。此处，预定泵送引入压力可能出现在排气孔211中。因此，这样做是因为，当侧壁气体从排气孔211的上部侧面向下流动时，侧壁气流可以与水平气流碰撞以减小泵送引入压力。因此，侧壁排气上部板230可以阻断从排气孔211的上部侧面向下流动的侧壁气体，以将侧壁气流的方向改变成平行于腔壳的底壁的水平方向。侧壁排气上部板230可以安置成与衬底平台130的下部表面的高度相同或低于其高度。此处，衬底平台130的下部表面可以表示衬底平台130的底部表面的相反表面。
[0092]而且，侧壁排气上部板230可以水平地扩展以具有朝向侧壁排气上部板230的第一轴向方向突出的更长的长度。因此，侧壁排气上部板230包含连接到侧壁排气通道管210的上部末端表面的侧壁排气单元上部板230a以及侧壁排气扩展上部板230b，所述侧壁排气扩展上部板沿着第一轴向方向从侧壁排气单元上部板230a朝向腔壳100的衬底处理空间向前/向后滑动以进行扩展。侧壁排气单元上部板230a可以以可滑动方式连接到侧壁排气扩展上部板230b，使得侧壁排气扩展上部板230b沿着第一轴向方向滑动。因此，侧壁排气扩展上部板230b可以根据衬底平台130的大小扩展以及收缩，以使得侧壁排气上部板230安置在与衬底平台130的边缘的边界相邻处。为了供参考，侧壁排气扩展上部板230b可以防止存在于腔壳100的下侧中的颗粒使腔壳100的下部部分内的下部气流向上流动。
[0093]侧壁排气下部板240可以是阻断板，所述阻断板从侧壁排气通道管210的下部末端表面朝向腔壳100的底壁突出。侧壁排气下部板240可以朝向腔壳100的底壁101倾斜地突出以使得其末端接触腔壳100的底壁101，以便将在侧壁排气通道管210下方流动的侧壁气体引入到侧壁排气通道管210的排气孔211中。侧壁排气下部板240具有倾斜表面。腔壳100的底壁101与倾斜表面之间的角度可以是小于直角(90° )的锐角。因此，在侧壁排气通道管210下方流动的侧壁气体可以沿着侧壁排气下部板240的倾斜表面弓I入到排气孔211中。
[0094]图7是显示了根据示例性实施例的通过衬底平台的移动引导侧壁气流的状态的视图。
[0095]当第二传送支架120沿着第一轴向传送支架110朝向侧壁102移动时，安置在第二传送支架120上的衬底平台130也可以朝向侧壁103移动。气流由衬底平台130的移动来推动。通过与衬底平台130碰撞而被推动的侧壁气体可能与腔壳100的侧壁102碰撞以向下流动。向下流动的侧壁气体可能与侧壁排气单元200的侧壁排气上部板230碰撞以便以水平气流形状在衬底平台130下方流动。朝向衬底平台130下方流动的侧壁气体可以通过与第二轴向传送支架120碰撞而被反射，并且随后经反射侧壁气体可以通过安置在侧壁102中的侧壁排气通道管210的排气孔211引入，由此被排出到外部。在侧壁排气通道210下方流动的侧壁气体可以通过与侧壁排气下部板240碰撞而向上流动并且被引入到排气孔211中，由此通过侧壁排气端口 220排出到外部。因此，侧壁气体中包含的颗粒可以通过排气孔211引入并且通过排气端口排出。为了供参考，因为衬底平台130与腔壳100的上壁103之间的间隙较窄，所以可以忽视在衬底平台130与腔壳100的上壁103之间流动的侧壁气体。
[0096]此外，可以提供耦合到电缆导管150的下部阻断本体300以防止侧壁气流被引入到衬底的下侧中以反射侧壁气体，由此使得侧壁气体朝向侧壁排气单元200流动。为了供参考，图10显示了附接到电缆导管150的下部阻断本体300的透视图。
[0097]如图7中所示，通过衬底平台130的移动产生的气流可能被引入到衬底平台130与上壁103之间。为了防止气体被引入到衬底平台130与上壁103之间，如图8中所示，将喷嘴400安置在衬底腔壳的上壁103的内表面上以喷射气体，例如，朝向衬底处理空间中的下侧的气体。从喷嘴400向下喷射的气体可以防止由侧壁推动并且反射的气体被引入到衬底平台130与上壁103之间。喷嘴400可以在第二轴向方向上纵向地安置。因此，如图9中所示，气体可以通过多个喷射端口喷射。
[0098]根据示例性实施例，衬底处理设备可以容易地将由衬底平台的移动产生的侧壁气流引导到外部。因此，侧壁气体中包含的颗粒可以有效地排出到外部以提高衬底处理过程的质量。
[0099]尽管已经参考具体实施例描述了衬底处理设备，但所述衬底处理设备并不限于此。因此，所属领域的技术人员将容易理解，在不脱离通过所附权利要求界定的本发明的精神和范围的情况下，可以对其进行各种修改和改变。
【主权项】
1.一种衬底处理设备，其特征在于包括: 腔壳，具有衬底处理空间，所述腔壳由底壁、上壁，以及将所述底壁连接到所述上壁的侧壁界定； 衬底平台，经配置以在所述衬底处理空间内在第一轴向方向以及与所述第一轴向方向交叉的第二轴向方向上移动；以及 侧壁排气单元，分别沿着所述腔壳的所述侧壁安置，所述侧壁排气单元经配置以将由所述衬底平台的移动在所述衬底平台与所述侧壁之间产生的气流引导到外部。
2.根据权利要求1所述的衬底处理设备，其中所述侧壁排气单元中的每一个包括: 侧壁排气本体，分别沿着所述腔壳的所述侧壁安置，所述侧壁排气本体中的每一个经配置以吸入平行于所述腔壳的所述底壁流动的气体以将吸入的所述气体排出到所述外部；以及 侧壁排气板，经配置以将所述衬底处理空间内的所述气流的方向改变成平行于所述腔壳的所述底壁的方向。
3.根据权利要求2所述的衬底处理设备，其中所述侧壁排气单元包括: 侧壁排气外壳，沿着所述腔壳的所述侧壁中的每一个安置； 侧壁排气通道管，具有界定在所述侧壁排气外壳中的排气通道以及界定在面向所述衬底平台的表面中的排气孔；以及 侧壁排气端口，连接到所述侧壁排气通道管的内部以将所述排气通道内的所述气体排出到所述外部。
4.根据权利要求3所述的衬底处理设备，其中所述侧壁排气板包括: 侧壁排气上部板，从所述侧壁排气通道管的上部末端表面朝向所述腔壳的所述衬底处理空间突出；以及 侧壁排气下部板，从所述侧壁排气通道管的下部末端表面朝向所述腔壳的所述底壁突出。
5.根据权利要求4所述的衬底处理设备，其中所述侧壁排气上部板包括: 侧壁排气单元上部板，连接到所述侧壁排气通道管的所述上部末端表面；以及侧壁排气扩展上部板，所述侧壁排气扩展上部板是可通过从所述侧壁排气单元上部板朝向所述腔壳的所述衬底处理空间向前或向后滑动扩展的。
6.根据权利要求4或5所述的衬底处理设备，其中所述侧壁排气上部板安置在与所述衬底平台的下部表面的位置相同或低于所述衬底平台的下部表面的位置处。
7.根据权利要求4所述的衬底处理设备，其中所述侧壁排气下部板朝向所述腔壳的所述底壁倾斜地突出，以使得其末端接触所述腔壳的所述底壁。
8.根据权利要求1所述的衬底处理设备，进一步包括: 第一轴向传送支架，包括在所述第一轴向方向上彼此间隔开而安置的一对导轨；以及第二轴向传送支架，具有在所述第二轴向方向上对应于所述第一轴向传送支架的所述一对导轨之间的长度的长度，所述第二轴向传送支架在所述第一轴向方向上沿着所述第一轴向传送支架滑动， 其中所述衬底平台安置在所述第二轴向传送支架上并且沿着所述第二轴向方向沿着所述第二轴向传送支架向前或向后滑动。
9.根据权利要求1所述的衬底处理设备，进一步包括喷嘴，安置在所述腔壳的所述上壁上以将气体喷射到所述衬底处理空间的下侧中。
【专利摘要】本发明提供能够去除衬底处理空间内的颗粒的衬底处理设备。衬底处理设备包含：具有衬底处理空间的腔壳，所述衬底处理空间由底壁、上壁，以及将底壁连接到上壁的侧壁界定；经配置以在衬底处理空间内在第一轴向方向以及与第一轴向方向交叉的第二轴向方向上移动的衬底平台；以及分别沿着腔壳的两个侧壁安置的侧壁排气单元，所述侧壁排气单元经配置以将通过衬底平台的移动在衬底平台与侧壁之间产生的气流引导到外部。
【IPC分类】H01L21-677, H01L21-67
【公开号】CN104576450
【申请号】CN201410563526
【发明人】金戊一, 金泰俊, 金圣进, 金钟元
【申请人】Ap系统股份有限公司
【公开日】2015年4月29日
【申请日】2014年10月21日