一种叠层片式压敏电阻加工设备及方法与流程

1.本发明涉及电阻加工设备技术领域，具体为一种叠层片式压敏电阻加工设备及方法。


背景技术：

2.叠层片式压敏电阻器是一种浪涌电压抑制器，它是采用先进的叠层片式化技术制造的半导体陶瓷元件，能为被保护元件(电路)提供强有力的保镖，同时具有优良的浪涌能量吸收能力及内部散热能力，与传统的齐纳二极管和圆片压敏电阻器相似，具有体积小、重量轻、响应速度快的特点。
3.叠层片式压敏电阻器加工时，需要对料带进行切割，并使切割的片材堆叠成型，片材的堆叠，离不开热熔胶的使用，但是在现有技术中，热熔胶的涂覆机构至少包括两个轴辊，其中一个为涂胶辊，另一个为匀胶辊，涂胶辊一般安装在装有胶液的盛液槽内，涂胶辊的底部浸入盛液槽，在不断转动过程中，对料带进行涂胶，可以看出，涂胶辊使用后再次进入盛液槽，容易污染其内部的胶液，且盛液槽裸露在空气中，灰尘易进入。


技术实现要素：

4.(一)解决的技术问题
5.针对现有技术的不足，本发明提供一种对胶液封闭存储，一个轴辊实现上胶抹匀，提高抹匀效果的叠层片式压敏电阻加工设备及方法。
6.(二)技术方案
7.为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种叠层片式压敏电阻加工设备，包括机床、连接座、供料架、收料架以及上胶机构，机床内部设有升降台，连接座上设有切割机构和热压机构，切割机构用于按照cad分层模型轨迹切割片材，热压机构用于对切割片材进行热压，供料架上安装有上料辊，收料架上安装有收料辊，上料辊和收料辊之间传动设置料带，上胶机构用于对料带的顶面进行涂胶，供料架上还安装有导料辊，导料辊用于对料带进行换向，使涂胶面位于下方；
8.上胶机构包括进液管、驱动件和上胶辊，上胶辊的两端均安装有连接轴管，两个连接轴管之间连接有储液管，储液管位于上胶辊的内腔，驱动件用于带动上胶辊旋转；
9.上胶辊与上料辊的转动方向相反，上胶辊的底部与料带接触形成匀胶区，料带上胶后穿过匀胶区向导料辊延伸；
10.其中一个连接轴管连通进液管和储液管，储液管的底部连通多个下液管，下液管沿着储液管的轴向等距分布，且下液管的底端与上胶辊的内壁抵触；
11.上胶辊上开设有下液孔，下液孔分别沿着上胶辊的轴向和周向等距分布多个，下液管滴落的胶体贯穿下液孔掉落至料带表面，上胶辊旋转更换位于下液管下方的下液孔，并对料带表面的胶体进行抹匀操作；
12.优选地，切割机构包括激光器、反射镜以及xy运动选择头；
13.激光器发射光束至反射镜，反射镜反射光束至xy运动选择头，xy运动选择头运动改变光束反射轨迹，激光束落在料带表面对其进行切割。
14.优选地，热压机构包括驱动气缸、安装架和热压辊，安装架在驱动气缸的伸缩端固定安装，热压辊在安装架上转动安装，驱动气缸推动安装架移动，热压辊沿着机床的顶面滚动。
15.优选地，上胶辊与连接轴管固定连接，连接轴管与储液管之间通过旋转接头连接。
16.优选地，上胶辊与连接轴管之间通过转动套传动连接，连接轴管上转动安装转动套，转动套与上胶辊固定连接。
17.优选地，驱动件包括转动轴盘、从动轴盘和传动带；
18.上胶辊通过驱动电机驱动运转，转动轴盘在上胶辊的端部固定安装，上胶机构上安装从动轴盘，转动轴盘通过传动带带动从动轴盘同步运转。
19.优选地，料带进入匀胶区之前沿着上胶辊的外壁传动。
20.优选地，上胶辊与上料辊之间设有定位辊，定位辊在上料架上安装；
21.定位辊的大小与上胶辊的大小相同，且定位辊位于上胶辊的正上方。
22.一种叠层片式压敏电阻加工方法，应用于上述一种叠层片式压敏电阻加工设备，其特征在于，包括以下步骤：
23.s1、上料辊转动，放出料带，上胶机构向料带顶面涂覆热熔胶，并利用导料辊对料带进行换向，使料带涂胶面位于下方；
24.s2、料带继续传动至升降台顶面，切割机构按照cad分层模型轨迹切割片材；
25.s3、切割机构停止运动，热压机构开始运作并对切割片材进行热压，使当前层与下面已成型层粘结，从而堆叠成型。
26.s4、升降台带动片材下降，残余料带继续传动，直至被收料辊收卷。
27.优选地，在s1中，上胶机构中的上胶辊跟随上料辊同步转动，且上料辊停止时，下液孔和下液管错开。
28.(三)有益效果
29.与现有技术相比，本发明提供了一种叠层片式压敏电阻加工设备及方法，具备以下有益效果：
30.1、将储液管安装在上胶辊的内部，并在储液管的底部安装下液管，在上胶辊的表面开设下液孔，一方面，可以实现对胶液的封闭存储，防止灰尘进入对其污染，保证胶液的使用效果，另一方面，上胶辊不断转动，在胶体滴落至料带后，下液孔与下液管错开，其自身对胶液进行抹匀，实用性加强。
31.2、限定了料带进入匀胶区之前沿着上胶辊的外壁传动，从而使上胶辊与未涂覆胶体的料带接触，使得多余胶体涂抹至后续料带上，保证上胶辊在长时间使用后，对匀胶区的料带匀胶时，其表面没有胶体或存在少量胶体，从而提高对料带胶体的抹匀效果，同时也防止胶体浪费。
附图说明
32.图1为本发明一个实施例的正面示意图；
33.图2为本发明另一实施例的正面示意图；
34.图3为本发明供料架的示意图；
35.图4为本发明上胶辊一个实施例的内剖示意图。
36.图中：1、机床；2、连接座；3、供料架；4、收料架；5、升降台；6、上料辊；7、收料辊；8、料带；9、导料辊；10、进液管；11、驱动电机；12、上胶辊；13、匀胶区；14、连接轴管；15、储液管；16、下液管；17、下液孔；18、激光器；19、反射镜；20、xy运动选择头；21、驱动气缸；22、安装架；23、热压辊；24、旋转接头；25、转动套；26、转动轴盘；27、从动轴盘；28、传动带；29、定位辊。
具体实施方式
37.下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
38.实施例1
39.请参考图1-图4，一种叠层片式压敏电阻加工设备，包括机床1、连接座2、供料架3、收料架4以及上胶机构，机床1内部设有升降台5，连接座2上设有切割机构和热压机构，切割机构用于按照cad分层模型轨迹切割片材，热压机构用于对切割片材进行热压，供料架3上安装有上料辊6，收料架4上安装有收料辊7，上料辊6和收料辊7之间传动设置料带8，上胶机构用于对料带8的顶面进行涂胶，供料架3上安装有导料辊9，导料辊9用于对料带8进行换向，使涂胶面位于下方；
40.上胶机构包括进液管10、驱动件和上胶辊12，上胶辊12的两端均安装有连接轴管14，两个连接轴管14之间连接有储液管15，储液管15位于上胶辊12的内腔，驱动件用于带动上胶辊12旋转；
41.上胶辊12与上料辊6的转动方向相反，上胶辊12的底部与料带8接触形成匀胶区13，料带8上胶后穿过匀胶区13向导料辊9延伸；
42.其中一个连接轴管14连通进液管10和储液管15，储液管15的底部连通多个下液管16，下液管16沿着储液管15的轴向等距分布，且下液管16的底端与上胶辊12的内壁抵触；
43.上胶辊12上开设有下液孔17，下液孔17分别沿着上胶辊12的轴向和周向等距分布多个，下液管16滴落的胶体贯穿下液孔17掉落至料带8表面，上胶辊12旋转更换位于下液管16下方的下液孔17，并对料带8表面的胶体进行抹匀操作。
44.本发明中，将储液管15安装在上胶辊12的内部，并在储液管15的底部安装下液管16，在上胶辊12的表面开设下液孔17，一方面，可以实现对胶液的封闭存储，防止灰尘进入对其污染，保证胶液的使用效果，另一方面，上胶辊12不断转动，在胶体滴落至料带8后，下液孔17与下液管16错开，其自身对胶液进行抹匀，无需另外设置匀胶辊，实用性加强。
45.需要说明的是，上胶辊12的转动方向与上料辊6相反，料带8上胶后穿过匀胶区13向导料辊9延伸，则表面料带8先经过下液孔17的下方后，再进入匀胶区13，从而保证进入匀胶区13的料带8表面拥有胶体，同时上胶辊12转动，对胶体进行抹匀。
46.并且，由于在使用过程中，料带8会停止传动，被切割和热压，所以，为了保证胶体涂抹均匀，上胶机构中的上胶辊12需要跟随上料辊6同步转动，且上料辊6停止时，下液孔17
和下液管16错开下液孔17和下液管16错开。
47.具体的，切割机构包括激光器18、反射镜19以及xy运动选择头20；
48.激光器18发射光束至反射镜19，反射镜19反射光束至xy运动选择头20，xy运动选择头20运动改变光束反射轨迹，激光束落在料带8表面对其进行切割。
49.激光切割是本领域对片材切割的常规手段，本技术中直接利用，在此不再赘述。
50.具体的，热压机构包括驱动气缸21、安装架22和热压辊23，安装架22在驱动气缸21的伸缩端固定安装，热压辊23在安装架22上转动安装，驱动气缸21推动安装架22移动，热压辊23沿着机床1的顶面滚动。
51.为了不阻挡对片材的切割，热压机构一般为滚动的热压辊23，需要说明的是，在本实施例中，直接利用驱动气缸21推动安装架22，从而使得热压辊23在机床1顶面滚动，无需另外设置动力源带动其转动。
52.具体的，关于上胶辊12的安装方式有两种：一、上胶辊12与连接轴管14固定连接，连接轴管14与储液管15之间通过旋转接头24连接；
53.二、上胶辊12与连接轴管14之间通过转动套25传动连接，连接轴管14上转动安装转动套25，转动套25与上胶辊12固定连接。
54.这两种方式均能保证储液管15固定不动，而上胶辊12实现转动。
55.上胶辊12在驱动件的带动下转动，一般地，驱动件为驱动电机11，但是由于本发明中，设备结构紧凑，上胶辊12和上料辊6距离较近，同时，二者需要同步转动，所以本技术利用轴盘和传动带28连接两个轴辊；
56.具体的，驱动件包括转动轴盘26、从动轴盘27和传动带28；
57.上胶辊12通过驱动电机11驱动运转，转动轴盘26在上胶辊12的端部固定安装，上胶机构上安装从动轴盘27，转动轴盘26通过传动带28带动从动轴盘27同步运转。
58.在此实施例中，只需提供一个动力源，如驱动电机11，即可实现二者的运转。
59.实施例2
60.在对胶体进行抹匀时，上胶辊12的表面会存在残余胶体，若不对其去除，会导致胶体越来越多，最终影响抹匀效果，在现有技术中，会设置刮板，对胶体进行刮除，但是，由于胶体拥有粘性，刮板长时间使用，其刮除效果降低，实用性差，因此，本发明提供了另一种实施例：
61.具体的，参考图2，料带8进入匀胶区13之前沿着上胶辊12的外壁传动。
62.本实施例中，限定了料带8进入匀胶区13之前沿着上胶辊12的外壁传动，从而使上胶辊12与未涂覆胶体的料带8接触，使得多余胶体涂抹至后续料带8上，保证上胶辊12在长时间使用后，对匀胶区13的料带8匀胶时，其表面没有胶体或存在少量胶体，从而提高对料带8胶体的抹匀效果，同时也防止胶体浪费。
63.进一步地，上胶辊12与上料辊6之间设有定位辊29，定位辊29在上料架上安装；
64.定位辊29的大小与上胶辊12的大小相同，且定位辊29位于上胶辊12的正上方。
65.在本实施例中，进一步设置定位辊29，利用定位辊29来拉伸料带8，防止料带8松垮，同时保证料带8与上胶辊12的接触面积一定，防止其在使用过程中变化，从而保证上胶辊12对料带8上胶均匀。
66.实施例3
67.针对上述一种叠层片式压敏电阻加工设备，本发明还提供了一种叠层片式压敏电阻加工方法，包括以下步骤：
68.s1、上料辊6转动，放出料带8，上胶机构向料带8顶面涂覆热熔胶，并利用导料辊9对料带8进行换向，使料带8涂胶面位于下方；
69.s2、料带8继续传动至升降台5顶面，切割机构按照cad分层模型轨迹切割片材；
70.s3、切割机构停止运动，热压机构开始运作并对切割片材进行热压，使当前层与下面已成型层粘结，从而堆叠成型。
71.s4、升降台5带动片材下降，残余料带8继续传动，直至被收料辊7收卷。
72.在s1中，上胶机构中的上胶辊12跟随上料辊6同步转动，且上料辊6停止时，下液孔17和下液管16错开。
73.需要说明的是，上胶机构上胶时，胶体贯穿下液孔17掉落至料带8表面，上胶辊12的转动后，下液孔17与下液管16错开，其自身对胶液进行抹匀，无需另外设置匀胶辊，同时，可实现对胶液的封闭存储，防止灰尘进入对其污染，保证胶液的使用效果。
74.以上仅为本发明的具体实施例，但本发明的技术特征并不局限于此。任何以本发明为基础，为解决基本相同的技术问题，实现基本相同的技术效果，所作出的简单变化、等同替换或者修饰等，皆涵盖于本发明的保护范围之中。