本发明涉及挠性装置(flexibledevice)用基板及其生产方法。更具体地，本发明涉及挠性装置用基板，其水分阻隔性和绝缘层的密合性优异且没有表面缺陷，由此优选应用于与有机el相关的仪器；和涉及该挠性装置用基板的生产方法。进一步，本发明涉及挠性装置用基板用的基材及其生产方法。更具体地，本发明涉及挠性装置用基板用的基材，其对玻璃层的密合性优异并且能够减少所形成的玻璃层的表面缺陷；和涉及该基材的生产方法。进一步，本发明涉及铋系无铅玻璃组合物。更具体地，本发明涉及有效地防止小突起(seeding)或眼孔的产生并且形成表面平滑性优异的玻璃层的铋系无铅玻璃组合物。
背景技术：
用于有机el照明、有机el显示器或有机太阳能电池等的挠性装置用基板需要具有如水分阻隔性和气体阻隔性等阻隔性，并且还需要平滑性和绝缘性。以下专利文献1公开了通过以下制备的有机el元件的结构：在塑料膜基材上依次层叠透明导电层、有机发光介质层和阴极层，其上经由粘接层层叠金属箔。然而，从水分阻隔性的观点，该塑料膜基材是不令人满意的。以下专利文献2公开了一种挠性装置用基板，其在不锈钢基材上设置有聚酰亚胺树脂的平坦化层。然而，其由于聚酰亚胺树脂的高吸水性而不能提供令人满意的水分阻隔性。以下专利文献3公开了一种挠性太阳能电池基板，其通过在不锈钢基材上形成二氧化硅系玻璃的膜来制备。然而，典型的二氧化硅系玻璃具有比不锈钢小的热膨胀系数，因而其缺乏对不锈钢基材的密合性。二氧化硅系玻璃的另一问题在于，其易受弯曲和冲击损害。如专利文献4等其它文献公开了可用作薄膜电气电路和挠性显示器的基板的各种玻璃基板。然而，该玻璃基板易受如扭曲等弯曲损害，因而，已经需要具有更高强度的挠性装置用基板。为了解决这些问题，本发明人提出如专利文献5中所述的挠性装置用金属基板。所述基板通过在金属基材的表面上形成镀镍层、并且将电绝缘性铋系玻璃层叠在镀镍层的表面上来制备。现有技术文献：专利文献：专利文献1：jp2004-171806a专利文献2：jp2011-97007a专利文献3：jp2006-80370a专利文献4：jp2012-197185a专利文献5：jp2014-107053a技术实现要素：发明要解决的问题挠性装置用金属基板通过将铋系玻璃层叠在金属基材上来制备。由于金属基材具有优异的机械强度并且铋系玻璃具有优异的水分阻隔性和对金属基材的密合性，因而该基板具有优异的耐弯曲性并且还具有优异的绝缘性和平坦性，并且其重量轻并且具有挠性。然而，玻璃层的表面会具有作为微小凸部的小突起和作为微小凹部的眼孔。这些微小的缺陷会损害玻璃层的平滑性。本发明人研究了在玻璃层的表面上形成这些微小的缺陷的原因，从而发现，玻璃层的表面上的这些微小的缺陷由于产生来自玻璃的结晶或气泡的破裂痕等而形成。特别地，发现通过源于由于气泡的破裂痕和玻璃的结晶导致的玻璃层的扰动的表面张力的影响而产生眼孔。因此，本发明的目的是提供具有优异的表面平滑性的挠性装置用基板及其生产方法。该挠性装置用基板在水分阻隔性和玻璃层的密合性方面优异，并且同时，其可以有效地防止在玻璃层的表面上产生小突起和眼孔的产生。本发明的另一目的是提供挠性装置用基板用的基材及其生产方法。该基材对玻璃层的密合性优异，并且同时，其可以有效地防止在由此形成的玻璃层的表面上如眼孔等表面缺陷的产生。本发明的又一目的是提供一种铋系无铅玻璃组合物，其可以用于形成具有优异的水分阻隔性和对金属基板的密合性、并且可以有效地防止小突起和眼孔的产生、表面平滑性优异的玻璃层。用于解决问题的方案本发明提供了一种挠性装置用基板，其具有：包括形成于金属基材的至少一个表面上的镀镍层的镀镍金属基材、或镍系基材、和在镀镍层或镍系基材上的电绝缘性铋系玻璃以层状形成的玻璃层。具有凹凸表面的氧化物膜形成于镀镍层的表面或镍系基材的表面上，并且所述铋系玻璃包含70至84重量％的bi2o3、10至12重量％的zno和6至12重量％的b2o3。在所述挠性装置用基板中优选的是：1.铋系玻璃包含sio2和/或al2o3，sio2的含量为0至2重量％和al2o3的含量为0至1重量％，并且sio2的含量和al2o3的含量不同时为0重量％；2.铋系玻璃包含cuo和/或nio，cuo的含量为0至2重量％和nio的含量为0至2重量％，并且cuo的含量和nio的含量不同时为0重量％；3.铋系玻璃以大于0重量％且1.5重量％以下的量包含任意的y2o3、zro2、la2o3、ceo2、tio2、coo和fe2o3。4.氧化物膜的表面的算术平均粗糙度(ra)在30至100nm的范围内；5.氧化物膜的表面的最大高度粗糙度(rz)在420至900nm的范围内；6.氧化物膜的厚度在40至1200nm的范围内；7.玻璃层的厚度在2至45μm的范围内；8.在镀镍层的表面层或镍系基材的表面层上存在铁；9.存在于镀镍层的表面层或镍系基材的表面层上的铁包括3原子％以下的金属铁；10.镀镍层的表面层或镍系基材的表面层包括30原子％以上的氧；11.存在于镀镍层的表面层或镍系基材的表面层上的镍包括20原子％以下的金属镍；12.当将玻璃层的厚度方向上的任意面上氧的量设定为100％时，玻璃层与镀镍层或镍系基材之间的界面上氧的量为80％以上；和13.用于形成电极层的底层形成于玻璃层的表面上，并且底层包括镍或氧化铟锡。在本发明中进一步优选的是，提供一种挠性装置用基板。该基板具有：包括形成于金属基材的至少一个表面上的镀镍层的镀镍金属基材、或镍系基材，在镀镍层或镍系基材上的电绝缘性铋系玻璃以层状形成的玻璃层，和设置在玻璃层的表面上的用于形成电极层的底层。在本发明的挠性装置用基板中优选的是，底层包括任意的镍、氧化铟锡、银、金、铜、镁-银、金-铜、银-铜、氧化锌、钴、和钯。进一步，本发明提供挠性装置用基板的生产方法，其包括：氧化物膜形成步骤，在含氧气氛中煅烧(下文中，这可以表述为“焙烧”)具有形成于金属基材的至少一个表面上的镀镍层的镀镍金属基材、或镍系基材，以在镀镍层的表面或镍系基材的表面上形成氧化物膜，和玻璃层形成步骤，在氧化物膜上形成包含bi2o3、zno和b2o3的铋系玻璃层。在本发明的挠性装置用基板的生产方法中优选的是：1.在氧化物膜形成步骤中，将镀镍层或镍系基材的表面在550至900℃的温度下煅烧；和2.在玻璃层形成步骤中，将涂覆在镀镍层或镍系基材上的铋系玻璃组合物在550至900℃的温度下煅烧10至300秒。进一步，本发明提供一种有机el器件用基板，其包括：所述挠性装置用基板、形成于挠性装置用基板的底层或玻璃层上的电极层、形成于电极层上的有机薄膜发光层和形成于有机薄膜发光层上的透明电极层。本发明提供一种挠性装置用基板用的基材。该基材包括：包括形成于金属基材的至少一个表面上的镀镍层的镀镍金属基材、或镍系基材，其中凹凸的氧化物膜形成于镀镍层的表面或镍系基材的表面上。在本发明的挠性装置用基板用的基材中优选的是：1.氧化物膜的算术平均粗糙度(ra)在30至100nm的范围内；2.氧化物膜的表面的最大高度粗糙度(rz)在420至900nm的范围内；3.氧化物膜的厚度在40至1200nm的范围内；4.氧化物膜的厚度在500至1000nm的范围内；5.在镀镍层的表面层或镍系基材的表面层上存在铁；6.存在于镀镍层的表面层或镍系基材的表面层上的铁包括3原子％以下的金属铁；7.镀镍层的表面层或镍系基材的表面层包括30原子％以上的氧；和8.存在于镀镍层的表面层或镍系基材的表面层上的镍包括20原子％以下的金属镍。进一步，本发明提供一种挠性装置用基板用的基材的生产方法，其包括：在含氧气氛中煅烧具有形成于金属基材的至少一个表面上的镀镍层的镀镍金属基材、或镍系基材，以在镀镍层的表面或镍系基材的表面上形成氧化物膜。本发明提供一种铋系无铅玻璃组合物，其包含70至84重量％的bi2o3、10至12重量％的zno和6至12重量％的b2o3。在本发明的铋系无铅玻璃组合物中优选的是：1.包含sio2和/或al2o3，sio2的含量为0至2重量％和al2o3的含量为0至1重量％，并且sio2的含量和al2o3的含量不同时为0重量％；2.包含cuo和/或nio，cuo的含量为0至2重量％和nio的含量为0至2重量％，并且cuo的含量和nio的含量不同时为0重量％；和3.以大于0重量％且1.5重量％以下的量包含任意的y2o3、zro2、la2o3、ceo2、tio2、coo和fe2o3。进一步，本发明提供一种铋系无铅玻璃组合物糊剂，其包括上述玻璃组合物的粉末、和载体，玻璃组合物的粉末的平均粒径为20μm以下。发明的效果本发明提供一种挠性装置用基板，其具有防止或控制玻璃层的表面上结晶(小突起)和眼孔的产生、由此赋予优异的表面平滑性和绝缘性的玻璃层。进一步，对于本发明的挠性装置用基板，使用具有镀镍层的金属基材、或镍系基材，并且使用其上形成有凹凸表面的氧化物膜。结果，该基板的玻璃层的密合性优异，并且其具有充分的挠性，从而即使进行辊对辊(roll-to-roll)的步骤，也防止剥离等。此外，本发明的基板包括具有能够完全地防止水分渗透的致密结构的玻璃层；因而，其也具有优异的水分阻隔性并且可以有效地用作有机el的基板。另外，由于底层形成于玻璃层上从而制成用于形成电极层的基底，因而电极层与挠性装置用基板之间的密合性得到改善以有效地防止电极层的剥离。进一步，根据本发明的挠性装置用基板的生产方法，可以连续地制造没有表面缺陷的挠性装置用基板，从生产性和经济性的观点，这是良好的。在本发明的挠性装置用基板用的基材中，具有凹凸表面的氧化物膜形成于镀镍金属基材的镀镍层的表面或镍系基材的表面上。结果，对于在镀镍金属基材的镀镍层的表面或镍系基材的表面上作为绝缘层形成的玻璃层的密合性可以得到显著地改善。当该基材用于挠性装置用基板时，其可以展现充分的挠性，使得即使进行辊对辊的步骤，也防止玻璃层的剥离等。进一步，由于使氧化物膜的表面形成凹凸，因而可以防止在形成玻璃层期间玻璃层的扩展，因而，可以有效地防止或控制在玻璃层的表面上产生眼孔。进一步，根据本发明的挠性装置用基板用的基材的生产方法，将镀镍金属基材或镍系基材在含氧气氛中焙烧，以致具有前述功能的氧化物膜可以形成于镀镍层的表面或镍系基材的表面上。结果，可以容易且连续地生产能够形成没有表面缺陷的玻璃层的具有凹凸表面的氧化物膜，从生产性和经济性的观点，这是良好的。本发明的铋系无铅玻璃组合物具有无铅且从环境的观点为优异的、且难以结晶的玻璃组成，由此可以形成防止或控制其上小突起和眼孔的产生的具有优异的表面平滑性的玻璃层。另外，该组合物具有优异的对金属基材的密合性并且即使在薄层的状态下也可以防止小突起和眼孔的产生。因此，其可以良好地用作基板，像挠性装置用基板等有机el用的基板。此外，本发明的铋系无铅玻璃组合物具有完全防止水分渗透的致密结构，因而，当该铋系无铅玻璃组合物用于使用金属基板的电子装置中的绝缘层时，其可以展现优异的水分阻隔性。附图说明[图1]为用于示出本发明的挠性装置用基板用的基材的一个实例的截面结构的图。[图2]为用于示出本发明的挠性装置用基板的一个实例的截面结构的图。[图3]为示出本发明的挠性装置用基板的另一实例的截面结构的图。[图4]为用于示出使用图2中所示的本发明的挠性装置用基板的有机el器件用基板的截面结构的图。[图5]为用于示出使用图3中所示的本发明的挠性装置用基板的有机el器件用基板的截面结构的图。[图6]包括示出在焙烧表1中的镀镍钢板的基材no.1、no.2、no.6和no.10之后的镀镍层的表面的sem照片(a)-(d),和示出基材no.4的镀镍层的表面的sem照片(e)。[图7]包括表5中的实施例12和比较例1的镀镍层与玻璃层之间的界面的tem照片(a)和(b)。具体实施方式(挠性装置用基板用的基材)本发明的挠性装置用基板用的基材为通过在金属基材的至少一个表面上形成镀镍层制备的镀镍金属基材、或镍系基材。该基材的必要特征在于，具有凹凸表面的氧化物膜形成于镀镍层的表面或镍系基材的表面上。图1为示出本发明的挠性装置用基板用的基材的截面结构的图，其中使用通过在金属基材10的表面上形成镀镍层11制备的镀镍金属基材。氧化物膜12形成于镀镍层11的表面上，并且该氧化物膜12的表面具有凹凸12a。[金属基材]在用于挠性装置用基板用的基材的金属基材上，形成镀镍层。用于该基材的金属的实例包括：铁、不锈钢、钛、铝、和铜等，尽管本发明不限于这些实例。优选使用热膨胀系数在8×10-6至25×10-6/℃的范围内，特别是在10×10-6至20×10-6/℃的范围内的物质。可选择地，在本发明中，可以制备镍系基材即纯镍板或镍合金板的金属基材，而不形成镀镍层。在镍合金板中可以与镍制成合金的金属的实例包括铁(fe)、铜(cu)和铬(cr)。金属基材或镍系基材的厚度优选在10至200μm、特别是20至100μm的范围内，从而获得充分的挠性。[镀镍层]在本发明的挠性装置用基板用的基材中，形成于金属基材表面上的镀镍层为通过镀覆镍形成的层，并且所述镀覆可以为后述的电解镀覆或无电解镀覆。虽然在图1所示的实例中镀镍层形成于金属基材的仅一个表面上，但是其可以形成于金属基材的两个表面上。优选地，镀镍层的厚度(其包括氧化物膜的厚度)在0.1至10μm，特别是0.5至5μm的范围内。当镀镍层的厚度小于该范围时，与其中该厚度在上述范围内的情况相比，玻璃层的密合性会变差。即使当镀镍层的厚度大于该范围时，也不能期望该效果的进一步改善，并且经济性变差。镀镍层可以在与金属基材的界面上具有合金层。[氧化物膜]如上所述，本发明的必要特征在于，具有凹凸表面的氧化物膜形成于镀镍层或镍系基材的表面上。由于该氧化物与玻璃之间的反应，形成密合层以改善玻璃层的密合性。出于该原因，存在于镀镍层或镍系基材的表面上的金属镍优选为20原子％以下，特别是18原子％以下。氧化物膜至少包括通过在如下所述的含氧气氛中焙烧镀镍层或镍系基材的表面形成的氧化镍。可选择地，氧化物膜可以包括氧化镍和从金属基材扩散的金属的氧化物。即，在使用钢板作为金属材料或使用镍-铁合金板作为镍系基材的情况下，优选在镀镍层或镍系基材的表面上存在铁。由于表面上的铁作为氧化物存在，因此可以通过与氧化镍协同而进一步改善玻璃层的密合性，存在于镀镍层的表面层或镍系基材的表面层上的铁中的金属铁优选为3原子％以下。优选的是，在镀镍层的表面层或镍系基材的表面层上氧的百分比为30原子％以上，特别是在35至50原子％的范围内，由此形成对玻璃层的密合性优异的氧化物膜。于在镀镍层或镍系基材的表面上形成玻璃层的情况下，当下述玻璃层的厚度方向上的任意面(下文中，其可以称为“玻璃层内部”)上的氧的量为100％时，在玻璃层与镀镍层或镍系基材之间的界面(下文中，这可以称为“(镀镍层/玻璃层)界面”)上的氧的量优选为80％以上，特别是在85至100％的范围内。即，由于镀镍层或镍系基材与玻璃层的界面具有与存在于玻璃层中的氧的量接近的氧的量，因而认为镀镍层或镍系基材的表面受到来自玻璃层的锚固效果。如从下述实施例中的结果清楚地示出，界面上的层间密合性显著地改善。这里，玻璃层的厚度方向上的任意面表示除了形成下述底层的表面附近或与镀镍层或镍系基材的界面附近以外基本上不受外部影响、在任何面中具有基本上相同的组成的玻璃层的厚度方向上的任意面。在本发明中，假定为晶粒的凸部形成于氧化物膜的表面上以形成凹凸(粗糙面)，由此防止在形成玻璃层期间玻璃组合物的扩展，从而有效地防止或控制眼孔的产生。优选的是，设置氧化物膜表面上的粗糙度(表面粗糙度)，以致算术平均粗糙度(ra)在30至100nm的范围内，特别是在50至90nm的范围内，并且最大高度粗糙度(rz)在420至900nm的范围内，特别是在600至850nm的范围内。此外，氧化物膜的厚度在40至1200nm、优选500至1000nm、更优选500至900nm的范围内。当氧化物膜的厚度小于上述范围时，与其中该厚度在上述范围内的情况相比，镀镍层或镍系基材的表面改性会不充分。当氧化物膜的厚度大于上述范围时，与其中该厚度在上述范围内的情况相比，镀镍层的表面层或镍系基材的表面层会进一步合金化，并且其会使镀镍层的表面层或镍系基材的表面层脆弱化，由此使镀镍层的表面层或镍系基材的表面层剥离。(挠性装置用基板用的基材的生产方法)本发明的挠性装置用基板用的基材可以通过如下的生产方法来生产，所述生产方法包括：氧化物膜形成步骤，在含氧气氛中煅烧通过在金属基材的至少一个表面上形成镀镍层而制备的镀镍金属基材、或镍系基材，由此在镀镍金属基材的表面或镍系基材的表面上形成氧化物膜。[镀镍层形成步骤]在本发明的挠性装置用基板的镀镍金属基材上的镀镍层的形成可以通过任意的传统方法来进行。对于镀镍层形成步骤，可以根据使用的金属基材来改变处理方法。当钢板用于金属基材时，在镀覆之前，将该板通过碱性电解等而脱脂，在水中洗涤，然后进行传统已知的预处理例如通过在硫酸中浸渍等的酸洗(acidpickling)。将预处理的金属基材如上所述以任意传统已知的方法例如电解镀覆和无电解镀覆来镀覆，以致可以形成镀镍层。从连续生产性的观点，电解镀覆是优选的。对于镍镀覆浴，依照已知配方，在已知的电解条件下，可以使用如瓦特浴和氨基磺酸浴等广泛使用的任意浴。如上所述，镀镍层优选地形成为厚度在0.1至10μm，特别是0.5至5μm的范围内。[氧化物膜形成步骤]在本发明的挠性装置用基板用的基材的生产方法中，重要的是通过在含氧气氛中焙烧镀镍金属基材的镀镍层的表面或镍系基材的表面而在镀镍层的表面或镍系基材的表面上形成凹凸的氧化物膜。焙烧条件没有特别地限制，只要可以形成前述氧化物膜即可，但优选地，焙烧温度在550至900℃，特别是750至850℃的范围内。焙烧时间可以根据含氧气氛的氧浓度和焙烧温度适合地改变。于在大气中在前述温度范围内焙烧的情况下，优选在该焙烧温度下焙烧5至120秒。如上所述，氧化物膜形成为厚度在40至1200nm的范围内，优选在500至1000nm的范围内，并且更优选在500至900nm的范围内。根据焙烧条件，作为该步骤中用于形成氧化物膜的煅烧的结果，合金层可以形成于镀镍层或镍系基材的表面上。[其它]如上所述，本发明的挠性装置用基板用的基材可以优选地用作具有玻璃层作为绝缘层的挠性装置用基板的基材。在本发明的挠性装置用基板用基材中，对于可以形成于具有凹凸表面的氧化物膜上的玻璃层，可以使用传统上用作有机el照明等的透明基板或绝缘层的任意的玻璃层，而没有任何特别的限制。例如，可以使用如锡-磷酸系玻璃、铋系玻璃、钒系玻璃和铅系玻璃等低熔点玻璃，尽管本发明不限于这些实例。其中，可以优选地层叠铋系玻璃，因为其具有优异的水分阻隔性并且还具有优异的对金属基材的密合性。对于铋系玻璃，软化点温度为300至500℃的电绝缘性铋系玻璃是优选的，并且具有包含bi2o3作为其主要组分(特别地，70重量％以上)的组成的玻璃是特别优选的。在通过使用本发明的挠性装置用基板用的基材来形成挠性装置用基板的情况下，通过煅烧平均粒径为20μm以下，优选在1至10μm的范围内的玻璃料来形成玻璃层。在使用铋系玻璃的情况下，在温度为430℃以上且低于900℃并且时间在10秒至30分钟的范围内的条件下，进行玻璃层的玻璃的形成。形成于本发明的挠性装置用基板用的基材上的玻璃层是表面粗糙度(ra)为10nm以下的平滑的，并且其可以没有表面缺陷，像眼孔。(挠性装置用基板)本发明的挠性装置用基板为如下的挠性装置用基板，其包括：通过在金属基材的至少一个表面上形成镀镍层制备的镀镍金属基材、或镍系基材，和在镀镍层或镍系基材上的作为电绝缘性铋系玻璃以层状形成的玻璃层。其必要特征如下。具有凹凸表面的氧化物膜形成于镀镍层的表面或镍系基材的表面上，并且铋系玻璃包含70至84重量％的bi2o3、10至12重量％的zno、和6至12重量％的b2o3。本发明的挠性装置用基板通过以下来制备：在形成于前述的挠性装置用基板用的基材的镀镍层或镍系基材上并且具有凹凸表面的氧化物膜上，形成由包含bi2o3、zno和b2o3的铋系玻璃组合物构成的作为绝缘层的玻璃层。图2示出本发明的挠性装置用基板2的截面结构的实例，其中使用通过在金属基材10的表面上形成镀镍层11制备的镀镍金属基材(图1中所示的挠性装置用基板用的基材1)。玻璃层13形成于镀镍层11的表面上，并且形成于镀镍层的表面11上的氧化物膜12的表面设置有凹凸12a。[玻璃层]已知的是，铋系玻璃具有优异的水分阻隔性和优异的对金属基材的密合性。本发明的铋系玻璃包含作为主要组分的bi2o3并且还包含作为必要组分的zno和b2o3，其中将这些组分在共晶点附近配混，由此形成难以结晶化的玻璃网络结构。作为与前述和镀镍层的组合协同的结果，可以提供可以有效地防止或控制在玻璃表面上眼孔的产生的挠性装置用基板。重要的是，铋系玻璃包含70至84重量％的bi2o3、10至12重量％的zno和6至12重量％的b2o3。由于这些组分的含量在这些范围内，因而防止或控制了玻璃的结晶，并且可以有效地防止或控制眼孔的产生。优选的是，用于本发明的挠性装置用基板的铋系玻璃除了必要组分以外，进一步包含sio2和/或al2o3，并且sio2的含量为0至2重量％和al2o3的含量为0至1重量％(其中sio2的含量和al2o3的含量不同时为0重量％)。通过配混这些组分中的至少之一，耐久性得到改善以致玻璃层可以稳定化。优选的是，用于本发明的挠性装置用基板的铋系玻璃除了必要组分以外，进一步包含cuo和/或nio，并且cuo的含量为0至2重量％和nio的含量为0至2重量％(其中cuo的含量和nio的含量不同时为0重量％)。通过配混这些组分中的至少之一，对镀镍层的密合性得到进一步改善，以致眼孔防止效果可以进一步改善。此外，优选的是，用于本发明的挠性装置用基板的铋系玻璃除了必要组分以外，进一步包含大于0且1.5重量％以下的任意的y2o3、zro2、la2o3、ceo2、tio2、coo和fe2o3，以致玻璃的耐久性可以得到改善并且可以有效地防止挠性装置用基板翘曲。这些组分可以彼此组合来使用。在此情况下，优选地，总量为1.5重量％以下。优选的是，本发明的挠性装置用基板的玻璃层的厚度在2至45μm的范围内。当玻璃层的厚度小于该范围时，与其中该厚度在上述范围内的情况相比，由氧化物膜导致的凹凸不能充分地平滑化。当该厚度大于上述范围时，与其中该厚度在上述范围内的情况相比，挠性会变差。[用于形成电极层的底层]在本发明的挠性装置用基板中，可以直接在玻璃层的表面上形成电极层例如阳极或阴极。如图3中所示，从电极层的密合性的观点，优选地，在玻璃层13的表面上形成底层14。底层14包含镍(ni)、氧化铟锡(ito)、银(ag)、金(au)、铜(cu)、锰-银(mgag)、金-铜(aucu)、银-铜(agcu)、氧化锌(zno)、钴(co)和钯(pd)等。该底层可以展现对于用于有机el基板的包括铝(al)、银(ag)、金(au)、或其合金等的所有电极层的优异的密合性。在形成包括铝(al)或银(ag)的电极层的情况下，在该金属或金属氧化物当中，底层特别优选包括镍或氧化铟锡。底层的优选的厚度在5至100nm的范围内。当该厚度小于上述范围时，会难以充分地改善电极层的密合性。即使当使该层比上述范围厚时，也不能期望密合性的任何进一步改善，但从经济性的观点，仅会导致劣势。由于该底层对于用于挠性装置用基板的全部种类的电绝缘性铋系玻璃具有优异的密合性，因而底层的应用不限于使用前述特定的铋系玻璃的情况。该底层可以优选地也用于其中电极层形成于任意的挠性装置用基板的情况。(挠性装置用基板的生产方法)本发明的挠性装置用基板可以通过包括氧化物膜形成步骤和玻璃层形成步骤的生产方法来生产。在氧化物膜形成步骤中，将通过在金属基材的至少一个表面上形成镀镍层制备的镀镍金属基材、或镍系基材在含氧气氛中煅烧，以致在镀镍层的表面或镍系基材的表面上形成氧化物膜。在玻璃层形成过程中，在氧化物膜上形成包含bi2o3、zno和b2o3的铋系玻璃层。即，在挠性装置用基板用的基材的生产方法中，本发明的挠性装置用基板经由镀镍层形成步骤、氧化物膜形成步骤、然后如下所述的玻璃层形成步骤而形成。该方法在玻璃层形成步骤之后，可以进一步包括在玻璃层上形成底层的步骤，以便形成包括镍或氧化铟锡等的电极层。[玻璃层形成步骤]在设置有通过前述的氧化物膜形成步骤在其上形成的氧化物膜的镀镍层上，形成包含bi2o3、zno和b2o3的铋系玻璃层。在玻璃层形成步骤中，通常，将玻璃粉末和载体混合和分散以制备玻璃糊剂，将该玻璃糊剂涂覆在镀镍层的表面上的氧化物膜上并且干燥，和煅烧，尽管程序不限于该实例。<玻璃糊剂的制备>用于玻璃层形成的玻璃粉末为包含作为基本组分的bi2o3、zno和b2o3的玻璃料。具体地，如上所述，bi2o3的含量为70至84重量％，zno的含量为10至12重量％，和b2o3的含量为6至12重量％。此外，如上所述，优选的是，玻璃组合物除了上述必要组分以外，进一步包含sio2和/或al2o3，cuo和/或nio，和任意的y2o3、zro2、la2o3、ceo2、tio2、coo和fe2o3。具体地，从玻璃的稳定性的观点，以0至2重量％的量包含sio2，和以0至1重量％的量包含al2o3；从改善对镀镍层的密合性的观点，以0至2重量％的量包含cuo，和以0至2重量％的量包含nio；从防止基板在煅烧之后翘曲的观点，以1.5重量％以下的量包含任意的y2o3、zro2、la2o3、ceo2、tio2、coo和fe2o3。优选的是，玻璃组合物的软化点温度在300至500℃的范围内。与软化点在该范围内的玻璃相比，在低于该范围的温度下软化的铋系玻璃在煅烧期间可以容易地结晶。此外，在需要脱胶(debinding)的情况下，玻璃会在脱胶处理的温度下软化。结果，粘结剂的分解气体会进入玻璃而导致针孔。当软化点温度高于上述范围时，与软化温度在上述范围内的情况相比，需要较高的温度，这会导致基板本身的变形或劣化从而阻碍膜的形成。当在相对低的温度下进行煅烧时，玻璃不充分地熔融，由此表面平滑性会劣化。玻璃粉末通过以下来获得：将玻璃组合物混合，在800至1200℃的范围内的温度下加热以形成熔融玻璃，淬火以获得玻璃料，然后，通过jet粉碎等来粉碎。为了获得平滑的玻璃面，优选将玻璃粉碎，以致平均粒径为20μm以下，优选在1至10μm的范围内，更优选1至5μm。在本发明中，玻璃粉末的平均粒径作为通过激光衍射-散射法得到的测量值而获得。通过将玻璃粉末和载体借助使用球磨机、涂料搅拌器、或辊等均质地混合和分散来获得玻璃糊剂。可选择地，从分散性的观点，其可以制备成分散液。对于载体，可以使用任意传统已知的溶剂系或水系载体，并且实例包括以下有机粘结剂和溶剂，尽管本发明不限于这些实例。有机粘结剂的实例包括：纤维素系树脂例如甲基纤维素、乙基纤维素、羧甲基纤维素、羟乙基纤维素(oxyethylcellulose)、苄基纤维素、丙基纤维素和硝基纤维素；有机树脂如通过使例如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸2-羟基乙酯、丙烯酸丁酯和丙烯酸2-羟基乙酯等至少一种丙烯酸系单体聚合获得的丙烯酸系树脂；和脂肪族聚烯烃系碳酸酯树脂例如聚异丙二醇碳酸酯(polypropylenecarbonate)，尽管本发明不限于这些实例。溶剂可以根据所使用的有机粘结剂适当地选择。实例包括：对于纤维素系树脂的情况，水、萜品醇、乙酸丁基卡必醇酯和乙酸乙基卡必醇酯等；对于丙烯酸系树脂的情况，甲基乙基酮、萜品醇、乙酸丁基卡必醇酯或乙酸乙基卡必醇酯等；和对于脂肪族聚烯烃系碳酸酯的情况，异丙二醇碳酸酯或甘油三乙酸酯等，尽管本发明不限于这些实例。已知的增粘剂和分散剂等可以按需要根据已知配方添加至玻璃糊剂中。<玻璃糊剂的涂布、干燥和煅烧>将由此制备的玻璃糊剂通过适于玻璃糊剂的粘度的涂布方法而涂布于镀镍层上。涂布可以通过使用棒涂机、模涂机、辊涂机、凹版涂布机或丝网印刷等来进行，尽管本发明不限于这些实例。优选地，由此形成的玻璃层的厚度为2至45μm。将所涂布的玻璃糊剂在80至180℃的范围内的温度下干燥。干燥之后，按需要进行脱胶处理。优选地，脱胶处理通过在180至450℃的范围内的温度下加热10分钟以上来进行。干燥之后，将已经按需要进行脱胶处理的涂布面在550至900℃、优选650至850℃的温度下煅烧10至300秒。当煅烧温度低于该范围时，与其中温度在该范围内的情况相比，熔融会不充分。当煅烧温度高于上述范围时，与其中温度在上述范围内的情况相比，镀镍层会受影响。[底层形成步骤]在本发明的挠性装置用基板中，可以直接在玻璃层上形成电极层。然而，如上所述，优选的是，形成底层并且在底层上形成电极层。可以通过例如溅射法、气相沉积法和cvd法等任意传统已知的方法由例如镍和氧化铟锡等金属或金属氧化物制成底层。在成膜方法当中，特别优选溅射。对溅射的条件没有特别的限制，但溅射可以在任意传统已知的条件下进行，只要可以形成厚度在5至100nm的范围内的底层即可。还优选在底层形成之前通过传统已知的洗涤和干燥方法来使玻璃层表面清洁化。(有机el器件用基板)图4为示出有机el器件用基板的一个实例的截面结构的图，其中使用如图2中所示的本发明的挠性装置用基板。挠性装置用基板2包括金属基材10和形成于金属基材10的两个表面上的镀镍层11a、11b。在镀镍层11a的表面上，形成具有凹凸表面的氧化物膜12，并且在该氧化物膜12上上形成玻璃层13。有机el器件用基板3至少包括形成于挠性装置用基板的玻璃层13上的电极层(ag,al)20、形成于电极层20上的有机薄膜发光层21和形成于有机薄膜发光层21上的透明电极层22。在图4中所示的具体实例中，透明密封层23和透明密封构件24进一步层叠于透明电极层22上，并且耐腐蚀性层25形成于镀镍层11b上。此外，图5为示出用挠性装置用基板2’形成的有机el器件用基板3’的截面结构的图，所述挠性装置用基板2’包括图3中所示的形成于玻璃层13上的底层14。(铋系无铅玻璃组合物)本发明的铋系无铅玻璃组合物的必要特征在于，其包括70至84重量％的bi2o3、10至12重量％的zno和6至12重量％的b2o3。由于在该范围包含这些组分并且在共晶点周围的范围内，因而形成难以结晶的玻璃。在本发明中，bi2o3为用于降低玻璃的粘性的主要组分，并且优选地，以70至84重量％、特别是75至82重量％的量包含bi2o3。当bi2o3的含量小于上述范围时，软化点变高，并且粘性过度增大。当该含量大于上述范围时，会促进结晶从而产生小突起或眼孔。zno为用于使玻璃稳定化且防止玻璃熔融时的失透(devitrification)的组分，并且优选地，以10至12重量％、特别是10.5至11重量％的量包含zno。当zno的含量小于上述范围时，玻璃的耐久性会劣化，同时，失透会容易发生。另外，玻璃化转变温度会升高，以致煅烧的玻璃的平滑性会劣化。当zno含量大于上述范围时，可以促进结晶从而产生小突起和/或眼孔，同时，耐久性会劣化。b2o3为用于形成玻璃网络的组分，并且优选地，以6至12重量％、特别是6至7重量％的量包含b2o3。当b2o3的含量小于上述范围时，玻璃会不稳定，并且其耐久性会劣化。另外，玻璃在煅烧期间会容易结晶，由此产生小突起和/或眼孔。当b2o3含量大于上述范围时，耐水性会劣化。优选地，本发明的玻璃组合物除了必要组分以外，还包含sio2和/或al2o3。sio2与b2o3一起形成玻璃网络，以致玻璃可以进一步稳定化。优选地，sio2的含量为2重量％以下，特别是在1.2至1.5重量％的范围内。当sio2含量大于上述范围时，与在前述范围内配混该组分的情况相比，玻璃的熔融性会劣化。进一步，配混al2o3使得可以使玻璃进一步稳定化。al2o3的配混量优选为1重量％以下，并且特别优选在0.4至0.6重量％的范围内。当al2o3的配混量大于以上范围时，与配混量在上述范围内的情况相比，玻璃的熔融性会劣化。优选的是，本发明的玻璃组合物除了前述必要组分以外，进一步包含cuo和/或nio。通过以2重量％以下的量、特别是以1.3至1.6重量％的量配混cuo，玻璃的熔融性可以得到改善。当cuo的配混量大于上述范围时，对金属基材的密合性会劣化。进一步，通过以2重量％以下的量、特别是以1.3至1.6重量％的范围配混nio，与配混cuo的情况相似，玻璃的熔融性可以得到改善。当nio的配混量大于上述范围时，对金属基材的密合性会劣化。优选地，本发明的玻璃组合物除了前述必要组分以外，以1.5重量％以下的量进一步包含任意的y2o3、zro2、la2o3、ceo2、tio2、coo和fe2o3。当以上述量包含任意的y2o3、zro2、la2o3、ceo2、tio2、coo和fe2o3时，玻璃的耐久性可以得到改善。然而，当这些组分的配混量超过上述范围时，玻璃的耐久性会相当劣化。这些组分也可以作为多种组分的组合来使用。在此情况下，总量优选为1.5重量％以下。[铋系无铅玻璃组合物糊剂]本发明的铋系无铅玻璃组合物糊剂包括前述玻璃组合物粉末和载体，其必要特征在于，玻璃组合物粉末的平均粒径为20μm以下。与玻璃组合物粉末一起构成糊剂的载体用于调节糊剂的粘性，并且其通过将有机粘结剂溶解于溶剂中来制备。优选的是，玻璃组合物糊剂包含30至80重量％的前述玻璃组合物粉末、大于0且10重量％以下的有机粘结剂、和10至70重量％的溶剂。当玻璃组合物粉末的量小于上述范围时，糊剂粘度降低而使得难以形成期望厚度的玻璃层。当玻璃组合物粉末的量超过上述范围时，糊剂粘度会过度增大从而使涂布性劣化。当有机粘结剂的量小于上述范围时，涂布性会劣化。当有机粘结剂的量大于上述范围时，在煅烧之后会残留有机物的未煅烧残留物。此外，当溶剂的量小于上述范围时，糊剂粘度过度增大从而使涂布性劣化。当溶剂的量大于上述范围时，糊剂粘度过度降低从而使得难以形成期望厚度的玻璃层。有机粘结剂的实例包括：纤维素系树脂例如甲基纤维素、乙基纤维素、羧甲基纤维素、羟乙基纤维素、苄基纤维素、丙基纤维素和硝基纤维素；有机树脂例如通过使例如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸2-羟基乙酯、丙烯酸丁酯和丙烯酸2-羟基乙酯等一种以上的丙烯酸系单体聚合获得的丙烯酸系树脂；和脂肪族聚烯烃系碳酸酯树脂例如聚异丙二醇碳酸酯，尽管本发明不限于这些实例。溶剂可以根据所使用的有机粘结剂而适当地选择，并且实例包括：对于纤维素系树脂的情况，水、萜品醇、乙酸丁基卡必醇酯和乙酸乙基卡必醇酯；对于丙烯酸系树脂的情况，甲基乙基酮、萜品醇、乙酸丁基卡必醇酯和乙酸乙基卡必醇酯；和对于脂肪族聚烯烃系碳酸酯的情况，异丙二醇碳酸酯和甘油三乙酸酯，尽管本发明不限于这些实例。玻璃组合物糊剂通过将玻璃组合物粉末和载体混合，并且分散该混合物来获得。这里，玻璃组合物粉末通过粉碎包括前述铋系无铅玻璃组合物的玻璃料来获得。具体地，玻璃组合物粉末通过混合前述玻璃组合物，在800至1200℃的温度下加热混合物，并且淬火以获得玻璃料，然后粉碎该料来获得。粉碎方法包括传统已知的方法，例如jet粉碎、迅速研磨粉碎、和球磨机粉碎。在本发明中，重要的是，玻璃组合物粉末的平均粒径为20μm以下，优选在1至10μm，并且更优选1至5μm的范围内，从而获得平滑玻璃表面。为了获得此类微细粉末，在粉碎方法当中，jet粉碎是优选的。在本发明中，玻璃组合物粉末的平均粒径为通过激光衍射-散射法测量的值。然后，所获得的平均粒径为20μm以下的玻璃组合物粉末与载体混合并且分散。混合和分散的方法的实例包括通过使用装配有搅拌叶片的旋转式混合机、球磨机、涂料搅拌器、辊磨机、玛瑙研钵和超声波来分散。优选地，混合和分散使用球磨机、涂料搅拌器或辊磨机来进行。任意已知的增粘剂或分散剂等可以按需要根据已知配方添加至玻璃组合物糊剂中。[玻璃层的形成]本发明的玻璃组合物糊剂不仅可以在前述本发明的挠性装置用基板用的基材上，而且可以在任意其它基板例如玻璃基板、陶瓷基板、铝基板、不锈钢基板、钢基板和镀有ni等的各种钢基板、和钛基板上通过例如棒涂机、模涂机、辊涂机、凹版涂布机、丝网印刷机、胶版印刷机和施涂机来涂布。将涂布的玻璃糊剂在80至180℃的温度下干燥。干燥之后，可以按需要进行脱胶处理。优选的是，加热在脱胶处理中在180至450℃的温度下进行10分钟以上。干燥之后，将已经按需要进行脱胶处理的涂布面在550至900℃、优选650至850℃的温度下煅烧10至300秒从而形成玻璃层。如果煅烧温度低于上述范围，则与其中煅烧温度在上述范围内的情况相比，熔融会不充分。如果煅烧温度高于上述范围，则与其中煅烧温度在上述范围内的情况相比，基板会受影响。优选地，本发明的玻璃组合物的软化点温度在300至500℃的范围内。与铋系玻璃的软化点温度在上述范围内的情况相比，可以在低于该范围的温度下软化的铋系玻璃在煅烧期间会容易结晶。进一步，存在以下风险：在需要脱胶处理的情况下，玻璃会在脱胶温度下软化。结果，粘结剂的分解气体会进入玻璃从而产生针孔。当软化点温度高于上述范围时，与其中软化点温度在上述范围内的情况相比，煅烧温度需要更高。结果，基板本身会变形或劣化从而阻碍膜的形成。如果煅烧在相对低的温度下进行，则玻璃熔融会不充分，并且表面平滑性会劣化。实施例：实验a(基材no.1至11，和no.15)1.镀镍钢板[金属基材]对于金属基材，准备通过使具有下述化学组成的普通钢的冷轧板(厚度：50μm)退火脱脂而获得的钢板。组成包括：c为0.03重量％；si为0.01重量％；mn为0.25重量％；p为0.008重量％；s为0.005重量％；al为0.051重量％；和余量包括fe和不可避免而包含的组分。[镀镍层的形成]接下来，使钢板(尺寸：长度12cm、宽度10cm、和厚度50μm)进行碱电解脱脂、通过浸渍于硫酸中的酸洗、然后在以下条件下进行镀镍，以致各自厚度为1μm并且表面粗糙度(ra)为30.1nm的镀镍层形成于钢板的两个表面上。浴组成：硫酸镍300g/l；氯化镍40g/l；硼酸35g/l；和凹坑抑制剂(pitinhibitor)(月桂基硫酸钠)0.4ml/l。ph：4至4.6浴温度：55℃至60℃电流密度：25a/dm2(基材no.12至no.14)2.纯镍板对于镍系基材，准备厚度为100μm的纯镍板。3.氧化物膜的形成在表1中所示的条件下，将基材no.1～3、5～7和15的镀镍钢板和基材no.13和14的纯镍板使用薄钢板热处理模拟器(产品编号：cct-av，由shinku-rikoinc.供应)来焙烧。出于比较目的，不焙烧基材no.4和no.12。在nh气氛中焙烧基材no.8至no.11。对于焙烧后的镀镍钢板，基材no.4的镀镍钢板、焙烧后的纯镍板和基材no.12的纯镍板，测量表面粗糙度，具体是算术平均粗糙度(ra)和最大高度粗糙度(rz)，以及表面氧化物的厚度。结果在表1中示出。图6包括示出基材no.1、no.2、no.6和no.10焙烧后的镀镍层表面的sem照片和示出基材no.4的镀镍层表面的sem照片。表1中的氧化物膜的厚度和表面粗糙度(ra,rz)通过以下方法来测量。依照jisb0601，在显微镜(纳米探测显微镜，产品编号ols3500，由olympuscorporation供应)的spm测量模式下测量算术平均粗糙度(ra)和最大高度粗糙度(rz)。使用场发射俄歇微探针(fieldemissionaugermicroprobe)(aes，产品编号jamp-9500f，由jeol供应)来测量氧化物膜厚度。[表1]4.基材表面层的通过xps的测量对于基材no.1、no.4、no.6、no.10和no.11的表面层，使用扫描xps微探针(xps设备，产品编号phi5000versaprobeii，由ulvac-phi,incorporated.供应)测量碳、氧、铁和镍的百分比(合计100原子％)，金属铁和铁氧化物的百分比(合计100原子％)，和金属镍和镍氧化物的百分比(合计100原子％)。结果在表2中示出。[表2]5.基材表面层上的铁的存在的确认对于基材no.1、no.4、no.6和no.12至no.14的表面层，使用扫描xps微探针来检测铁的存在。结果在表3中示出。[表3]基材no.基材表面层上的fe元素的有无1有4有6有12无13无14无6.玻璃层的形成在脱脂步骤中，使用基材no.1至no.15。出于脱脂的目的，用在醇中浸渍过的纱布擦拭各基材的表面。在涂膜形成步骤中，准备作为有机溶剂和粘结剂的混合物的载体。将载体在研钵中与表4中记载的玻璃组合物no.a至no.k的铋系玻璃料混合，以致重量比将会是25:75。使用陶瓷辊分散混合物，以生产涂膜形成用玻璃糊剂。然后，通过使用棒涂机用涂膜形成用玻璃糊剂涂布基材no.1至no.15的表面，以致煅烧后的涂膜厚度将会是20μm，从而形成涂膜。[表4](实施例1至13，比较例1至20)7.挠性装置用基板的评价(玻璃层的评价)将基材(基材no.)和涂膜形成用玻璃糊剂(玻璃组成no.)如表5中示出来组合以生产挠性装置用基板。使用电炉通过干燥(温度：110℃，时间：20分钟)、脱胶(温度：330℃，时间：20分钟)和煅烧(温度：750℃，时间：15秒)来进行玻璃煅烧步骤。对于所获得的挠性装置用基板，以下述方式来评价玻璃层中的气泡的有无、眼孔的有无和结晶(小突起)的有无。结果在表5中示出。眼孔主要由气泡导致。然而，由于一部分的眼孔会由其它因素导致，因而对气泡的有无和全部眼孔(包括由气泡导致的眼孔)的有无分别进行评价。[气泡评价]气泡评价，对于各自尺寸为100×100mm的挠性装置用基，以利用光学显微镜将焦点从各基材的表面(玻璃层与各基材之间的界面)向玻璃层的表面方向移动时能否确认气泡的方式进行判断。[眼孔评价]依照以下标准通过目视检测尺寸同样为100×100mm的挠性装置用基板，并且计数眼孔的个数来评价眼孔。◎：无眼孔○：眼孔个数小于5个△：眼孔个数为5个以上且小于10个×：眼孔个数为10个以上[结晶评价]对于尺寸同样为100×100mm的挠性装置用基板，评价有无可以目视确认的结晶。[综合评价]参考气泡评价、眼孔评价和结晶评价，根据以下标准来进行综合评价。◎：无气泡、无眼孔、且无结晶○：一些气泡、眼孔评价为○，无结晶△：一些气泡、眼孔评价为△，无结晶△△：一些气泡、眼孔评价为△，有结晶×：一些气泡、眼孔评价为×，无结晶××：一些气泡、眼孔评价为×，有结晶[表5]8.(镀镍层/玻璃层)界面上的氧的量对于实施例12和比较例1，使用场发射型tem(透射电子显微镜)来测量玻璃层内部(距离(镀镍层/玻璃层)界面0.4μm的玻璃侧的部位)的氧的量和(镀镍层/玻璃层)界面上的氧的量。当将玻璃层内部的氧的量设定为100％时，实施例12中(镀镍层/玻璃层)界面上的氧的量为89.1％，而比较例1中该量为75.3％。图7(a)为示出实施例12的(镀镍层/玻璃层)界面的tem照片，和图7(b)为示出比较例1的(镀镍层/玻璃层)界面的tem照片。(实验例1至7)将实施例12中的挠性装置用基板切割为20mm×20mm的小片，并且通过下述方法来洗涤玻璃层表面。在由此洗涤后的玻璃层表面上，根据下述的成膜方法形成包含镍和氧化铟锡(氧化锡：10重量％)的底层，并且在底层上，形成包含铝的电极层(阳极)。评价电极形成后的挠性装置用基板。以下的表6示出底层和电极层的种类、厚度、成膜速度和平均结果。[洗涤方法]将基材依序用清洁剂、离子交换水和醇洗涤，并且用干燥器来干燥。[成膜方法](1)将洗涤后的挠性装置用基板设置在rf磁控溅射装置中，并且抽真空至1×10-5pa的级别。(2)引入氩(ar)，以致成膜腔室内的压力将会是0.3pa。(3)成膜在表6中示出的成膜速度下进行预定时间。[评价方法]通过带剥离法，对于交叉切割(cross-cut)区域和除了交叉切割区域以外的区域二者进行评价。依照包括以下步骤(1)至(4)的交叉切割法(依照jisk5600-5-6)通过切割来形成交叉切割区域。在剥离带后，计数25个格子(lattice)当中的未剥离的格子的数目。对于除了交叉切割区域以外的区域，检测剥离的有无。(1)用刀对成膜面制作2mm间隔的直角格子图案(2mm间隔，25个格子)切痕。(2)将压敏粘合带(特殊的丙烯酸系压敏粘合剂pps-15，由3mcompany供应)贴附在格子图案上，用塑料橡皮摩擦以粘附压敏粘合带。(3)将压敏粘合带通过以相对于试验片尽可能接近于60°的角度一次性剥下。(4)计数未被压敏粘合带剥离的在成膜区域中的格子数。[表6]实验b(实施例1～9，比较例1～3)对于玻璃组合物，使用表7中所示的铋系玻璃组合物。对于载体，使用包含以重量比1:99配混的作为有机粘结剂的甲基纤维素和作为溶剂的水的载体。将表7中所示的玻璃组合物粉末、和载体在研钵中混合以致重量比将会是50:50。将混合物用陶瓷辊分散从而生产玻璃层形成用玻璃糊剂。对于基板，使用镀镍钢板。将基材表面用在醇中浸渍过的纱布擦拭以脱脂。然后，以使煅烧后的膜厚度是20μm的方式在热处理后的镀镍层上，用棒涂机涂布玻璃糊剂，由此形成涂膜。然后，将涂布后的基板通过使用电炉干燥(温度：120℃，时间：20分钟)和煅烧(温度：750℃，时间：15秒)，由此形成挠性装置用基板。(评价结果)针对形成的玻璃层，如下所述评价玻璃膜中的眼孔的有无和结晶(小突起)的有无。结果在表7中示出。评价标准如下。[眼孔的评价标准]对于100×100mm的挠性装置用基板，根据以下评价标准来评价有无可以目视确认的眼孔。◎：无眼孔○：眼孔个数小于5个△：眼孔个数为5个以上且小于10个×：眼孔个数为10个以上[结晶]对于100×100mm的挠性装置用基板，评价有无可以目视确认的结晶。[表7]产业上的可利用性本发明的挠性装置用基板在水分阻隔性、绝缘性、玻璃层的表面平滑性和密合性方面优异，因而，其可以适当地用作有机el照明、有机el显示器和有机薄膜太阳能电池等的基板。本发明的挠性装置用基板用的基材在对玻璃层的密合性方面优异，此外，其可以有效地防止在所形成的玻璃层的表面上的例如眼孔等表面缺陷的产生。因此，其尤其可以适当地用作用于例如有机el照明、有机el显示器和有机薄膜太阳能电池等挠性装置的基板的基板，因为此类基板包括玻璃层作为绝缘层。进一步，本发明的挠性装置用基板用的基材可以特别优选地用于其上要形成玻璃层的制品。还可以形成通过溅射或气相沉积得到的无机膜，或聚酰亚胺树脂等的树脂膜，而没有任何特别的限制。由于本发明的铋系无铅玻璃组合物可以用于形成没有小突起或眼孔产生的平滑性优异的玻璃层，其可以有效地用于电子装置用基板，特别是可以用于有机el的挠性装置用基板。附图标记说明1挠性装置用基板用的基材2挠性装置用基板3有机el器件用基板10金属基材11镀镍层12氧化物膜13玻璃层14底层20电极层(ag,al)21有机薄膜发光层22透明电极层23透明密封层24透明密封构件25耐腐蚀性层当前第1页12