半导体加工用粘着胶带及半导体装置的制造方法与流程

文档序号:35958098发布日期:2023-11-08 20:06阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种半导体加工用粘着胶带,其为具有基材与粘着剂层的粘着胶带,其中,

2.根据权利要求1所述的半导体加工用粘着胶带,其中,所述粘着剂层包含丙烯酸类树脂,

3.根据权利要求1或2所述的半导体加工用粘着胶带,其中,在将所述粘着剂层的一面暴露于大气气氛的状态下,以照度为220mw/cm2及光量为500mj/cm2的条件对所述粘着胶带照射紫外线后的该粘着剂层的暴露面的表面自由能小于36mj/m2。

4.一种半导体装置的制造方法,其具备下述工序:

5.根据权利要求4所述的半导体装置的制造方法,其进一步包含将切割固晶胶带贴附于半导体晶圆的背面的工序。


技术总结
本发明的技术问题在于提供一种在剥离粘着胶带时可以抑制芯片的裂纹的半导体加工用粘着胶带。其解决手段为一种半导体加工用粘着胶带,其为具有基材与粘着剂层的粘着胶带,其中,在将所述粘着胶带的一面暴露于大气气氛的状态下,以照度为220mW/cm<supgt;2</supgt;及光量为500mJ/cm<supgt;2</supgt;的条件对粘着胶带照射紫外线后的该粘着剂层的暴露面的表面弹性模量为5MPa以上。

技术研发人员:饭塚亮,前田淳,田村和幸
受保护的技术使用者:琳得科株式会社
技术研发日:
技术公布日:2024/1/16
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