1.一种衬底处理装置(100)，包括：
2.根据权利要求1所述的装置，其中所述通道(45)容纳布线(43)，所述布线在所述通道(45)内从所述衬底支撑件(40)延伸到所述中间体积(70)。
3.根据权利要求2所述的装置，其中所述布线(43)通过在所述外室(80)的所述底部的至少一个馈通离开所述外室(80)。
4.根据前述权利要求中任一项所述的装置，其中至少一个馈通部分被可分离地附接至连接法兰(88)，所述连接法兰被附接至至少包括所述反应室(50)的下部和所述衬底支撑件(40)的组件。
5.根据权利要求4所述的装置，其中所述连接法兰(88)被可分离地附接至所述外室(80)的底部法兰(89)。
6.根据前述权利要求中任一项所述的装置，包括：
7.根据权利要求6所述的装置，包括布线(43)，所述布线缠绕在所述纵向延伸管状部分(35)周围。
8.根据前述权利要求中任一项所述的装置，其中所述装置被配置为通过延伸所述通道(45)的长度来调整所述衬底支撑件(40)的垂直位置。
9.根据权利要求8所述的装置，包括致动器(73、73’)，所述致动器被配置为通过改变纵向延伸部分(83)的形成所述通道(45)的一部分的纵向尺寸来降低和升高由所述衬底支撑件(40)包括的衬底台(48)的水平。
10.根据权利要求1或2所述的装置，包括用于等离子体形成的天线(61)，所述天线位于所述衬底支撑件(40)上方的所述反应室(50)内。
11.根据权利要求10所述的装置，包括前体管线(62)，所述前体管线延伸到所述天线(61)之间的空间中并且进一步在所述反应室(50)内以在所述天线(61)下游的点处排放非等离子气体。
12.一种衬底处理装置(100)，包括：
13.一种用于拆卸衬底处理装置的方法，所述衬底处理装置包括反应室(50)、至少部分地围绕所述反应室(50)并且在其间形成中间体积(70)的外室(80)，以及所述反应室(50)内的衬底支撑件(40)，所述方法包括：
14.根据权利要求13所述的方法，其中所述反应室组件的所述分离包括从所述外室的所述底部结构(89)分离所述反应室组件的连接法兰(88)。
15.根据权利要求14所述的方法，其中所述分离连接法兰(88)包括从所述底部结构(89)分离密封馈通部分(44)，所述密封馈通部分(44)密封布置在所述底部结构(89)中的所述开口。