技术特征：
1.一种发光元件阵列，其具有：基板；多个发光元件，配置于所述基板上；多个狭窄槽，在所述多个发光元件的周围分别设置有多个，用于通过使发光层氧化来形成使在所述发光层流动的电流狭窄的电流狭窄层；及块分离部，沿着配置有所述多个发光元件的各个位置，以包含至少1个拐点的方式弯曲设置，将所述多个发光元件的分离为多个块，在所述拐点，曲率的符号发生变化。2.根据权利要求1所述的发光元件阵列，其中，所述弯曲沿着由相对于发光元件的狭窄槽构成的排列，所述拐点在沿着不同的发光元件的狭窄槽时产生。3.根据权利要求2所述的发光元件阵列，其中，所述不同的发光元件是互不相同的块的发光元件。4.根据权利要求1至3中任一项所述的发光元件阵列，其中，所述块分离部构成为通过配置于不同块的相邻的2个发光元件之间的大致中间地点。5.根据权利要求1至4中任一项所述的发光元件阵列，其中，所述块分离部为由槽构成的块分离槽，所述发光元件的发光不会因来自所述块分离槽的氧化而受到影响。6.根据权利要求1至3中任一项所述的发光元件阵列，其中，所述块分离部为由槽构成的块分离槽，所述块分离槽由深度不同的多个槽构成。7.根据权利要求1至3中任一项所述的发光元件阵列，其中，所述块分离部为由槽构成的块分离槽，所述狭窄槽的宽度比所述块分离槽的宽度宽。8.根据权利要求1至7中任一项所述的发光元件阵列，其中，在配置有所述发光元件的周围，多个狭窄槽设置于以该发光元件为中心的圆上。9.根据权利要求8所述的发光元件阵列，其中，在相邻的2个所述发光元件中，设置于周围的所述多个狭窄槽中的至少1个狭窄槽为共同设置。10.一种光学装置，其具备：权利要求1至9中任一项所述的发光元件阵列；驱动部，驱动构成于所述发光元件阵列上的所述多个发光元件；及控制部，控制所述驱动部，以执行利用通过所述发光元件阵列生成的光的处理。11.一种光测量装置，其具备：权利要求1至9中任一项所述的发光元件阵列；受光元件，接收从所述发光元件阵列照射的光被对象物反射的反射光；及处理部，对与通过所述受光元件接收的光相关的信息进行处理来测量从所述发光元件阵列至所述对象物为止的距离或该对象物的形状。12.一种发光元件阵列的制造方法，其具有：在基板上的要配置发光元件的各个位置的周围形成多个狭窄槽的工序；通过使一部分暴露于所述狭窄槽内的发光层氧化来形成使在所述发光层流动的电流狭窄的电流狭窄层的工序；
沿着要配置所述多个发光元件的各个位置，以包含至少1个拐点的方式弯曲形成将所形成的所述多个发光元件分离为多个块的块分离部的工序，在所述拐点，曲率的符号发生变化；及在所述电流狭窄层的电流通过区域上形成出射开口部来形成多个发光元件的工序。
技术总结
一种发光元件阵列及制造方法、光学装置、光测量装置，所述发光元件阵列具有：基板；多个发光元件，配置于所述基板上；多个狭窄槽，在所述多个发光元件的周围分别设置有多个，用于通过使发光层氧化来形成使在所述发光层流动的电流狭窄的电流狭窄层；及块分离部，沿着配置有所述多个发光元件的各个位置，以包含至少1个拐点的方式弯曲设置，将所述多个发光元件的分离为多个块，在所述拐点，曲率的符号发生变化。化。化。
技术研发人员：近藤崇 村田道昭 早川纯一朗 樋口贵史
受保护的技术使用者：富士胶片商业创新有限公司
技术研发日：2022.06.01
技术公布日：2023/2/3