一种双摆臂晶粒缓冲取放料机构的制作方法

文档序号:32279611发布日期:2022-11-22 23:01阅读:来源:国知局

技术特征:
1.一种双摆臂晶粒缓冲取放料机构,其特征在于,包括:可转动复位的底座,所述底座上表面的左右两侧设有条形凹槽,所述底座上表面的前后两侧设有凸起安装块,所述条形凹槽和凸起安装块均关于所述底座的中心对称设置;双摆臂装置,所述双摆臂装置为对称设置于左右两侧的条形凹槽上,且所述双摆臂装置的一端与凸起安装块活动连接。2.根据权利要求1所述的双摆臂晶粒缓冲取放料机构,其特征在于,所述双摆臂装置包括滑动组件、装配板、弹性连接组件和吸嘴组件,所述滑动组件底部固定连接设置干条形心槽内,所述滑动组件的顶部固定连接设有装配板,所述装配板的一侧端设有与凸起安装块活动连接的弹性连接组件,所述装配板的外侧端设有用于吸附晶粒的吸嘴组件。3.根据权利要求2所述的双摆臂晶粒缓冲取放料机构,其特征在于,所述滑动组件包括导轨和滑块,所述导轨的上部与滑块的下部相互滑配连接,以使所述装配板相对于导轨可左右微移,其中,所述导轨与条形凹槽固定连接,所述滑块与装配板固定连接。4.根据权利要求3所述的双摆臂晶粒缓冲取放料机构,其特征在于,所述弹性连接组件包括螺柱、螺母和弹簧,所述装配板上设有第一通孔,所述凸起安装块上设有第二通孔,所述螺柱的末端依次穿过第一通孔、第二通孔设有可调节的螺母,所述螺柱穿设有弹簧,所述弹簧的两端分别与所述装配板、凸起安装块相互低紧,以调节所述吸嘴组件的微量移动。5.根据权利要求4所述的双摆臂晶粒缓冲取放料机构,其特征在于,所述吸嘴组件包括固定块、空心吸杆、吸嘴、密封圈和玻璃片,所述固定块下端固定安装于装配板上,所述固定块上设有通腔,所述通腔内安装有空心吸杆,所述吸杆的前端气密连接设有可真空吸附的吸嘴,所述固定块位于空心吸枉的末端贴设有透明的玻璃片,所述空心吸杆与固定块之间设有密封圈,所述吸嘴、空心吸杆、密封圈和玻璃片为同轴设置。6.根据权利要求5所述的双摆臂晶粒缓冲取放料机构,其特征在于,所述装配板末端设有气压接头,所述装配板内设有通气槽,所述通气槽与通腔连通,以通过气压接头使吸嘴实现真空吸附晶粒。7.根据权利要求1所述的双摆臂晶粒缓冲取放料机构,其特征在于,所述底座侧壁设有限位挡板,所述限位挡板位于条形凹槽侧端。8.根据权利要求1所述的双摆臂晶粒缓冲取放料机构,其特征在于,所述底座下部设有一体成型的圆形结构连接体。

技术总结
本实用新型公开了属于半导体晶粒取放技术领域的一种双摆臂晶粒缓冲取放料机构,包括可转动复位的底座和双摆臂装置,所述底座上表面的左右两侧设有条形凹槽,所述底座上表面的前后两侧设有凸起安装块,所述条形凹槽和凸起安装块均关于所述底座的中心对称设置,所述双摆臂装置为对称设置于左右两侧的条形凹槽上,且所述双摆臂装置的一端与凸起安装块活动连接。本实用新型在摆臂的过程吸嘴不会与晶粒接触到,在摆臂到达指定位置后,晶粒被抵推于吸嘴上并被吸嘴真空吸附,以及摆臂后将晶粒放置于相应位置,整个摆臂取放晶粒具有吸嘴不磨损和取放晶粒可缓冲,提升的吸嘴的使用寿命、取放晶粒的精度和良品率。放晶粒的精度和良品率。放晶粒的精度和良品率。


技术研发人员:杨美高 杨少刚
受保护的技术使用者:深圳市八零联合装备有限公司
技术研发日:2022.07.29
技术公布日:2022/11/21
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