测器67的检测结果，控制风扇41及排气风门65这两个。控制部69能通信地连接到风扇41、排气风门65及压力感测器67。
[0229]
例如，控制部69调整风扇41的送风量。例如，控制部69调整排气风门65的开度。
[0230]
例如，控制部69以将压力感测器67的检测结果保持一定的方式进行调整。例如，控制部69以将处理外壳22的内部气体的压力保持一定的方式进行调整。例如，控制部69以压力感测器67的检测结果变成预设的目标值的方式进行调整。例如，控制部69以处理外壳22的内部气体的压力变成预设的目标值的方式进行调整。
[0231]
此外，控制部69控制搬送机构6、搬送机构13、衬底保持部26、喷出部27、旋转驱动部28及切换机构56。
[0232]
控制部69由执行各种处理的中央运算处理装置(cpu，central processing unit)、作为运算处理的作业区域的ram(random-access memory：随机存取存储器)、固定磁盘等存储媒介等实现。存储媒介预先存储着各种信息。存储媒介存储例如规定在各处理外壳22的内部对衬底w进行的处理相关的动作条件的信息(处理参数)。存储媒介例如存储规定处理外壳22的内部气体的压力相关的条件或目标值的信息。存储媒介例如存储规定切换机构56进行的排气路的切换相关的动作条件的信息。
[0233]
《8.衬底处理装置1的动作例》
[0234]
简单说明衬底处理装置1的动作例。
[0235]
传载部3将衬底w供给到处理块11。具体而言，搬送机构6从载体c将衬底w移交给处理块11的搬送机构13。
[0236]
搬送机构13从传载部3将衬底w搬送到1个处理外壳22的内部(衬底保持部26)。
[0237]
供气单元30将气体供给到处理外壳22。具体而言，风扇41将气体输送到导管32。导
管32将气体输送到过滤器31。具体而言，气体按照第2水平部39、铅直部38及第1水平部33的顺序流动。在第1水平部33中，气体从外槽部36流到扁平部34，从扁平部34流到过滤器31。过滤器过滤气体。过滤器31将过滤后的气体吹出到处理外壳22的内部。气体在处理外壳22的内部流向下方。也就是说，在处理外壳22的内部形成降流。
[0238]
切换机构56将处理外壳22的排气路切换为第1-第3铅直排气管61-63的任一个。例如，切换机构56根据喷出部27喷出的处理液的种类，切换处理外壳22的排气路。
[0239]
例如，切换机构56将处理外壳22的排气路切换为第1铅直排气管61。所述情况下，处理外壳22的内部气体通过排气端口53、水平排气部55排出到第1铅直排气管61。
[0240]
控制部69基于压力感测器67的检测结果，控制风扇41及排气风门65的至少任一个。由此，控制部69调整处理外壳22的内部气体的压力。
[0241]
衬底w在处理外壳22的内部受处理。具体而言，衬底保持部26保持衬底w。旋转驱动部28使保持在衬底保持部26的衬底w旋转。喷出部27将处理液供给到保持在衬底保持部26的衬底w。杯29接住从衬底w飞散的处理液。
[0242]
在处理外壳22的内部处理衬底w后，处理块11使经处理的衬底w返回到传载部3。具体而言，搬送机构13从处理外壳22的内部(衬底保持部26)取得衬底w。接着，搬送机构13将衬底w移交到传载部3的搬送机构6。
[0243]
传载部3从处理块11回收衬底w。具体而言，搬送机构6从处理块11将衬底w搬送到载体c。
[0244]
《9.实施方式的效果》
[0245]
衬底处理装置1具备处理外壳22与供气单元30。处理外壳22在处理外壳22的内部处理衬底w。供气单元30将气体供给到处理外壳22的内部。供气单元30具备过滤器31、导管32、及风扇41。过滤器31配置在处理外壳22的上部。过滤器31将气体吹出到处理外壳22的内部。导管32与风扇41分别设置在处理外壳22的外部。导管32连接到过滤器31。风扇41连接到导管32。
[0246]
风扇41在俯视下配置在不与过滤器31重叠的位置。换言之，风扇41在俯视下不具有与过滤器31重叠的部分。因此，过滤器31与风扇41不排列在铅直方向z上。此外，风扇41的至少一部分配置在与处理外壳22相同的高度位置。换言之，风扇41的至少一部分配置在与处理外壳22的上端23t同等或比其低，且与处理外壳22的下端23b同等或比其高的高度位置。因此，风扇41的至少一部分不从处理外壳22朝上方突出。过滤器31配置在处理外壳22的上部的情况下，也能抑制风扇41从处理外壳22朝上方明显伸出。过滤器31配置在处理外壳22的上部的情况下，风扇41也不从处理外壳22朝上方过度突出。因此，供气单元30的突出长度l5减少。
[0247]
如上所述，根据衬底处理装置1，能减少供气单元30的突出长度l5。
[0248]
结果，能将铅直方向z上相邻的2个处理外壳22接近配置。换言之，能减少铅直方向z上相邻的2个处理外壳22间的分隔距离。因此，即便铅直方向z上排列的处理外壳22的数量增加，铅直方向z上的衬底处理装置1的长度也不会过大。因此，能容易地增加铅直方向z上排列的处理外壳22的数量。由此，能抑制衬底处理装置1的面积增大，且提高衬底处理装置1的处理能力。
[0249]
风扇41的至少一部分配置在比过滤器31低的位置。因此，风扇41的高度位置相对
较低。因此，适宜地减少供气单元30的突出长度l5。
[0250]
导管32的至少一部分配置在比过滤器31低的位置。因此，容易将风扇41的至少一部分配置在比过滤器31低的位置。
[0251]
风扇41在俯视下配置在不与处理外壳22重叠的位置。换言之，风扇41在俯视下不具有与处理外壳22重叠的部分。因此，风扇41不配置在处理外壳22的上方。因此，风扇41非供气单元30的突出长度l5的因子。因此，有效地减少供气单元30的突出长度l5。
[0252]
供气单元30的突出长度l5为铅直方向z上的过滤器的长度l1的2倍以下。供气单元30的突出长度l5充分小。
[0253]
供气单元30的突出长度l5为铅直方向z上供气单元30的重叠部分的上端与处理外壳22的上端22t之间的距离。因此，减少供气单元30的突出长度l5相当于将供气单元30的重叠部分薄型化。因此，通过减少供气单元30的突出长度l5，能减少铅直方向z上相邻的2个处理外壳22之间的分隔距离。
[0254]
导管32的上端32t相当于供气单元30的上端。因此，适宜地减少供气单元30的突出长度l5。
[0255]
导管32具备第1水平部33、铅直部38及第2水平部39。第1水平部33从过滤器31大致水平方向地延伸。铅直部38从第1水平部33朝下方延伸。第2水平部39从铅直部38大致水平方向地延伸到风扇41。第2水平部39配置在比第1水平部33低的位置。如此，通过铅直部38，能容易地将第2水平部39配置到比第1水平部33低的位置。通过第2水平部39，能容易地降低风扇41的高度位置。因此，适宜地减少供气单元30的突出长度l5。
[0256]
处理外壳22具备上板部24。上板24具备第1上板部24a与第2上板部24b。过滤器31设置在第1上板部24a。第2上板部24b配置在铅直部38及第2水平部39的下方。第2上板部24b比第1上板部24a低。铅直部38及第2水平部39配置在第2上板部24b的上方。因此，能容易地降低铅直部38的高度位置。此外，能容易地降低第2水平部39的高度位置。因此，能容易地降低风扇41的高度位置。因此，适宜地减少供气单元30的突出长度l5。
[0257]
导管32的一部分在前视下与过滤器31重叠。换言之，导管32的一部分配置在与过滤器31相同的高度位置。因此，导管32的高度位置相对较低。因此，适宜地减少供气单元30的突出长度l5。
[0258]
导管32具备扁平部34。扁平部34配置在过滤器31的上方。扁平部34在水平方向延伸。扁平部34朝下方吹出气体。铅直方向z上的扁平部34的长度l3小于铅直方向z上的过滤器31的长度l1。也就是说，扁平部34薄于过滤器31。因此，适宜地减少供气单元30的突出长度l5。
[0259]
铅直方向z上的扁平部34及过滤器31整体的长度l2小于铅直方向z上的过滤器31的长度l1的2倍。因此，扁平部34的高度位置相对较低。因此，适宜地减少供气单元30的突出长度l5。
[0260]
扁平部34的上表面34a的高度位置相当于导管32的上端32t。因此，导管32的上端32t相对较低。因此，适宜地减少供气单元30的突出长度l5。
[0261]
扁平部34的上表面34a的高度位置相当于供气单元30的上端。因此，适宜地减少供气单元30的突出长度l5。
[0262]
导管32具备外槽部36。外槽部36连通连接于扁平部34的周缘部35。外槽部36将气
体输送到扁平部34。铅直方向z上的外槽部36的长度l4大于铅直方向z上的扁平部34的长度l3。因此，外槽部36将气体顺利地供给到扁平部34。
[0263]
外槽部36在俯视下具有包围扁平部34的环形状。因此，外槽部36能将气体供给到扁平部34的整个周缘部35。外槽部36能通过整个周缘部35将气体供给到扁平部34。
[0264]
外槽部36从扁平部34的周缘部35朝下方延伸。因此，能容易地降低外槽部36的高度位置。外槽部36的至少一部分在前视下与过滤器31重叠。因此，外槽部36的高度位置相对较低。因此，适宜地减少供气单元30的突出长度l5。
[0265]
导管32具备挡板37。挡板37设置在外槽部36。挡板37将流过外槽部36的气体的一部分引导到扁平部34。通过挡板37，气体从外槽部36更顺利地流到扁平部34，例如，气体实质上均匀地分配到扁平部34整体。例如，气体在扁平部34中涡旋。因此，扁平部34将气体适当地供给到过滤器31。例如，扁平部34将气体大致均匀地供给到过滤器31的上表面31a的整体。因此，过滤器31适当地吹出气体。例如，过滤器31从过滤器31的吹出面整体实质上均匀地吹出气体。例如，过滤器31从过滤器31的吹出面整体以实质上相同的风速吹出气体。因此，能在处理外壳22的内部适当地处理衬底w。
[0266]
挡板37相对于外槽部36延伸的方向交叉。因此，挡板37能将流过外槽部36的气体的一部分适宜地引导到扁平部34。
[0267]
衬底处理装置1具备搬送空间12、搬送机构13及配管空间51。搬送空间12在前后方向x延伸。搬送空间12与处理外壳22相邻。搬送机构13设置在搬送空间12。搬送机构13将衬底w搬送到处理外壳22的内部。配管空间51与处理外壳22相邻。处理外壳22与搬送空间12在俯视下排列于宽度方向y上。处理外壳22与配管空间51在俯视下排列在前后方向x上。因此，搬送空间12与配管空间51不会互相干涉。
[0268]
风扇41对配管空间51打开。风扇41将配管空间51的气体输送到过滤器31。因此，风扇41不与搬送机构13干涉，风扇41容易配置在处理外壳22的附近。因此，容易将供气单元30小型化。
[0269]
处理外壳22具备排气端口53。排气端口53形成在面向配管空间51的位置。风扇41配置在排气端口53的上方。因此，风扇41不与排气端口53干涉。
[0270]
衬底处理装置1具备水平排气部55与铅直排气部60。水平排气部55设置在配管空间51。水平排气部55连接到排气端口53。水平排气部55在水平方向延伸。铅直排气部60设置在配管空间51。铅直排气部60连接到水平排气部55。铅直排气部60在铅直方向z延伸。风扇41配置在比水平排气部55高的位置。因此，风扇41不与水平排气部55干涉。风扇41与铅直排气部60从前后方向x观察时排列于宽度方向y上。风扇41与铅直排气部60在前视时排列在宽度方向y上。因此，风扇41不与铅直排气部60干涉。
[0271]
铅直排气部60具备第1铅直排气管61与第2铅直排气管62。水平排气部55具备切换机构56。切换机构56将处理外壳22的排气路切换为第1铅直排气管61及第2铅直排气管62中的1个。因此，能从处理外壳22的内部适当地排出气体。
[0272]
此外，铅直排气部60具备第3铅直排气管63。切换机构56将处理外壳22的排气路切换为第1-第3铅直排气管61-63中的1个。因此，能从处理外壳22的内部更适当地排出气体。
[0273]
风扇41、第1铅直排气管61及第2铅直排气管62从前后方向x观察时排列在宽度方向y上。风扇41、第1铅直排气管61及第2铅直排气管62在前视时排列在宽度方向y上。因此，
风扇41不与第1铅直排气管61及第2铅直排气管62干涉。
[0274]
风扇41、第1铅直排气管61、第2铅直排气管62及第3铅直排气管63从前后方向x观察时排列在宽度方向y上。因此，风扇41不与第1-第3铅直排气管61-63干涉。
[0275]
衬底处理装置1具备压力感测器67与控制部69。压力感测器67测量处理外壳22的内部气体的压力。控制部69基于压力感测器67的检测结果控制风扇41。例如，控制部69通过控制风扇41调整风扇41的送风量。由此，控制部69调整供给到处理外壳22的气体的量。因此，控制部69能适宜地控制处理外壳22的内部气体的压力。因此，能在处理外壳22的内部适当地处理衬底w。
[0276]
风扇41仅对处理外壳22输送气体。各风扇41仅对1个处理外壳22输送气体。各风扇41的送风量相当于针对1个处理外壳22的气体的供给量。因此，能容易地调整针对各处理外壳22的气体的供给量。
[0277]
铅直排气部60供从2个以上处理外壳22排出的气体通过。因此，有处理外壳22的内部气体的压力受其它处理外壳22影响的情况。具体而言，铅直排气部60供从铅直方向z上排成1列的所有处理外壳22排出的气体通过。因此，有处理外壳22的内部气体的压力在铅直方向z上排成1列的所有处理外壳22之间互相造成影响的情况。因此，处理外壳22的内部气体的压力容易变动。所述情况下，控制部69也能适宜地控制处理外壳22的内部气体的压力的变动。
[0278]
尤其，切换机构56将处理外壳22的排气路在第1铅直排气管61与第2铅直排气管62之间切换时，处理外壳22的内部气体的压力容易变动。切换机构56将处理外壳22的排气路在第1-第3铅直排气管61-63之间切换时，处理外壳22的内部气体的压力容易变动。所述情况下，控制部69能适宜地抑制处理外壳22的内部气体的压力变动。
[0279]
衬底处理装置1具备排气风门65。排气风门65设置在处理外壳22的排气路。控制部69基于压力感测器67的检测结果，控制风扇41及排气风门65。例如，控制部69通过控制排气风门65而调整排气风门65的开度。由此，控制部69能调整从处理外壳22排出的气体的量。因此，控制部69能更适宜地控制处理外壳22的内部气体的压力。因此，在处理外壳22的内部能更适当地处理衬底w。
[0280]
衬底处理装置1具备处理外壳22与供气单元30。供气单元30具备过滤器31与导管32。导管32具备扁平部34与外槽部36。铅直方向z上的外槽部36的长度l4大于铅直方向z上的扁平部34的长度l3。因此，外槽部36能将气体顺利地供给到扁平部34。结果，能容易地将扁平部34薄化。因此，适宜地减少供气单元30的突出长度l5。
[0281]
本发明并不限于实施方式，也能如下所述般进行变化实施。
[0282]
实施方式中，风扇41的一部分配置在与处理外壳22相同的高度位置。但是，不限于此。亦可将整个风扇41配置在与处理外壳22相同的高度位置。具体而言，可将整个风扇41配置在与处理外壳22的上端23t同等或比其低，且与下端23b同等或比其高的高度位置。
[0283]
实施方式中，风扇41在俯视下不与处理外壳22重叠。但是，不限于此。风扇41的至少一部分在俯视下可与处理外壳22重叠。例如，整个风扇41在俯视下可与处理外壳22重叠。
[0284]
实施方式中，风扇41配置在配管空间51。但是，不限于此。例如，风扇41的至少一部分可配置在处理外壳22的上方。例如，风扇41的至少一部分可配置在处理外壳22的第2上板部24b的上方。例如，风扇41的至少一部分可配置在凹部空间s。
[0285]
所述实施方式中，风扇41非供气单元30的突出长度l5的因子。但是，不限于此。风扇41也可为供气单元30的突出长度l5的因子。
[0286]
所述实施方式中，供气单元30的突出长度l5为铅直方向z上供气单元30的重叠部分的上端与处理外壳22的上端23t之间的距离。但是，不限于此。例如，供气单元30的突出长度l5也可为铅直方向z上供气单元30的上端与处理外壳22的上端23t之间的距离。
[0287]
所述实施方式中，整个风扇41配置在比导管32的上端32t低的位置。但是，不限于此。风扇41的至少一部分可配置在比导管32的上端32t高的位置。
[0288]
所述实施方式中，导管32的上端32t相当于供气单元30的上端。但是，不限于此。风扇41的上端也可相当于供气单元30的上端。
[0289]
实施方式中，排列在铅直方向z上的处理外壳22的数量为6个。但是，不限于此。排列在铅直方向z上的处理外壳22的数量可适当变更。
[0290]
实施方式中，铅直排气部60具备第3铅直排气管63。但是，不限于此。也可省略第3铅直排气管63。
[0291]
实施方式中，排气风门65设置在水平排气部55的内部。但是，不限于此。排气风门65的至少一部分也可设置在水平排气部55的外部。例如，排气风门65的至少一部分可配置在处理外壳22的内部。例如，排气风门65的至少一部分可配置在排气端口53的附近。
[0292]
实施方式中，排气端口53配置在搬送空间12附近的位置。但是，不限于此。也可适当变更排气端口53的位置。随着变更排气端口53的位置，还可适当地变更水平排气部55的位置。
[0293]
图15、16分别是变化实施方式的处理外壳的前视图。另，对于与实施方式相同的构成标注相同符号，由此省略详细的说明。图15省略铅直排气端口60等的图示。
[0294]
参考图15。变化实施方式中，处理外壳22取代排气端口53而具备排气端口73。排气端口73配置在远离搬送空间12的位置。排气端口73不配置在风扇41的下方。风扇41与排气端口73在前视处理外壳22时不排列在铅直方向z上。
[0295]
参考图16。变化实施方式中，衬底处理装置1取代水平排气部55而具备水平排气部75。水平排气部75连接到排气端口73。水平排气部75从排气端口73朝水平方向延伸。水平排气部75延伸到铅直排气部60。铅直排气部60连接到水平排气部75。水平排气部75的一部分配置在远离搬送空间12的位置。例如，水平排气部75不具有接近搬送空间12的部分。虽省略图示，但整个水平排气部75在俯视时不与风扇41重叠。
[0296]
实施方式中，衬底处理装置1不具备调整从过滤器31吹出的气体的调整部。但是，不限于此。衬底处理装置1可具备调整部。以下，详细地说明变化实施方式的衬底处理装置1。
[0297]
图17是表示变化实施方式的处理外壳22的内部的俯视图。图18是变化实施方式的处理外壳22的垂直剖视图。另，对于与实施方式相同的构成，通过标注相同符号而省略详细的说明。
[0298]
首先，对处理外壳22、衬底保持部26、杯29、喷出部27及过滤器31的构成进行说明。
[0299]
处理外壳22在处理外壳22的内部划分处理空间81。处理空间81为空间。
[0300]
处理外壳22具有多个(例如4个)侧壁82。各侧壁82配置在处理外壳22的侧部。各侧壁82在铅直方向z延伸。
[0301]
要区分各侧壁82的情况下，将其称为侧壁82a、82b、82c、82d。侧壁82a、82c在俯视时分别在宽度方向y延伸。侧壁82a、82c彼此相向。侧壁82b、82d在俯视时分别在前后方向x延伸。侧壁82b、82d彼此相向。侧壁82b从侧壁82a朝侧壁82c延伸。侧壁82d也从侧壁82a朝侧壁82c延伸。侧壁82d与搬送空间12相接。搬送口25形成在侧壁82d。
[0302]
如实施方式所说明，衬底处理装置1具备衬底保持部26。衬底保持部26配置在处理外壳22的内部。衬底保持部26保持衬底w。图17、18表示中心轴线q。中心轴线q通过支撑在衬底保持部26的衬底w的中心与铅直方向z平行。
[0303]
如实施方式所说明，衬底处理装置1具备杯29。杯29设置在处理外壳22的内部。杯29设置在处理空间81。杯29配置在衬底保持部26的周围。杯29接收处理液。
[0304]
杯29具有铅直壁部83、倾斜部84及上部开口85。铅直壁部83在铅直方向z延伸。铅直壁部83具有以中心轴线q为中心的圆筒形状。倾斜部84连接到铅直壁部83。倾斜部84从铅直壁部83朝上方延伸，且接近中心轴线q。倾斜部84具有以中心轴线q为中心的圆锥台形状。倾斜部84在俯视下具有圆环形状。上部开口85在俯视下配置在倾斜部84的内侧。上部开口85形成在与倾斜部84的上端大致相同的高度位置。上部开口85在水平方向延伸。上部开口85具有以中心轴线q为中心的圆形状。上部开口85在俯视下大于衬底w。上部开口85在俯视下与保持在衬底保持部26的整个衬底w重叠。
[0305]
如实施方式所说明，衬底处理装置1具备1个以上(例如3个)喷出部27。喷出部27设置在处理外壳22的内部。喷出部27设置在处理空间81。喷出部27将处理液喷出到保持在衬底保持部26的衬底w。
[0306]
要区分各喷出部27的情况下，将其称为喷出部27a、27b、27c。喷出部27a-27c例如分别为喷嘴。喷出部27a-27c分别配置在比保持在衬底保持部26的衬底w高的位置。
[0307]
衬底处理装置1具备1个以上(例如3个)移动机构86。移动机构86使喷出部27移动。
[0308]
要区分各移动机构86的情况下，将其称为移动机构86a、86b、86c。移动机构86a连结到喷出部27a。移动机构86a使喷出部27a移动。移动机构86a使喷出部27a绕旋转轴线ra旋转。同样地，移动机构86b、86c分别连结到喷出部27b、27c。移动机构86b、86c分别使喷出部27b、27c移动。移动机构86b、86c分别使喷出部27b、27c绕旋转轴线rb、rc旋转。旋转轴线ra-rc分别与铅直方向z平行。旋转轴线ra-rc分别穿过移动机构86a-86c。
[0309]
喷出部27a具有基端部87a。基端部87a连结到移动机构86a。基端部87a在俯视下配置在杯29的外侧。同样地，喷出部27b、27c各自具有基端部87b、87c。基端部87b、87c分别连结到移动机构86b、86c。基端部87b、87c在俯视下分别配置在杯29的外侧。
[0310]
喷出部27a具有前端部88a。前端部88a能移动到喷出位置与待机位置。具体而言，移动机构86a使前端部88a移动到喷出位置与待机位置。同样地，喷出部27b、27c各自具有前端部88b、88c。前端部88b、88c分别能移动到喷出位置与待机位置。具体而言，移动机构86b、86c分别使前端部88b、88c移动到喷出位置与待机位置。
[0311]
图17以实线表示位于待机位置的前端部88a-88c。前端部88a位于待机位置时，前端部88a在俯视下配置在保持在衬底保持部26的衬底w的外侧。也就是说，前端部88a位于待机位置时，前端部88a在俯视下不与保持在衬底保持部26的衬底w重叠。同样地，前端部88b、88c各自位于待机位置时，前端部88b、88c在俯视下分别配置在保持在衬底保持部26的衬底w的外侧。也就是说，前端部88b、88c各自位于待机位置时，前端部88b、88c在俯视下不与保
持在衬底保持部26的衬底w重叠。
[0312]
此外，前端部88a位于待机位置时，前端部88a在俯视下配置在杯29的外侧。同样地，前端部88b、88c各自位于待机位置时，前端部88b、88c在俯视下分别配置在杯29的外侧。
[0313]
前端部88a位于待机位置时，喷出部27a沿着侧壁82a延伸。同样地，前端部88b、88c位于待机位置时，喷出部27b、27c分别沿着侧壁82b、82c延伸。
[0314]
图17以虚线表示位于喷出位置的前端部88a-88c。前端部88a位于喷出位置时，前端部88a在俯视下与保持在衬底保持部26的衬底w重叠。同样地，前端部88b、88c各自位于喷出位置时，前端部88b、88c在俯视下分别与保持在衬底保持部26的衬底w重叠。
[0315]
参考图18。前端部88a具有喷出口89a。喷出口89a为喷出处理液的开口。同样地，前端部88b具有未图示的喷出口。前端部88c也具有未图示的喷出口89c。
[0316]
以下，要区分前端部88a-88c的情况下，将其称为前端部88。
[0317]
如实施方式所说明，衬底处理装置1具备过滤器31。过滤器31配置在处理外壳22的上部。过滤器31设置在上板24。过滤器31设置在第1上板部24a。过滤器31将气体朝下方吹出。过滤器31从过滤器31的下表面31b吹出气体。
[0318]
衬底处理装置1具备调整部91。调整部91接收从过滤器31吹出的气体(例如空气)。调整部91调整气体流动。调整部91将气体朝下方吹出。
[0319]
调整部91配置在过滤器31的下方。
[0320]
调整部91配置在处理外壳22的内部。调整部91配置在处理空间81的上方。调整部91与处理空间81相接。调整部91配置在衬底保持部26的上方。调整部91配置在喷出部27的上方。调整部91配置在杯29的上方。
[0321]
调整部91具备调整室92。调整室92为空间。调整室92配置在过滤器31的下方。调整室92与过滤器31相接。调整室92与过滤器31的下表面31b相接。
[0322]
调整室92配置在处理外壳22的上板24的下方。调整室92与上板24相接。更详细而言，调整室92配置在第1上板部24a的下方。调整室92与第1上板部24a相接。
[0323]
调整室92在水平方向延伸。水平方向上的调整室92的长度长于水平方向上的过滤器31的长度。
[0324]
调整室92具有扁平的形状。铅直方向z上的调整室92的长度与水平方向上的调整室92的长度相比充分短。调整室92相当于从过滤器31放射状流动气体的水平流路。
[0325]
调整部91具备吹出板93。吹出板93配置在调整室92的下方。吹出板93与调整室92相接。吹出板93配置在处理空间81的上方。吹出板93与处理空间81相接。
[0326]
吹出板93具有板形状。吹出板93在水平方向延伸。吹出板93具有上表面93a与下表面93b。上表面93a与调整室92相接。下表面93b与处理空间81相接。
[0327]
水平方向上的吹出板93的长度长于水平方向上的过滤器31的长度。水平方向上的吹出板93的长度与水平方向上的调整室92的长度同等或比其长。
[0328]
吹出板93具有多个吹出孔94。吹出孔94形成在吹出板93。吹出孔94贯通吹出板93。吹出孔94在铅直方向z上贯通吹出板93。吹出孔94与吹出板93相比充分小。吹出孔94相互紧密排列。吹出孔94使调整室92与处理空间81相互连通。吹出板93的下表面93b相当于调整部91的吹出面。
[0329]
吹出板93能装卸到处理外壳22。
[0330]
具体而言，调整部91具备支撑销95。支撑销95安装到处理外壳22。支撑销95例如从处理外壳22的侧壁82突出。支撑销95在水平方向延伸。支撑销95支撑吹出板93。吹出板93载置在支撑销95上。吹出板93的下表面93b与支撑销95接触。
[0331]
支撑销95支撑吹出板93时，支撑销95禁止吹出板93相对于支撑销95朝下方移动。支撑销95支撑吹出板93时，支撑销95容许吹出板93相对于支撑销95(处理外壳22)朝上方移动。因此，吹出板93简易地装卸到处理外壳22。
[0332]
调整部91具备阻断壁96。阻断壁96将调整室92的侧部封闭。阻断壁96防止气体通过调整部91的侧部从调整室92流到调整室92的外部。
[0333]
阻断壁96配置在调整室92的周缘端。阻断壁96配置在上板24与吹出板93之间。阻断壁93在铅直方向z延伸。例如，阻断壁96支撑在上板24(具体而言为第1上板部24a)。阻断壁96从上板24(具体而言为第1上板部24a)朝下方延伸。或者，阻断壁96可支撑在吹出板93。阻断壁96从吹出板93朝上方延伸。
[0334]
阻断壁96容许吹出板93相对于处理外壳22稍微朝上方移动。因此，能容易地将吹出板93安装到处理外壳22。能容易地从处理外壳22拆除吹出板93。
[0335]
具体而言，间隙设置在阻断壁96与上板24之间、及阻断壁96与吹出板93之间的任一个。间隙为空间。
[0336]
间隙充分小。间隙充分小到能实质上抑制气体通过间隙从调整室92流出的程度。间隙例如为1mm。
[0337]
如上所述，调整室92由过滤器31、上板24(第1上板部24a)、吹出板93、阻断壁96划分。
[0338]
调整部91具备引导部件97。引导部件97设置在调整室92。引导部件97配置在吹出板93的上方。引导部件97在水平方向上配置在过滤器31与阻断壁96之间。引导部件97在调整室92中将气体朝下方引导。引导部件97在引导部件97的附近，形成相对较强的向下的气流。
[0339]
引导部件97配置在调整室92的上部。引导部件97不配置在调整室92的下部。引导部件97仅配置在调整室92的上部。引导部件97在铅直方向z延伸。引导部件97遮住调整室92的上部。引导部件97禁止气流在调整室92的上部水平方向地流动。引导部件97将调整室92的下部打开。引导部件97将调整室92的下部朝水平方向打开。引导部件97容许气流在调整室92的下部水平方向地流动。因此，引导部件97在调整室92内，能适宜地将气体朝下方引导。此外，气体无停滞地流过调整室92的下部。调整室92的气体沿着吹出板93的上表面93a顺利地流动。调整室92的气体不会滞留在吹出板93的上表面93a附近。
[0340]
具体而言，引导部件97具有大致板形状。引导部件97支撑在上板24(具体而言为第1上板部24a)。引导部件97与上板24(具体而言为第1上板部24a)接触。引导部件97从上板24(具体而言为第1上板部24a)朝下方延伸。引导部件97的下部比吹出板93高。引导部件97与吹出板93离开。引导部件97不与吹出板93接触。
[0341]
铅直方向z上的引导部件97的长度短于铅直方向z上的调整室92的长度。例如，铅直方向z上的引导部件97的长度未达铅直方向z上的调整室92的长度的一半。
[0342]
吹出板93与引导部件97在吹出板93与引导部件97之间形成狭小路98。狭小路98为空间。狭小路98位于引导部件97的下方且吹出板93的上方。气体能穿过狭小路98。例如，铅
直方向z上的狭小路98的长度为铅直方向z上的调整室92的长度的一半以上。例如，铅直方向z上的狭小路98的长度为4mm以上。
[0343]
图19是变化实施方式的调整部91的俯视图。图19为了方便起见，以阴影线表示吹出板93、阻断壁96及引导部件97。
[0344]
吹出板93具备第1部件101与第2部件102。第1部件101与第2部件102能相互分离。吹出板93能分割为第1部件101与第2部件102。第1部件101与第2部件102在水平方向上排列。第2部件102与第1部件101相邻。俯视下，第2部件102与第1部件101实质上不重叠。
[0345]
图19以虚线表示过滤器31。俯视下，过滤器31具有大致矩形形状。
[0346]
俯视下，吹出板93大于过滤器31。俯视下，吹出板93与整个过滤器31重叠。俯视下，第1部件101与整个过滤器31重叠。俯视下，整个第2部件102配置在过滤器31的外侧。俯视下，第2部件102不与过滤器31重叠。
[0347]
俯视下，整个阻断壁96配置在过滤器31的外侧。俯视下，阻断壁96不与过滤器31重叠。俯视下，阻断壁96具有闭合的环形状。俯视下，阻断壁96包围过滤器31的周围。
[0348]
调整室92在俯视下是阻断壁96的内侧区域。俯视下，调整室92大于过滤器31。俯视下，调整室92与整个过滤器31重叠。
[0349]
俯视下，吹出板93与整个阻断壁96重叠。俯视下，吹出板93与整个调整室92重叠。俯视下，吹出板93与调整室92同等或比其大。俯视下，吹出板93与整个引导部件97重叠。
[0350]
俯视下，整个引导部件97配置在过滤器31的外侧。俯视下，引导部件97不与过滤器31重叠。俯视下，整个引导部件97配置在阻断壁96的内侧。俯视下，引导部件97具有打开的环形状。引导部件97具有连接到阻断壁96的第1端、与连接到阻断壁96的第2端。
[0351]
俯视下，优选为过滤器31与引导部件97之间的隔开距离和引导部件97与阻断壁96之间的隔开距离大致相等。
[0352]
阻断壁96具有阻断部分96a、96b、96c、96d。阻断部分96a-96d分别为阻断壁96的部分。阻断部分96a-96d各自在俯视下直线延伸。阻断部分96a、96c各自在宽度方向y延伸。阻断部分96b、96d各自在前后方向x延伸。阻断部分96a在俯视下接近侧壁82a。同样地，阻断部分96b-96d各自在俯视下接近侧壁82b-82d。
[0353]
引导部件97具有引导部分97a、97b、97c。引导部分97a、97b、97c各自为引导部件97的部分。引导部分97a、97b、97c各自在俯视下直线延伸。引导部分97a、97c各自在宽度方向y延伸。引导部分97b在前后方向x延伸。
[0354]
引导部分97a在俯视下配置在阻断部分96a与过滤器31之间。引导部分97b在俯视下配置在阻断部分96b与过滤器31之间。引导部分97c在俯视下配置在阻断部分96c与过滤器31之间。阻断部分97a、引导部分96a、过滤器31、引导部分97c、阻断部分96c依序排列在前后方向x上。阻断部分96b、引导部分97b、过滤器31、阻断部分96d依序排列在宽度方向y上。
[0355]
图19表示距离da-dc与距离ea-ec。距离da为过滤器31与引导部分97a之间的隔开距离。距离db为过滤器31与引导部分97b之间的隔开距离。距离dc为过滤器31与引导部分97c之间的隔开距离。距离ea为引导部分97a与阻断部分96a之间的隔开距离。距离eb为引导部分97b与阻断部分96b之间的隔开距离。距离ec为引导部分97b与阻断部分96c之间的隔开距离。
[0356]
距离ea优选为与距离da大致相等。距离eb优选为与距离db大致相等。距离ec优选
为与距离dc大致相等。
[0357]
距离db优选为与距离da大致相等。距离dc优选为与距离da大致相等。
[0358]
距离eb优选为与距离ea大致相等。距离ec优选为与距离ea大致相等。
[0359]
图20是表示变化实施方式的处理外壳22的内部的俯视图。图20中，各前端部88a-88c各自位于待机位置。图20以虚线表示过滤器31、阻断壁96及引导部件97。
[0360]
过滤器31在俯视下与保持在衬底保持部26的衬底w重叠。过滤器31在俯视下与保持在衬底保持部26的衬底w的大部分重叠。过滤器31在俯视下与杯29重叠。过滤器31在俯视下与倾斜部84重叠。过滤器31在俯视下与上部开口85重叠。前端部88a位于待机位置时，过滤器31在俯视下不与前端部88a重叠。前端部88a位于待机位置时，前端部88a在俯视下配置在过滤器31的外侧。前端部88b、88c位于待机位置时，过滤器31在俯视下不与前端部88b、88c重叠。前端部88b、88c位于待机位置时，前端部88b、88c各自在俯视下配置在过滤器31的外侧。
[0361]
整个阻断壁96在俯视下配置在保持于衬底保持部26的衬底w的外侧。阻断壁96在俯视下不与保持在衬底保持部26的衬底w重叠。阻断壁96在俯视下包围保持于衬底保持部26的衬底w的周围。阻断壁96的至少一部分在俯视下配置在杯29的外侧。阻断壁96的至少一部分在俯视下配置在倾斜部84的外侧。整个阻断壁96在俯视下配置在上部开口85的外侧。前端部88a位于待机位置时，前端部88a在俯视下配置在阻断壁96的外侧。前端部88a位于待机位置时，喷出部27a的一部分在俯视下配置在阻断壁96的内侧。前端部88b位于待机位置时，前端部88b在俯视下配置在阻断壁96的内侧。前端部88b位于待机位置时，整个喷出部27b在俯视下配置在阻断壁96的内侧。前端部88c位于待机位置时，前端部88c的一部分在俯视下配置在阻断壁96的外侧。前端部88c位于待机位置时，喷出部27c的一部分在俯视下配置在阻断壁96的内侧。
[0362]
整个引导部件97在俯视下配置在保持于衬底保持部26的衬底w的外侧。引导部件97在俯视下不与保持在衬底保持部26的衬底w重叠。
[0363]
引导部件97的至少一部分在俯视下与杯29重叠。本变化实施方式中，引导部件97的一部分在俯视下与杯29重叠。引导部件97的其它部分在俯视下配置在杯29的外侧。但是，不限于此。整个引导部件97在俯视下可与杯29重叠。引导部件97的至少一部分在俯视下与倾斜部84重叠。本变化实施方式中，引导部件97的一部分在俯视下与倾斜部84重叠。引导部件97的其它部分在俯视下配置在倾斜部84的外侧。但是，不限于此。整个引导部件97在俯视下可与倾斜部84重叠。整个引导部件97在俯视下配置在上部开口85的外侧。引导部件97在俯视下不与上部开口85重叠。
[0364]
前端部88位于待机位置时，喷出部27的至少一部分在俯视下配置在引导部件97的外侧。具体而言，前端部88a位于待机位置时，整个喷出部27a在俯视下配置在引导部件97的外侧。前端部88b位于待机位置时，整个喷出部27b在俯视下配置在引导部件97的外侧。前端部88c位于待机位置时，喷出部27c的一部分在俯视下配置在引导部件97的外侧。
[0365]
前端部88位于待机位置时，前端部88在俯视下配置在引导部件97的外侧。前端部88位于待机位置时，前端部88在俯视下不与引导部件97重叠。具体而言，前端部88a位于待机位置时，整个前端部88a在俯视下配置在引导部件97的外侧。同样地，前端部88b、88c各自位于待机位置时，前端部88b、88c各自在俯视下配置在引导部件97的外侧。
[0366]
前端部88a位于待机位置时，引导部分97a在俯视下配置在前端部88a、与保持于衬底保持部26的衬底w之间。前端部88a位于待机位置时，引导部分97a在俯视下以将前端部88a与保持于衬底保持部26的衬底w隔开的方式延伸。同样地，前端部88b、88c位于待机位置时，引导部分97b、97c各自在俯视下配置在前端部88b、88c、与保持于衬底保持部26的衬底w之间。前端部88b、88c位于待机位置时，引导部分97b、97c各自在俯视下以将前端部88b、88c与保持于衬底保持部26的衬底w隔开的方式延伸。
[0367]
图21是变化实施方式的处理外壳22的垂直剖视图。图21以单点划线示意性表示气体的流动。
[0368]
过滤器31将气体朝下方吹出。调整部91接收从过滤器31吹出的气体。调整部91将气体朝下方吹出。具体而言，调整室92从过滤器31接收气体。吹出板93将气体吹出到处理空间81。
[0369]
图22是变化实施方式的吹出板93的俯视图。为方便起见，就吹出板93规定核心区103与周缘区104。核心区103为位于过滤器31的下方的吹出板83的部分。换言之，核心区103为俯视下与过滤器31重叠的吹出板83的部分。周缘区104为位于核心区103的外侧、且阻断壁96的内侧的吹出板83的部分。周缘区104在俯视下配置在过滤器31的外侧。周缘区104在俯视下不与过滤器31重叠。
[0370]
就周缘区104规定引导区104g、第1区104a及第2区104b。引导区104g为位于引导部件97的下方的周缘区104的部分。引导区104g还可包含俯视下位于引导部件97附近的周缘区104的部分。第1区104a为位于引导区104g的内侧的周缘区104的部分。第2区104b为位于引导区104g的外侧的周缘区104的部分。
[0371]
引导区104g在俯视下配置在过滤器31的外侧。引导区104g在俯视下不与过滤器31重叠。第1区104a与第2区104b也一样。
[0372]
参考图21。为方便起见，就吹出板93吹出的气流，规定核心吹出流g0、第1吹出流g1、第2吹出流g2及第3吹出流g4。核心吹出流g0为从核心区103吹出的气流。第1吹出流g1为从第1区104a吹出的气流。第2吹出流g2为从第2区104b吹出的气流。第3吹出流g3为从引导区104g吹出的气流。
[0373]
为方便起见，就处理空间81，规定核心区域107、第1区域108及第2区域109。核心区域107为位于核心区103的正下方的处理空间81的部分。第1区域108为位于第1区104a的正下方的处理空间81的部分。第1区域108位于核心区域107的外侧。第2区域109为位于第2区104b的正下方的处理空间81的部分。第2区域109位于第1区域108的外侧。
[0374]
说明调整室92与处理空间81中的气体流动。调整室92中，气体从过滤器31出发到达吹出板83。调整室92的气流分类成直线流与弯曲流。直线流不朝水平方向弯曲，而笔直流向下方。直线流到达核心区103。弯曲流朝水平方向弯曲，之后朝下方弯曲到达吹出板83。弯曲流到达周缘区104。
[0375]
弯曲流还分类为第1-第3气流。第1流在到达引导部件97之前朝下方弯曲。第1流到达第1区104a。第2流穿过引导部件97(狭小路98)后朝下方弯曲。第2流到达第2区104b。第3流在引导部件97的附近朝下方弯曲。第3流到达引导区104g。第3流与第1流相比更强。第3流与第2流相比更强。
[0376]
核心吹出流g0从核心区103流向下方。核心吹出流g0进入核心区域107。第1吹出流
g1从第1区104a流向下方。第1吹出流g1进入第1区域108。第2吹出流g2从第2区104b流向下方。第2吹出流g2进入第2区域109。第3吹出流g3从引导区104g流向下方。第3吹出流g3进入第1区域108与第2区域109之间。第1吹出流g1位于核心吹出流g0的外侧。第3吹出流g3位于第1吹出流g1的外侧。第2吹出流g2位于第3吹出流g3的外侧。
[0377]
第3吹出流g3与第1吹出流g1相比更强。第3吹出流g3的速度大于第1吹出流g1的速度。第3吹出流g3与第2吹出流g2相比更强。第3吹出流g3的速度大于第2吹出流g2的速度。第1吹出流g1位于第3吹出流g3的内侧。第2吹出流g2位于第3吹出流g3的外侧。因此，第3吹出流g3分支为内流g3a与外流g3b。
[0378]
内流g3a朝下方且内侧流动。内流g3a一边朝下方流动一边接近中心轴线q。内流g3a一边朝下方流动一边进入第1区域108。通过内流g3a，第1吹出流g1也一边朝下方流动一边接近中心轴线q。第1吹出流g1从第1区域108进入核心区域107。核心吹出流g0与第1吹出流g1穿过上部开口85。核心吹出流g0与第1吹出流g1被供给到保持于衬底保持部26的衬底w。此外，内流g3a也可从第1区域108进入核心区域107。内流g3a也可穿过上部开口85。
[0379]
外流g3b朝下方且外侧流动。外流g3b一边朝下方流动一边远离中心轴线q。外流g3b一边朝下方流动一边进入第2区域109。通过外流g3b，第2吹出流g2也一边朝下方流动一边远离中心轴线q。外流g3b阻止第2区域109的氛围波及第1区域108。外流g3b阻止第2区域109的氛围穿过上部开口85。外流g3b阻止第2区域109的氛围波及保持于衬底保持部26的衬底w。因此，外流g3b保护保持于衬底保持部26的衬底w免受第2区域109的氛围的影响。外流g3b将保持于衬底保持部26的衬底w保持清洁。
[0380]
对变化实施方式的效果进行说明。过滤器31将气体吹出到处理外壳22的内部。过滤器31将气体朝下方吹出。衬底处理装置1具备调整部91。调整部91设置在处理外壳22的内部。调整部91具备调整室92。调整室92配置在过滤器31的下方。因此，调整部91能在调整室92中适宜地接收从过滤器31吹出的气体。
[0381]
调整部91具备吹出板93。吹出板93配置在调整室92的下方。吹出板93在水平方向延伸。吹出板93具有多个吹出孔94。因此，调整部91能通过吹出孔94从吹出板93朝下方适宜地吹出气体。
[0382]
衬底保持部26设置在处理外壳22的内部。衬底保持部26配置在调整部91的下方。衬底保持部26保持衬底w。因此，调整部91能将气体适宜地供给到保持于衬底保持部26的衬底w。具体而言，调整部91能在保持于衬底保持部26的衬底w的周围形成气体的降流。
[0383]
调整室92在水平方向延伸。调整室92在俯视下大于过滤器31。调整部91具备引导部件97。引导部件97设置在调整室92。引导部件97在调整室92将气体朝下方引导。因此，引导部件97防止吹出板93包含吹出不良部分。吹出不良部分为实质上不吹出气体的吹出板93的部分。因此，吹出板93不包含实质上不吹出气体的喷出口94。所有吹出孔94吹出气体。如此，引导部件97调整调整室92的气体的流动。
[0384]
吹出板93包含核心区103与周缘区104。核心区103在俯视下与过滤器31重叠。核心区103接近过滤器31。周缘区104在俯视下配置在过滤器31的外侧。周缘区104远离过滤器31。因此，在周缘区104中比核心区103更容易产生喷出不良部分。整个引导部件97在俯视下配置在过滤器31的外侧。也就是说，整个引导部件97配置在周缘区104的上方。因此，引导部件97防止周缘区104包含喷出不良部分。具体而言，引导部件97防止第1吹出流g1的速度实
质上变为零。引导部件97防止第2吹出流g2的速度实质上变为零。引导部件97防止第3吹出流g3的速度实质上变为零。
[0385]
整个引导部件97在俯视下配置在保持于衬底保持部26的衬底w的外侧。因此，引导区104g在俯视下配置在保持于衬底保持部26的衬底w的外侧。从引导区104g吹出的第3吹出流g3相对较强。因此，第3吹出流g3保护保持于衬底保持部26的衬底w免受第3吹出流g3的外侧的氛围影响。第3吹出流g3的外侧的氛围相当于第2区域109的氛围。因此，第3吹出流g3将保持于衬底保持部26的衬底w保持清洁。结果，衬底处理装置1能品质良好地处理保持于衬底保持部26的衬底w。
[0386]
此外，第3吹出流g3使供给到保持于衬底保持部26的衬底w的气体的量增加。因此，衬底处理装置1能品质良好地处理保持于衬底保持部26的衬底w。
[0387]
引导部件97配置在调整室92的上部。引导部件97在铅直方向z延伸。因此，引导部件97在调整室92中能将气体适宜地朝下方引导。
[0388]
引导部件97仅配置在调整室92的上部。也就是说，引导部件97不配置在调整室92的下部。引导部件97将调整室92的下部打开。因此，气体无停滞地流过调整室92的下部。换言之，气体在调整室92的下部不会滞留。因此，调整室92的气体沿着吹出板93顺利流动。结果，引导部件97更适宜地防止吹出板93包含吹出不良部分。
[0389]
引导部件97配置在调整室92的上部。也就是说，引导部件97不将调整室92的上部打开。因此，气体穿过引导部件97(狭小路98)时，气体不朝上方弯曲。因此，气体在调整室92的下部顺利流动。结果，引导部件92能更适宜地防止吹出板93包含吹出不良部分。
[0390]
距离ea与距离da大致相等。因此，第1区104a与第2区104b之间的大小的差较小。例如，俯视下，第1区104a的大小与第2区104b的大小之间的差较小。因此，第1吹出流g1与第2吹出流g2之间的速度差较小。因此，引导部件97能适宜地防止周缘区104包含吹出不良部分。同样地，距离eb与距离db大致相等。距离ec与距离dc大致相等。因此，引导部件97能更适宜地防止周缘区104包含吹出不良部分。
[0391]
距离eb与距离ea大致相等。因此，第1吹出流g1的速度遍及第1区104a无过度不均。因此，引导部件97能适宜地防止第1区104a包含吹出不良部分。同样地，距离ec与距离ea大致相等。因此，引导部件97能更适宜地防止第1区104a包含吹出不良部分。
[0392]
优选为距离db与距离da大致相等。因此，第2吹出流g2的速度遍及第2区104b无过度不均。因此，引导部件97能适宜地防止第2区104b包含吹出不良部分。同样地，距离dc与距离da大致相等。因此，引导部件97能更适宜地防止第2区104b包含吹出不良部分。
[0393]
衬底处理装置1具备阻断壁96。阻断壁96将调整室92的侧部封闭。阻断壁96防止气体通过调整室92的侧部从调整室92流出。因此，调整室92内的所有气体通过吹出孔94从吹出板93排出。因此，阻断壁96防止吹出板93包含吹出不良部分。
[0394]
衬底处理装置1具备喷出部27。喷出部27设置在处理外壳22的内部。喷出部27将处理液喷出到保持于衬底保持部26的衬底w。喷出部27包含能移动到喷出位置与待机位置的前端部88。前端部88位于待机位置时，前端部88在俯视下配置在保持于衬底保持部26的衬底w的外侧。前端部88位于待机位置时，引导部件97在俯视下配置在前端部88、与保持于衬底保持部26的衬底w之间。换言之，前端部88位于待机位置时，前端部88在俯视下位于引导部件97的外侧，保持在衬底保持部26的衬底w在俯视下位于引导部件97的内侧。因此，前端
部88位于待机位置时，引导区104g在俯视下配置在前端部88、与保持于衬底保持部26的衬底w之间。换言之，前端部88位于待机位置时，前端部88在俯视下位于引导区104g的外侧，保持在衬底保持部26的衬底w在俯视下位于引导区104g的内侧。前端部88位于待机位置时，第3吹出流g3朝前端部88、与保持于衬底保持部26的衬底w之间吹出。因此，前端部88位于待机位置时，第3吹出流g3保护保持于衬底保持部26的衬底w免受前端部88的影响。例如，第3吹出流g3阻挡前端部88附近的氛围波及保持于衬底保持部26的衬底w。例如，第3吹出流g3阻止颗粒从前端部88移动到保持于衬底保持部26的衬底w。因此，第3吹出流g3将保持于衬底保持部26的衬底w保持得更清洁。结果，衬底处理装置1能品质良好地处理保持于衬底保持部26的衬底w。
[0395]
衬底处理装置1具备杯29。杯29设置在处理外壳22的内部。杯29配置在衬底保持部26的周围。杯29接收处理液。引导部件97的至少一部分在俯视下与杯29重叠。因此，引导区104g的至少一部分在俯视下与杯29重叠。第3吹出流g3的至少一部分朝杯29吹出。因此，第3吹出流g3有效地保护保持在衬底保持部26的衬底w。因此，第3吹出流g3有效地将保持于衬底保持部26的衬底w保持清洁。结果，衬底处理装置1能品质良好地处理保持于衬底保持部26的衬底w。
[0396]
例如，第3吹出流g3有效地抑制气体沿着倾斜部84的上表面流向中心轴线q。例如，第3吹出流g3有效地抑制气体沿着杯29的倾斜部84的上表面流向内侧。例如，第3吹出流g3有效地抑制气体穿过倾斜部84的上表面附近进入上部开口85。因此，第3吹出流g3有效地保护保持于衬底保持部26的衬底w免受倾斜部84的上表面的影响。例如，第3吹出流g3阻挡倾斜部84的上表面附近的氛围波及保持于衬底保持部26的衬底w。例如，第3吹出流g3阻止颗粒从倾斜部84的上表面移动到保持于衬底保持部26的衬底w。
[0397]
吹出板93能装卸到处理外壳22。能容易地保养吹出板93。
[0398]
吹出板93具备第1部件101与第2部件102。第2部件102与第1部件101相邻。第1部件101小于吹出板93的整体。例如，第1部件101的大小在俯视下小于吹出板93整体的大小。因此，能更容易地保养第1部件101。第2部件102小于吹出板93整体。例如，第2部件102的大小在俯视下小于吹出板93整体的大小。因此，能更容易地保养第2部件102。因此，能更容易地保养吹出板93。
[0399]
俯视下，第1部件101与整个过滤器31重叠。俯视下，整个第2部件102配置在过滤器31的外侧。因此，通过仅将第1部件101从处理外壳22拆除，能适宜地保养过滤器31。能不将第2部件102从处理外壳22拆除而适宜地保养过滤器31。
[0400]
关于实施方式及各变化实施方式，还可将各构成置换为其它变化实施方式的构成或与其组合等而适当变更。
[0401]
本发明能不脱离其思想或本质地以其它具体的形式实施，因此，作为表示发明的范明的记载，应参考附加的权利要求而非以上说明。
[0402]
[符号说明]
[0403]1ꢀꢀ
衬底处理装置
[0404]
11
ꢀꢀ
处理块
[0405]
12a、12b、12 搬送空间
[0406]
13a、13b、13 搬送机构
[0407]
22
ꢀꢀ
处理外壳(第1处理外壳)
[0408]
22a 第1处理外壳
[0409]
22b 第2处理外壳
[0410]
23t 处理外壳的上端
[0411]
23b 处理外壳的下端
[0412]
24
ꢀꢀ
上板
[0413]
24a 第1上板部
[0414]
24b 第2上板部
[0415]
26
ꢀꢀ
衬底保持部
[0416]
27
ꢀꢀ
喷出部
[0417]
29
ꢀꢀ
杯
[0418]
30
ꢀꢀ
供气单元(第1供气单元)
[0419]
30a 第1供气单元
[0420]
31
ꢀꢀ
过滤器
[0421]
31a 过滤器的上表面
[0422]
31b 过滤器的下表面(过滤器的吹出面)
[0423]
32
ꢀꢀ
导管
[0424]
33
ꢀꢀ
第1水平部
[0425]
34
ꢀꢀ
扁平部
[0426]
34a 扁平部的上表面
[0427]
34b 扁平部的下表面
[0428]
34c 扁平部的开口
[0429]
35
ꢀꢀ
扁平部的周缘部
[0430]
36
ꢀꢀ
外槽部
[0431]
37、37a、37b、37c 挡板
[0432]
38
ꢀꢀ
铅直部
[0433]
39
ꢀꢀ
第2水平部
[0434]
41
ꢀꢀ
风扇
[0435]
51a、51b、51c、51d、51 配管空间
[0436]
53、73 排气端口
[0437]
55、75 水平排气部
[0438]
56
ꢀꢀ
切换机构
[0439]
60
ꢀꢀ
铅直排气部
[0440]
61
ꢀꢀ
第1铅直排气管
[0441]
62
ꢀꢀ
第2铅直排气管
[0442]
63
ꢀꢀ
第3铅直排气管
[0443]
65
ꢀꢀ
排气风门
[0444]
67
ꢀꢀ
压力感测器
[0445]
69
ꢀꢀ
控制部
[0446]
88、88a、88b、88c
ꢀꢀ
喷出部的前端部
[0447]
91
ꢀꢀ
调整部
[0448]
92
ꢀꢀ
调整室
[0449]
93
ꢀꢀ
吹出板
[0450]
94
ꢀꢀ
吹出孔
[0451]
95
ꢀꢀ
支撑销
[0452]
96
ꢀꢀ
阻断壁
[0453]
97
ꢀꢀ
引导部件
[0454]
101
ꢀꢀ
第1部件
[0455]
102
ꢀꢀ
第2部件
[0456]
104g 引导区
[0457]
g3
ꢀꢀ
第3吹出流
[0458]
g3a
ꢀꢀ
内流
[0459]
g3b
ꢀꢀ
外流
[0460]
l1
ꢀꢀ
铅直方向上的过滤器的长度
[0461]
l2
ꢀꢀ
铅直方向上的扁平部及过滤器整体的长度
[0462]
l3
ꢀꢀ
铅直方向上的扁平部的长度
[0463]
l4
ꢀꢀ
铅直方向上的外槽部的长度
[0464]
l5
ꢀꢀ
供气单元从处理外壳朝上方伸出的供气单元的突出长度
[0465]sꢀꢀ
凹部空间
[0466]wꢀꢀ
衬底
[0467]
x
ꢀꢀ
前后方向(第1方向)
[0468]yꢀꢀ
宽度方向(第2方向)
[0469]zꢀꢀ
铅直方向。