本申请是申请日为2012年9月28日，申请号为201280047922.7，名称为“照明系统”的发明专利申请的分案申请。技术领域本发明涉及光刻制造的领域。特别地，本发明涉及使用多个照明源提供长效照明的系统及方法。
背景技术：
光刻制造已经是用于制造电子器件的量产方法的选择，电子器件包括例如半导体集成电路(IC)、印刷电路板(PCB)、发光二极管(LED)、激光二极管(LD)、平板显示器(FPD)、石英振荡器(QO)、微机电(MEMS)零件，以及其它电子应用，例如凸起焊接(bumpbonding)、薄膜头(TFH)与多芯片模块的制造、使用硅穿孔(TSV)的三维封装，以及相关的现代电子元件和/或光学器件。用于大量制造的光刻制程挑战之一是须确保每一基板、每一批次及每天的图案成形作业符合规格，且具有稳定、一致的表现。目标是保留适当的制程窗口，以确保制造良率达获利水平，同时最小化制造中所用光刻工具的不需要的设备停工时间。常规地，用于制造现代电子器件和光学器件的光刻技术来源于用于制造半导体IC的光刻制程技术。用于在各种基板上形成图案的光刻曝光工具大多是接触式或接近式对准器、步进式或扫描式投影系统。无论使用何种工具，取决于制程窗口的控制规格，根据一般的经验，最好能将曝光区域内的照明强度均匀度维持在约1％～2％或以下。之所以订定如此严格的照明控制条件，主要是因为光阻的成像性质取决于光阻所接收的整体曝光能量。就光化曝光波长而言，曝光能量(毫焦耳或mJs)为光强度(毫瓦/平方厘米)与时间(秒)的乘积。为了控制经印刷的特征的线宽一致性，使其符合规格，首要任务是确保照明强度的一致性及稳定性。对于标称曝光能量而言，照明强度越高，则所需的曝光时间越短，单位时间的曝光处理量也越高。当照明强度变低时，为了获得相同的标称曝光能量，可通过延长曝光时间进行补偿。因此，对于使用标称曝光能量的典型光刻制造，最好能监测光强度水平。传统地，光刻曝光工具被设计为使用单一照明源，例如使用短弧汞灯或准分子激光器。汞弧灯的使用寿命很短，仅达数百小时；对于准分子激光器，用于激光发射的气体则须在使用约一年后重新填充。因为该两种照明源的使用寿命和故障模式均有明确特征，所以使用单一照明源监测光强度是相对简单的。由于过去并无可行的替代方案，业界已习惯于汞弧灯偏短的使用寿命和过大的耗电量。为了改善曝光处理量，必须生成较高的光强度。典型地，对于额定输入电功率为1千瓦以通过穿过同轴光学滤波器生成所需光化曝光波长(例如365纳米)的汞弧灯而言，其传送至光阻表面的光强度大多可达100至200毫瓦左右，这取决于所用的光学系统。对于100mJs的标称曝光能量，所需曝光时间为0.5至1秒。光化光功率随灯具老化而降低，导致所需的曝光时间增长。而在历经数百小时的使用后，灯具出现输出过低甚至无法输出的现象。这样的光刻制造使用汞弧灯，执行照明监测过程的典型做法是每日检查光强度水平。对于每一批次的制程，执行测试曝光。光阻显影后，检查特征线宽是否在规格范围内。然后，微调曝光时间或者改变曝光能量的设定，以印刷出目标线宽。高压汞弧灯源无法快速更换，必须先关闭灯具电源，并待其冷却后才能继续操作。新灯具安装完成后，须为弧源对焦并加以调整，以使其达最佳强度和均匀度。该任务通常耗费数小时，且须待任务完毕才能让该工具继续进行制造。每操作二至四周，须重复同一任务以用于灯具更换。汞弧灯的主要光输出波段是从近UV至可见光，而准分子激光器的光输出波长则落在深UV区域，例如248纳米或193纳米。准分子照明系统的成本在百万美元的范围。照明维护更为复杂，且可能花费数天。典型地，须每半年或每年进行准分子气体的重新填充和微调。因此，有必要解决常规照明系统的上述问题。
技术实现要素：
本公开描述用于解决包括具有多个特性的照明源(例如LED、二极管激光器或固态激光器)的照明系统的需求的方法，以使得可以控制输出强度并且可以预测照明系统的使用寿命。本公开包括如下方法，该方法：控制并且监测多发射器照明系统以实现最大使用寿命；产生并且改善照明系统的经预测的使用寿命；针对一个或多个照明源的随机意外故障进行补偿，并且可以当无法进行这样的补偿时发出警告；在成像系统的操作期间监测照明系统，而几乎或完全不牺牲来自成像系统的有效操作时间。在另一实施例中，其描述了基于多发射器的照明源的使用，其可以以预期的照明形状成形，与用于对准或者用于多波长曝光应用的多波长发射器源混合。提供一种照明系统和用于控制照明系统的方法。在一个实施例中，该方法包括：提供多个照明源；在一段时间内，监测多个照明源的光输出功率；以及控制多个照明源以维持预定水平的光输出功率。该方法还包括：补偿多个照明源中的一个或多个照明源的衰减以维持预定水平的光输出功率；基于多个照明源的参数，预测照明系统的使用寿命；以及根据质量控制计划表，执行多个照明源的定期维护。在另一实施例中，一种照明系统包括至少一个处理器和被配置为与至少一个处理器一起工作的控制器。控制器包括：被配置为提供多个照明源的逻辑；被配置为在一段时间内监测多个照明源的光输出功率的逻辑；以及被配置为控制多个照明源以维持预定水平的光输出功率的逻辑。在又另一实施例中，一种计算机程序产品包括非暂态介质，非暂态介质存储供一个或多个计算机系统执行的计算机程序。该计算机程序产品还包括：被配置为提供多个照明源的代码；被配置为在一段时间内监测多个照明源的光输出功率的代码；以及被配置为控制多个照明源以维持预定水平的光输出功率的代码。附图说明在结合附图阅读本发明的一些方面的详细说明后，将可更清晰地理解本发明的前述特征和优点及其附加特征和优点。图1图示了根据本公开的一些方面的照明源的输出光功率与注入电流的示例性图。图2图示了根据本公开的一些方面的用以提供固定光输出功率的电流与时间的示例性表示。图3图示了根据本公开的一些方面的发射器的老化过程的示例性场景。图4图示了在根据本公开的一些方面的发射器的使用寿命中损耗的概率图。图5图示了根据本公开的一些方面的光输出功率与正向电流的图。图6图示了根据本公开的一些方面的用于将激光二极管耦接至光纤的示例性方法。图7图示了根据本公开的一些方面的形成光纤束模块的示例性方法。图8图示了根据本公开的一些方面的融合多重曝光的示例性方法的图像输出。图9图示了根据本公开的一些方面的控制照明系统的方法。具体实施方式以下说明是为了使本领域任何技术人员能够制造和使用本发明。特定的一些方面和应用的说明仅作为示例提供，本领域技术人员将轻易想到本文所述示例的各种修改和组合，并且本文所定义的一般原理可以适用于其它示例和应用而不背离本发明的精神与范围。因此，本发明并不旨在限于所描述和示出的示例，而旨在被给予与本文所公开的原理和特征一致的最大范围。根据本公开的一些方面，常规汞弧灯可以被诸如LED和激光二极管之类的固态光子发射源取代，以提高光刻制造中照明的成本效益。那些固态光子源的形状因子与常规汞弧灯差异很大。以氮化镓(GaN)激光二极管为例，该光子发射器件非常小，并且具有几毫米的尺寸。根据最新的发展进展，单一激光GaN二极管的电力可以产生接近1瓦的功率；相比于能够产生数千瓦的千瓦级汞弧灯，这可能看上去非常小。常规汞弧灯发射由多个波长带组成，该多个波长带须经滤波以用于单波长曝光。另一方面，GaN激光二极管有效地发射单色曝光波长。当二极管激光源与光纤耦接时，在仔细设计的情况下，其在光线传播中仅产生一小部分光子损失。如果为了使用来自对应的GaN发射器的每条光纤组合成一束光纤，以模拟输入功率为10至12瓦的单一发射源，则其可生成大于预期曝光能量所需的光学照明强度，相当于4至5千瓦的汞弧灯。已知固态光子发射器具有延长的使用寿命，其在超过一万小时的工作使用寿命的范围内。这对制造商而言可能极具吸引力，因为它表示设备停机时间的大幅减少，以及长期而论大量的电力节省。对于这样的多发射器照明源，挑战是如何在延长的使用寿命中最好地维持稳定和一致的光强度水平。对于某些光刻应用，尤其是当曝光厚的光阻膜(例如超过3微米的膜厚)时，最好使用多种曝光波长以达较高的整体强度水平。此外，它可以使驻波最小化并且针对较厚的光阻膜获得较大的焦深(DOF)。此时，如果以汞弧灯为照明源，可使用带宽较宽的光学滤波器。然而，一个光化波长与另一光化波长的尖峰强度比取决于汞弧发射的性质。如果为了使用多发射器照明光源，则当组合包括发射不同波长的二极管激光器和/或LED的光纤束时，照明系统可以被配置为使从一个曝光波长到另一曝光波长的尖峰强度比最佳化。此外，照明系统可以被配置为包括使用LED照明源的对准波长。如果使用固态光子发射器(stateslideemitter)，则混合比波长的曝光应用方式可以在曝光过程中选择性地微调。在诸如用于光刻法的系统中，其中照明器系统可以基于多个诸如LED或激光器的照明源，最好能使总照明强度始终保持稳定与正确。最好能控制因制造环境随时间的改变而产生的各种因素，包括但不限于：1)照明源随时间而改变光输出；2)如果在高于光功率和电功率临界值的情况下操作则可能受损；3)具有可变的最低驱动水平；以及4)输出功率与输入电流或功率即使在规定的操作参数范围内，但并未保持恒定的关系，致使这样的照明源逐渐经历损耗，导致使用寿命变短。此外，由于较长且可预测的维护周期对制造操作有利，所以可以被配置为使照明器的使用寿命最佳化并使其最大化的系统是受益的。图1图示了根据本公开的一些方面的照明源的输出光功率与注入电流的示例性图。此图又称P/I曲线102。纵轴代表每一镜面刻面的输出光(W)，而横轴则代表注入电流(A)。输出光功率的变化，可视为通过二极管的电流的函数。当偏流低于临界电流Ith时，输出功率可能偏低。但随着电流超过临界电流Ith，输出光功率便以dP/dI的速率增加。P/I曲线在临界电流以上的斜率称为激光二极管的斜率效率，并且被定义为dP/dI。这里，dP为光功率输出的变化，而dI则为通过二极管的正向电流的变化。斜率效率的单位为毫瓦/毫安。临界电流典型地位于25至250毫安的范围内，并且输出功率典型地在1至10毫瓦的范围内。某些发射器(诸如GaN激光二极管)和某些形式的固态激光器并不会产生灾难性的故障，而是历经老化和劣化的过程而发生故障。在该老化和劣化的过程中，产生给定功率输出所需的电流可能递增。图2图示了根据本公开的一些方面的用以提供固定光输出功率的电流与时间的示例性表示。纵轴代表用于提供固定输出的电流，而横轴则代表时间。如图2所示，从时间T0到时间T1，电流与功率的比202保持基本相同。但随时间推移(T1之后)，系统可能必须提高电流水平以便提供相同的光输出功率。例如在时间T2，正向电流水平须达初始电流值的1.2倍。在某些应用中，较大的正向电流水平可能被声明已经在时间T2到达激光二极管寿命的终点。在一些其它应用中，可以根据设备中自动功率控制电路的限制而定义备选的寿命终止电流水平。激光二极管可能因浪涌电流而遭受灾难性的光学损坏(COD)。当增加电流水平以提高光输出功率时，激光二极管的边缘可能短路。一旦发生此现象，输出功率可能骤降，并造成不可逆的损害。最好能避免可能损害照明系统的激光二极管的瞬间或短暂电流尖峰。通常，浪涌不至于完全破坏激光二极管，但却可能缩短激光二极管的使用寿命。为了提高照明系统或激光二极管的使用寿命，最好以较低的电流水平操作激光二极管。图3图示了根据本公开的一些方面的发射器的老化过程的示例性场景。纵轴代表输出电流Iop(毫安)，而横轴则代表老化时间(小时)。根据本公开的方面，照明系统可以被配置为严密监测老化机构和特征的变化速率，并且被配置为主动控制修改参数。结果，照明系统或能改善特定发射器在现有条件下的使用寿命的预测，以及通过对已知模型的外插来帮助预测在经修改的操作下的使用寿命。在一个方法中，可用于修改的一个参数是电流。在另一方法中，其它变量(例如发射器的数目)可以用于修改。在某些实施方式中，可监测诸如温度、照明强度、电压降和驱动电流等特征。根据本公开的一些方面，个别器件的使用寿命至少可基于下列条件之一而被确定为损耗的程度，所述条件包括但不限于：1)须以固定比例增加驱动电流(或功率)来维持稳定输出功率的时间点；2)在稳定驱动电流(或功率)下，强度以固定比例下降的时间点。图4图示了根据本公开的一些方面的发射器在其使用寿命中出现损耗的概率图。纵轴代表概率(百分比)，而横轴则代表时间(使用的小时数)。由于这些变化可能在数小时而非数分钟内发生，因此，可以在成像操作之间测量个别发射器的特征。相对于完成对所有发射器的监测/控制操作所用的时间，在成像操作之间可用于监测和控制的时间可能并不长。根据本公开的一些方面，这些测量可分散于多个成像之间的期间。一个方法是为所有发射器设定照明水平和均衡化损耗点。各发射器在现有条件下的个别使用寿命，起初可基于使用特征化或其它预编程数据的模型加以预测，而之后则通过增加在操作过程中得到的测量值来完成预测。控制器基于各发射器的输出功率与电流的关系，计算所有发射器的新操作参数。图5图示了根据本公开的一些方面的光输出功率与正向电流的图。如图5所示，纵轴代表光输出功率Po(毫瓦)，而横轴则代表正向电流If(毫安)。该图包括临界值与效率的示例，其可使所有发射器在目标系统照明功率下具有相等的预测使用寿命。其表明，在不同操作温度下，临界值与所需的正向电流可能被移动。为提高系统可靠度，控制器可以类似方式计算出一个或多个发射器故障时的新操作参数。如果这些新参数超过损耗极限或最大规格极限，则可针对冗余度的损失发出警告。根据本公开的一些方面，照明系统包括多个照明源(如发射器)。各发射器的强度可相互独立，且可接受遥控。照明传感器可通过例如分束器来采样和记录个别发射器的强度。在某些方法中，所记录的数据可用于电流与光功率模型和老化预测模型的适配。老化预测模型可计算新操作参数，藉以使发射器的使用寿命预测值均衡化。为维持恒定的照明，甚至不需要频繁测量，即可主动应用操作参数。在某些其它方法中，可以同一模型处理冗余度并且预测系统的使用寿命，同时为一个或多个发射器的损失提供补偿。控制器可以被配置为监测各发射器的光功率限值、电功率限值和范围。控制器还可以被配置为相对于发射器的照明功率重新调整(或重新拉平(re-level))照明系统的预期使用寿命。根据本公开的一些方面，当成像过程结束时，如果光程中设有基板且快门被激活，则可基于现有的老化模型参数计算并应用新的发射器电流。在此方法中，无需每次对各发射器采样，即可保持照明基本上恒定。如果时间允许，可开启个别独立发射器的电源，并关闭其它发射器的电源，然后测量并记录输出水平。如果该水平无法适配当前的模型参数，并且通过控制器判定差异显著，则可以由控制器计算新的水平来为系统中的照明源确定新的控制设定值。在某些实施方式中，可利用曝光之间的处理时间，依所需次数重复测量、记录和计算周期，之后开始下一个成像过程。该过程通过各发射器或各组发射器进行循环。当下一个成像过程结束时，测量/记录/计算过程可以从下一个发射器或下一组发射器再次开始。注意到，照明系统可被配置为根据下列条件控制和管理照明源，所述条件包括但不限于：1)新电流无法以预测方式被应用，但是当测量结果显示测量水平与所需水平之间确有差异时，即可应用新电流；2)照明采用单一发射器，但可利用老化预测模型主动设定照明驱动水平而不须针对每项调整进行测量；以及3)冗余度可以根据基于一个或多个发射器的故障的预期使用寿命来评估。图6图示了根据本公开的一些方面的用于将激光二极管耦接至光纤的示例性方法。如图6a所示，球形透镜或双合透镜602可用来将激光二极管刻面604成像到光纤芯部606。图6b则示出了另一耦接方式，通过使用光纤透镜610来使从激光二极管刻面604到多模光纤612的光束在快轴方向上准直。图7图示了根据本公开的一些方面的形成光纤束模块的示例性方法。注意到，为简化示图，仅示出了光纤芯部而未示出光纤包覆层，或者包围光纤芯部的外层未在图7中示出。每一圆圈还可代表本公开的一些示例中的照明源。还注意到，该类型的光纤束不同于光学通讯业一般已经习惯的传统光纤组合器的类型。对于那些传统类型的光纤组合器，多条输入光纤被“熔合”成一条光纤或者被“接触接合在芯部中”以形成单一输出光纤。在该示例中，图7a图示了具有同一类型的发射器(以圆圈示出)的示例性光纤束模块702；并且该光纤束模块内并未装满发射器(或光管)，因为在该示例中中心是空的。图7b图示了在该情况下被完全装满的另一示例性光纤束模块704。注意到，光纤束模块702与704可根据特定应用的需要而交替使用。换言之，光纤束模块704可取代照明系统中的光纤束模块702，反之亦然。图7c图示了又另一示例性光纤束模块706，其包括处于活动状态的第一组照明源708(以圆圈示出)以及处于非活动状态的第二组照明源710(以虚线圆圈示出)。图7d图示了又另一示例性光纤束模块712，其包括处于活动状态的第一组照明源714(以圆圈示出)以及处于非活动状态的第二组照明源716(以虚线圆圈示出)。图7e图示了又另一示例性光纤束模块720，其包括光化照明源722(以白色圆圈示出)和非光化照明源724(以灰色圆圈示出)。注意到，光纤束模块720包括6×10的照明源阵列，而图7a至图7d中示出的光纤束包括4×8的照明源阵列。根据本公开的一些方面，光纤束模块和连接器模块的不同配置可以被设计为满足特定应用的物理空间和光输出的需求。图7f图示了又另一示例性光纤束模块726，其包括具有第一曝光波长的第一组照明源728(以白色圆圈示出)以及具有第二曝光波长的第二组照明源730(以灰色圆圈示出)。图7g图示了包括多种类型的照明源的又另一示例性光纤束模块732。例如，光纤束模块732可以包括具有第一曝光波长的第一组照明源734(以黑色圆圈示出)、具有第二曝光波长的第二组照明源736(以灰色圆圈示出)以及具有第三曝光波长的第三组照明源738(以白色圆圈示出)。还是在图7中，示出了被聚成所需的输出形状的多条光纤，以提高照明功率和性能。包覆层使光纤芯部之间无光线输出，因而在各光纤芯部周围形成“暗环(darkring)”。这可以降低光纤束的整体光功率强度。但是通过使用包覆层极薄(相对于光纤芯部的直径)的光纤材料可使其极大地减小。根据本公开的一些方面，照明系统可以被配置为控制和监测用于光刻照明的固态多发射器光源。此外，多发射器照明可以被配置为以多种光化波长比的方式实现照明的数字步进微调控制。光纤束的形状可以被配置为增强光刻成像性能。这可以使用固态照明源来实现，因为各发射器可以被电接通/断开。照明系统可以使用多个照明源来实现，诸如像LED、二极管激光器或其它发光器件之类的固态器件，其可以可控的方式用于产生基本上恒定的照明功率输出。在一些实施方式中，一种方法用于对于本发明，获得效率须选择不十分符合Lambert余弦定律的照明源。根据此定律，表面上任一点的照明与该点的法线和光通量的方向之间的夹角的余弦值成比例。LED与汞弧灯是这样类型的照明源的示例。换言之，“余弦”照明器在本质上并无方向性。当施加以例如具有椭圆形形状的指定反射器时，照明系统可以被配置为以平行方式导引光束。由于“余弦”照明的本质，当照明光学器件的入射光瞳在某些应用中可能相对紧凑时，集光以用于照明目的将是相当低效的。在此情况下，可能能够收集少量光线，因而浪费大量照明能量。反之，对于二极管激光源，其发射具有相对小的扩展锥角(spreadconeangle)的方向性光束，就本质而言，二极管激光源通常不被视为“余弦”照明类型中的一种。照明系统可以被配置为将激光输出聚焦成接近发射波长的光点大小，以馈入光纤入口中。这允许通过光纤传播的最小光损耗。使用二极管激光源的一大挑战，在于可能出现激光斑点。可将激光斑点视为照明平面上随机出现且足以扰乱观者视觉的明暗斑点。激光斑点可能导致经印刷的图案在视觉上看上去不均匀并且在经成像的特征边缘中不一致(其可利用光学显微镜以足够的放大倍率观察得知)。此为单色相干照明的建设性和破坏性效果的必然结果。为选择二极管激光器用于照明，可设计可减少激光斑点的机构。可将散光器设于激光源前方。此设计基本上是试图模拟“余弦”照明源，并且那可能造成更多的光损失，故不适用于本发明。为解决上述问题，所公开的照明系统收集并混合光纤束为照明源，其各个光纤分别具有二极管激光源，其在某种程度上可以减少激光斑点。接下来，该系统采用像素融合成像法，其使用数百次曝光闪光来共同形成光阻上的一个图像图案。根据本公开的一些方面，该像素融合成像法的一个实施方式是使原本位于固定位置的基板相对于DMD(数字微镜器件)移动，并在基板移动的同时，执行一系列短暂曝光闪光，其中每次曝光闪光的延时均很短，以免影像模糊。当基板移至下一位置时，根据基板相对于DMD的位置，可开启另一组微镜像素以提供曝光闪光。在某些实施例中，可以数百次曝光闪光达成光阻所需的标称曝光量。因此，标称曝光量可为不同微镜多次闪光的总和。图8图示了根据本公开的一些方面的融合多重曝光的示例性方法的图像输出。此示例性影像由上述像素融合曝光法产生。如所示出的，图像特征边缘是平滑和均匀的。未观察到激光斑点效应。多个固态发光源可分别连接至光纤。对应于其固态发光器的许多光纤束被配置为形成用于光刻曝光应用的单一均匀照明源。虽然各光纤混合于光纤束中，但该系统可以被配置为辨识出各光纤输出所对应的发射源源头，从而控制个别发射器光源。可定期检查各发射器光源，这可以被安排在曝光闪光、晶圆批次更替、基板装载与卸载之间，在机器未运转时的特定时间，或者在适合光强度和/或使用寿命质量检查的任何时段。可一次检查所有发射器的使用寿命和/或强度水平，或者可以轮流单独地完成，只要各发射器在特定持续时间内被均匀测试。在多发射器光刻照明中，一种数字微调强度水平步长的方法是选择性地使部分发射器不闪光，以降低整体强度水平。在调降水平曝光的过程中，选择哪些发射器不闪光可由软件程序自动决定或者由人类操作员决定，只要照明均匀度依规格控制。使用多发射器光源的光刻照明系统可被配置为选择性地接通某些具有不同曝光波长的发射器。使用多种曝光波长，该照明系统可被配置为使由于单色曝光波长在光阻膜内产生的驻波效应最小化。驻波是导致特征CD变化的因素之一。对于使用多发射器光源的光刻照明系统而言，标称曝光量可由多次曝光闪光形成，且每次曝光闪光使用不同的光化波长以实现整体光刻成像的目的。光纤束中还可包括用于对准目的的多个非光化发射器，并且为了质量控制的目的，它们还可经受相同的微调应用。图9图示了根据本公开的一些方面的控制照明系统的方法。在图9所示的示例性实施例中，在块902中，控制器可包括被配置为提供多个照明源的逻辑。在块904中，控制器可包括被配置为在一段时间内监测多个照明源的光输出功率的逻辑。在块906中，控制器可包括被配置为控制多个照明源以维持预定水平的光输出功率的逻辑。多个照明源包括下列各项中的至少一项：光化照明源和非光化照明源；以及具有第一曝光波长的第一组照明源和具有第二曝光波长的第二组照明源。根据本公开的实施例，块904中所执行的逻辑还可包括块908中所执行的逻辑。例如，块908可包括被配置为顺序地校正多个照明源的子集以确定多个照明源的被校正的子集的光输出的逻辑。块906中所执行的逻辑还可包括块910与块914中所执行的逻辑。块910可包括被配置为补偿多个照明源中的一个或多个照明源的衰减以维持预定水平的光输出功率的逻辑。该被配置为补偿多个照明源中的一个或多个照明源的衰减的逻辑包括下列各项中的至少一项：被配置为增加施加到多个照明源的电流以增加光输出功率的逻辑；以及被配置为增加活动照明源的数量以增加光输出功率的逻辑，如块912所示。块914包括：被配置为将第一组多个照明源维持在活动状态的逻辑；被配置为将第二组多个照明源维持在非活动状态的逻辑；以及被配置为将第二组多个照明源中的至少一个照明源转换至第一组多个照明源以补偿第一组多个照明源中的至少一个故障照明源的逻辑。块916包括：被配置为检测多个照明源中的至少一个缺陷照明源的逻辑；以及被配置为控制多个照明源中的至少一个非缺陷照明源以取代至少一个缺陷照明源的照明的逻辑。块918包括：被配置为基于多个照明源的参数预测照明系统的使用寿命的逻辑；以及被配置为根据质量控制计划表执行多个照明源的定期维护的逻辑。以上虽参考不同的功能单元和处理器阐明了本发明的一些方面，但所述功能显然可在不同的功能单元与处理器之间以任何适当的方式分配而不背离本发明。例如，由不同处理器或控制器执行的功能可改由同一处理器或控制器完成。因此，本文在提及特定功能单元时是指可提供所述功能的适当手段，而非指严格的逻辑或实体结构或组织。本发明的方法和系统可以任何适当形式实现，包括硬件、软件、固件或其任一组合。本发明的部分内容可视需要而被实施为可由一个或多个数据处理器和/或数字信号处理器执行的计算机软件。本发明的实施例中的元件和组件，其实体、功能与逻辑均可以任何适当方式实施。诚然，所述功能可以以单一单元或多个单元来实施，或者被实施为其它功能单元的一部分。因此，本发明可以以单一单元来实施，或者可以将其实体与功能分配至不同的单元与处理器。相关领域技术人员将意识到，本文所公开的一些方面可以多种方式进行修改和组合，但仍使用相同的基本的潜在机构和方法。出于解释的目的，已经参考特定的一些方面写出了前述说明。然而，以上说明并未旨在穷尽所有可能的实施方式或者将本发明限于所公开的精确形式。相关领域技术人员在参阅以上教导后，或可思及多种修改和变化。选择并描述一些方面，以阐释本发明的原理及其实际应用，并且使本领域其他技术人员能够依特定用途进行各种修改，以善用本发明及其各种方面。