磁体结构及其制备方法、功能模组、电子设备与流程

文档序号:40509207发布日期:2024-12-31 13:18阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种磁体结构,其特征在于,包括若干磁体单元,每个所述磁体单元为一体式结构件,每个所述磁体单元包括在第一方向上相背的第一侧和第二侧;

2.根据权利要求1所述的磁体结构,其特征在于,所述磁偏角的范围包括:0°~90°。

3.根据权利要求2所述的磁体结构,其特征在于,所述磁体单元以所述中心面为对称面,以所述中心面为对称的两部分所述磁体单元的磁偏角对应相等;

4.根据权利要求1-3任一所述的磁体结构,其特征在于,从所述中心面至任一所述端面之间的所述磁体单元的磁偏角呈等差数值增大。

5.根据权利要求1-4任一所述的磁体结构,其特征在于,所述磁体单元在所述第一方向上的厚度与所述磁体单元在所述第二方向上的宽度的比值小于等于1。

6.根据权利要求5所述的磁体结构,其特征在于,所述磁体单元在所述第一方向上的厚度与所述磁体单元在所述第二方向上的宽度的比值小于等于1/2。

7.根据权利要求1-6任一所述的磁体结构,其特征在于,所述磁体单元包括在所述第二方向上分布的中心部分和两个端部,所述中心部分以所述中心面对称;

8.根据权利要求7所述的磁体结构,其特征在于,所述中心部分的剩余磁化强度大于1.0t。

9.根据权利要求7或8所述的磁体结构,其特征在于,所述中心部分的磁偏角α1范围包括:0°≤α1≤10°。

10.根据权利要求7-9任一所述的磁体结构,其特征在于,所述端部的磁偏角α2范围包括:60°≤α2≤90°。

11.根据权利要求1-10任一所述的磁体结构,其特征在于,所述磁体单元的相对密度大于90%。

12.根据权利要求1-11任一所述的磁体结构,其特征在于,所述磁体单元的数量为多个,其中一个所述磁体单元一端部的端面与其中另一个所述磁体单元一端部的端面相接,相接的两个所述端面处的极性相反;

13.根据权利要求1-11任一所述的磁体结构,其特征在于,还包括若干单向磁体,至少一个所述磁体单元一端部的端面与所述单向磁体一端部的端面相接,相接的两个所述端面处的极性相反;

14.一种磁体结构的制备方法,其特征在于,所述磁体结构包括磁体单元,所述方法包括:

15.根据权利要求14所述的制备方法,其特征在于,所述第一预设温度包括:700℃~900℃;

16.根据权利要求14或15所述的制备方法,其特征在于,所述前驱体的变形速率包括104~10-1/s。

17.根据权利要求14-16任一所述的制备方法,其特征在于,所述使所述磁粉成型获得前驱体,包括:

18.根据权利要求17所述的制备方法,其特征在于,所述冷坯的密度包括3.0g/cm3~5.0g/cm3;

19.根据权利要求17所述的制备方法,其特征在于,所述第二预设温度包括:600℃~900℃;

20.根据权利要求14-19任一所述的制备方法,其特征在于,所述在第一预设温度、第一预设压力条件下,使所述前驱体变形之后,所述方法还包括:对变形后的所述前驱体进行表面加工、表面处理。

21.根据权利要求20所述的制备方法,其特征在于,所述对变形后的所述前驱体进行表面加工、表面处理后,所述方法还包括:对表面处理后的所述前驱体充磁。

22.根据权利要求21所述的制备方法,其特征在于,所述磁体单元的数量为多个,所述获得所述磁体单元之后,所述方法还包括:粘接多个所述磁体单元,获得所述磁体结构。

23.根据权利要求14-19任一所述的制备方法,其特征在于,所述磁体单元的数量为多个,所述使所述前驱体变形,获得所述磁体单元,包括:

24.一种功能模组,其特征在于,包括动件和上述权利要求1-13任一所述的磁体结构,所述磁体结构用于驱动所述动件移动。

25.一种电子设备,其特征在于,包括壳体和上述权利要求1-13任一所述的磁体结构,所述磁体结构装配于所述壳体。


技术总结
本申请实施例提供一种磁体结构及其制备方法、功能模组、电子设备,属于磁体技术领域,在磁体结构的磁体单元中,从中心面至任一端面的方向上,位于中心面至该端面间的磁体结构的磁偏角连续增大。使从中心面至任一端面的方向上,位于中心面至端面之间的磁体单元内部存在磁偏角度连续变化的磁感线,使磁感线在磁体单元的第一侧汇聚,磁体单元的第一侧磁性增强,第二侧磁性减弱,使该磁体单元为一个海尔贝克磁体,用较小尺寸的磁体单元就能够获得较强的磁场。且每个磁体单元为一体式结构件,即通过一体成型的方式能够形成一体式的磁体单元,与通过多磁体组装构成海尔贝克磁体相比,无需粘接组装,能够简化装配过程,降低装配难度,提升装配效率。

技术研发人员:赖彬,钟轶良,谢禄霖
受保护的技术使用者:华为技术有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/12/30
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