1.一种刻蚀机，用于sic刻蚀或深槽刻蚀，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种刻蚀机，其特征在于，所述射频源装置包括：
3.根据权利要求1所述的一种刻蚀机，其特征在于：所述第一射频腔呈环状设置，且在所述绝缘顶盖中心沿轴向延伸的设置有末端延伸至所述第一射频腔底部的第一气源导柱，一个或多个对应的第一气源通道在所述第一气源导柱的中心设置、并与第一等离子气源组件连通。
4.根据权利要求3所述的一种刻蚀机，其特征在于：所述第一气源通道包括第一气源周向管路和第一气源中心管路；
5.根据权利要求4所述的一种刻蚀机，其特征在于：所述绝缘顶盖的顶端中心盖设有便于所述第一等离子气源组件的两路供气管路分别与所述第一气源周向管路、所述第一气源中心管路连通的第一气源分流盖板，所述第一气源分流盖板的中心沿轴向设有与所述第一气源中心管路连通的第一中心通道；所述第一气源分流盖板的下端面沿外缘环形周向设有与多个所述第一气源周向管路同时连通的第一环路通道，所述第一环路通道沿轴向开设有与所述第一等离子气源组件上一路供气管路连通的第一通道孔。
6.根据权利要求2所述的一种刻蚀机，其特征在于：所述第一射频源组件包括呈圆环形的第一电感线圈和呈圆环形的第一线圈支架，所述第一线圈支架用于第一电感线圈圆环形的套装固定安装于所述绝缘顶盖“凸”字形结构上侧；
7.根据权利要求2所述的一种刻蚀机，其特征在于：所述第二射频源组件包括呈圆环形的第二电感线圈和呈圆环形的第二线圈支架，所述第二线圈支架用于第二电感线圈圆环形的套装固定安装于所述绝缘顶盖“凸”字形结构下侧外缘；
8.根据权利要求2所述的一种刻蚀机，其特征在于：所述第二气源通道包括两组第二气源周向管路和一组第二气源圆环管路；
9.根据权利要求8所述的一种刻蚀机，其特征在于：所述绝缘顶盖的顶端周向外缘盖设有便于所述第二等离子气源组件的两路供气管路分别与两组所述第二气源周向管路、一组所述第二气源圆环管路连通的第二气源分流盖板；
10.根据权利要求1所述的一种刻蚀机，其特征在于：所述真空刻蚀箱中还设置有在动力驱动组件驱动下上下升降运动的封闭和打开刻蚀腔外围的进出气通道口和物料进出通道口、且周向对称的环状封闭的围拢于射频源组件与下电极组件之间刻蚀工作区外围的腔壁密封环，该腔壁密封环为升起时顶侧抵触于射频源组件底侧的圆环形限制圈。
11.根据权利要求10所述的一种刻蚀机，其特征在于：所述动力驱动组件包括至少一个动力源、支撑板架和多个导向立柱，多个导向立柱沿所述腔壁密封环周向均匀分布、且穿套通过所述下电极组件下侧周围部件后每个导向立柱的顶端分别承托的连接于所述腔壁密封环底端，每个导向立柱底端分别固定连接于所述支撑板架上，一个或多个对称分置于所述支撑板架两侧的动力源通过支撑板架及多个导向立柱推动所述腔壁密封环上下升降运动。
12.根据权利要求1所述的一种刻蚀机，其特征在于：所述刻蚀腔周向外缘的所述真空刻蚀箱与所述下电极组件之间形成用于刻蚀腔内废气排放的环状流道；
13.根据权利要求12所述的一种刻蚀机，其特征在于：所述环状流道内壁设有环状包套所述下电极组件顶端部分的环状封套，所述环状封套底端径向沿周向外延延伸形成所述缓流格栅板，所述环状封套与所述缓流格栅板一体成形为圆环凸台形结构。
14.根据权利要求12所述的一种刻蚀机，其特征在于：所述环状流道为圆形环绕于所述下电极组件外围的圆环形流道，对应的所述缓流格栅板为封盖于圆环形流道上侧的圆环状格栅圈；所述圆环状格栅圈沿周向均匀分布有多个沿径向延伸、且上下竖直贯通的条状缓流通孔。
15.根据权利要求12所述的一种刻蚀机，其特征在于：所述分流导向板由四个圆弧板首尾对接形成的圆环圈组成，每个圆弧板中心开设有一个用于废气分流导出的长圆形分流导向孔。