一种显示面板、显示装置及显示面板的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板、显示装置及显示面板的制造方法。
【背景技术】
[0002]AMOLED(Active Matrix Organic Light Emitting D1de，有源矩阵有机发光二极管)显示面板具有自发光、功耗低、反应速度较快、对比度更高和视角较广等特点，因此，AMOLED显示面板在显示技术领域，具有广泛的应用前景。
[0003]然而，现有技术中，当AMOLED显示面板显示画面时，如果AMOLED显示面板中的部分像素区域点亮时，则处于点亮状态的像素区域和与其相邻的且不应该点亮的像素区域间会产生较强的漏电流，使不应该点亮的像素区域微微发亮，从而使显示面板降低显示画面的品质。
【发明内容】
[0004]有鉴于此，本发明实施例提供一种显示面板、显示装置及显示面板的制造方法，以解决现有技术中的AMOLED显示面板降低显示画面的品质的技术问题。
[0005]本发明实施例提供一种显示面板，包括:基板；像素定义层，设置在所述基板上，其中，所述像素定义层限定出多个像素区域；有机公共层，设置在所述像素区域上和所述像素定义层上；所述有机公共层对应于所述像素定义层的至少一部分的厚度小于所述有机公共层对应于所述像素区域的至少一部分的厚度；或至少一个凹槽，设置在部分像素区域间的像素定义层或全部像素区域间的像素定义层中，且所述有机公共层覆盖所述凹槽。
[0006]本发明实施例还提供一种显示装置，包括上述的显示面板。
[0007]本发明实施例还提供一种显示面板的制造方法，包括:提供一基板；在所述基板上形成像素定义层，其中，所述像素定义层限定出多个像素区域；在部分像素区域间的像素定义层或全部像素区域间的像素定义层中形成至少一个凹槽；形成有机公共层，其中，所述有机公共层形成在所述像素区域上和所述像素定义层上并覆盖所述凹槽。
[0008]本发明实施例还提供一种显示面板的制造方法，包括:提供一基板；在所述基板上形成像素定义层，其中，所述像素定义层限定出多个像素区域；形成有机公共层，其中，所述有机公共层形成在所述像素区域上和所述像素定义层上，且所述有机公共层对应于所述像素定义层的至少一部分的厚度小于所述有机公共层对应于所述像素区域的至少一部分的厚度。
[0009]本发明实施例提供的显示面板、显示装置及显示面板的制造方法，通过在显示面板中设置对应于像素定义层的有机公共层的至少一部分的厚度小于对应于像素区域的有机公共层的至少一部分的厚度，或者设置至少一个凹槽，其中，凹槽位于部分像素区域间的像素定义层或全部像素区域间的像素定义层中且有机公共层覆盖凹槽，这样可以增大相应的像素区域间的有机公共层的电阻，从而可以减弱甚至抑制点亮的像素区域与不应该点亮的像素区域之间产生的漏电流，并可以使不应该点亮的像素区域保持黑态，进而可以使显不面板提尚显不画面的品质。
【附图说明】
[0010]通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述，本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显:
[0011]图1是传统技术的AMOLED显示面板的结构示意图；
[0012]图2a是本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
[0013]图2b是本发明实施例提供的另一中显示面板的结构示意图；
[0014]图3是本发明实施例提供的又一种显示面板的结构示意图；
[0015]图4是本发明实施例提供的又一种显示面板的结构示意图；
[0016]图5是本发明实施例提供的又一种显示面板的结构示意图；
[0017]图6是本发明实施例提供的又一种显示面板的结构示意图；
[0018]图7是图2a中A区域的放大示意图；
[0019]图8a是本发明实施例提供的一种显示面板的局部俯视结构示意图；
[0020]图8b是本发明实施例提供的另一种显不面板的局部俯视结构不意图；
[0021]图9是本发明实施例提供的又一种显示面板的局部俯视结构示意图；
[0022]图10是本发明实施例提供的又一种显示面板的局部俯视结构示意图；
[0023]图11是本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图；
[0024]图12是本发明实施例提供的一种显示面板的制造方法的流程示意图；
[0025]图13是本发明实施例提供的一种采用蒸镀方式形成有机公共层的示意图；
[0026]图14是本发明实施例提供的另一种采用蒸镀方式形成有机公共层的示意图；
[0027]图15是本发明实施例提供的另一中显示面板的制造方法的流程示意图。
【具体实施方式】
[0028]下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部内容。
[0029]在给出本发明的实施例之前，先介绍一下传统技术中的AMOLED显示面板的结构。图1是传统技术的AMOLED显示面板的结构示意图。如图1所示，传统技术中的AMOLED显示面板包括:基板11 ;设置在基板11上的薄膜晶体管膜层12，其中，薄膜晶体管膜层12用于设置具有开关功能的薄膜晶体管；设置在薄膜晶体管膜层12上的平坦化层13 ;设置在平坦化层13上的像素定义层14，其中，像素定义层14限定出多个像素区域15;设置在平坦化层13上且位于像素区域15中的阳极16 ;设置在像素定义层14和阳极16上的有机公共层17，其中，有机公共层17包括空穴传输层171和位于空穴传输层171上的电子传输层172 ；设置在空穴传输层171和电子传输层172之间的有机发光层18 ;以及设置在电子传输层172上的阴极19。
[0030]上述AMOLED显示面板的显示原理为:在给阳极16和阴极19分别施加一定电压的情况下，空穴会从阳极16注入到空穴传输层171，电子会从阴极19注入到电子传输层172，空穴和电子分别经过空穴传输层171和电子传输层172迀移到有机发光层18，并在有机发光层18中相遇形成激子，激子使有机发光层18中的发光分子激发而发出可见光，从而使AMOLED显示面板实现相应的显示效果。
[0031]现有技术中，当AMOLED显示面板显示画面时，如果AMOLED显示面板中的部分像素区域点亮时，由于相邻像素区域间的电子传输层和空穴传输层连接在一起，因此，对于处于点亮状态的像素区域，注入到相应的电子传输层中的电子和注入到相应的空穴传输层中的空穴会向相邻的且不应该点亮的像素区域迀移，并在点亮状态的像素区域和不应该点亮的像素区域间产生较强的漏电流，使不应该点亮的像素区域微微发亮，从而使显示面板降低显不画面的品质。
[0032]基于此，本发明实施例给出如下的技术方案。
[0033]本发明实施例提供一种显示面板。图2a是本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图。如图2a所示，显示面板包括:基板21 ;像素定义层22，设置在基板21上，其中，像素定义层22限定出多个像素区域23 ;可选地，至少一个凹槽24，设置在部分像素区域23间的像素定义层22或全部像素区域23间的像素定义层22中；有机公共层25，设置在像素区域23上和像素定义层22上，且有机公共层25覆盖凹槽24。可选地，在凹槽24形成之前的像素定义层22的质量大于凹槽24形成之后的像素定义层22的质量，也就是说，在形成凹槽24的过程中，像素定义层22的质量有减小。具体可选地，可以采用刻蚀法或激光照射法形成凹槽24，例如干法刻蚀、湿法刻蚀、激光灼烧等方法。由于在本发明中，需要凹槽24形成一定的深度，才能有效增大相邻像素区域23间的有机公共层25的电阻，上述形成凹槽24的工艺方法可以很好地实现本发明所需深度的凹槽。可选地，凹槽24的深度D大于或等于0.5 μm，发明人经过研宄发现，当凹槽24的深度小于0.5 μπι时，对相邻像素区域23间的有机公共层25的电阻的调节作用有限，抑制相邻像素区域23间电子/空穴的迀移能力也较弱。
[0034]可选地，如图2b所示，有机公共层25对应于像素定义层22的至少一部分的厚度小于有机公共层25对应于像素区域23的至少一部分的厚度。这样的设计使得对应于像素定义层的有机公共层比对应于像素区域的有机公共层具有更大的电阻，从而可以抑制相邻像素区域间的电子/空穴的迀移能力，可以防止点亮的像素区域23与不应该点亮的像素区域23之间产生的漏电流，可以使不应该点亮的像素区域保持黑态，进而可以使显示面板提高显示画面的品质。上述分别对应于像素定义层和像素区域的有机公共层的厚度设计可以采用斜向蒸镀实现，即蒸镀方向与基板的垂直方向具有一定夹角。可选地，上述夹角是锐角。可选地，蒸镀的方向与像素定义层的斜边方向相同。可选地，有机公共层对应于所述像素定义层的区域具有不连续处，这样能更好的阻断相邻像素区域间的电子/空穴的迀移。可选地，采用灰度掩模板(Gray Tone Mask)对有机公共层进行刻蚀，使得有机公共层对应于所述像素定义层的至少一部分的厚度小