技术特征：
1.一种等离子清洗设备，其特征在于，包括：清洗箱，所述清洗箱内形成有腔体，所述清洗箱具有进气壁，所述进气壁的面向所述腔体的表面设有若干进气孔，所述进气壁上还形成有气体入口；和若干气道管路，若干所述气道管路均集成在所述进气壁中；其中，每一所述气道管路的一端与一所述进气孔连通设置，另一端与所述气体入口连通，若干所述气道管路的长度相同。2.如权利要求1所述的等离子清洗设备，其特征在于，所述进气壁包括：第一层壁板，所述第一层壁板设有若干所述进气孔；和第二层壁板，所述第二层壁板设有凹槽，所述第一层壁板盖设于所述第二层壁板上，若干所述进气孔均连通于所述凹槽，所述第一层壁板的面向所述第二层壁板的表面封盖所述凹槽，以形成若干所述气道管路。3.如权利要求2所述的等离子清洗设备，其特征在于，所述凹槽包括：主槽道，所述主槽道的一端连通所述气体入口；两上下对称的槽路区域，若干所述进气孔对称分布在两所述槽路区域上，且均与所述凹槽连通；以及两第一连接槽道，每一所述第一连接槽道的一端连通所述主槽道的远离所述气体入口的一端，另一端连通于所述槽路区域，两所述第一连接槽道的长度相等。4.如权利要求3所述的等离子清洗设备，其特征在于，所述槽路区域包括：两左右对称的槽路单元，所述槽路区域上的进气孔对称分布在两所述槽路单元上；和两第二连接槽道，每一所述第二连接槽道的一端连通所述槽路单元，另一端连通所述第一连接槽道的远离所述主槽道的一端，两所述第二连接槽道的长度相等。5.如权利要求4所述的等离子清洗设备，其特征在于，所述槽路单元包括：两上下对称的直槽，所述槽路单元上的进气孔对称分布在两所述直槽；和两第三连接槽道，每一所述第三连接槽道的一端连通所述直槽，另一端连通所述第二连接槽道的远离所述第二连接槽道的一端，两所述第三连接槽道的长度相等。6.如权利要求5所述的等离子清洗设备，其特征在于，所述直槽沿左右方向布置，所述直槽的中间部位连通于所述第三连接槽道，所述直槽相背对的两端分别对应连通一所述进气孔。7.如权利要求2所述的等离子清洗设备，其特征在于，所述第二层壁板还设有密封槽，所述密封槽环绕所述凹槽设置；所述腔体的腔壁还包括密封条，所述密封条安装在所述凹槽内，所述第一层壁板挤压所述密封条，以密封所述气道管路。8.如权利要求1所述的等离子清洗设备，其特征在于，所述清洗箱包括：箱体，所述箱体内形成有所述腔体；和门体，所述门体可开合地盖设于所述箱体，所述门体构成所述进气壁。9.如权利要求8所述的等离子清洗设备，其特征在于，所述箱体设有对接孔，所述对接孔与所述气体入口相对设置，所述对接孔用于连通气源，所述门体盖合于所述箱体时，所述对接孔与所述气体入口对接连通。10.如权利要求9所述的等离子清洗设备，其特征在于，所述进气壁设有凸台，所述凸台
朝向所述箱体的表面设有所述气体入口，所述凸台与所述对接孔相对设置，所述门体盖合于所述箱体时，所述凸台插入所述对接孔内。
技术总结
本发明公开一种等离子清洗设备，其中，等离子清洗设备包括清洗箱和若干气道管路，清洗箱内形成有腔体，清洗箱具有进气壁，进气壁的面向腔体的表面设有若干进气孔，进气壁上还形成有气体入口；若干气道管路均集成在进气壁中；其中，每一气道管路的一端与一进气孔连通设置，另一端与气体入口连通，若干气道管路的长度相同。本发明技术方案能够提高物料清洗的均匀性，以提升清洗效果。以提升清洗效果。以提升清洗效果。
技术研发人员：叶贤斌 李文强 杨建新 朱霆 盛辉 周学慧 张凯
受保护的技术使用者：深圳泰德半导体装备有限公司
技术研发日：2022.06.10
技术公布日：2022/10/3