1.一种有机el显示装置的制造方法，其特征在于，包含：
准备至少形成tft及第一电极的支撑基板；
在配置于蒸镀腔室的内部的蒸镀掩模上，使所述第一电极相对而安装所述支撑基板；
通过朝向所述蒸镀掩模的与所述支撑基板相对的面的相反面，从与所述蒸镀掩模分离的位置使有机材料飞散，从而对由多个层构成的有机层进行层叠；以及
在所述有机层之上形成第二电极，
在所述由多个层构成的有机层的层叠之前、所述由多个层构成的有机层的各有机层的层叠之前或者之后及所述第二电极的形成之前的至少1个时间点，进行使所述蒸镀掩模的露出面或者在所述蒸镀掩模上形成的有机层的露出面改质的改质处理。
2.根据权利要求1所述的有机el显示装置的制造方法，其特征在于，
所述由多个层构成的有机层的层叠，在与所述蒸镀腔室不同的蒸镀腔室使所述支撑基板移动、或者更换蒸镀掩模而进行，在所述支撑基板的移动时、或者所述蒸镀掩模的更换时，进行所述改质处理。
3.根据权利要求1或2所述的有机el显示装置的制造方法，其特征在于，
所述改质处理是氧气等离子处理、电晕处理、加热处理及紫外线照射处理中的至少1种。
4.根据权利要求2或3所述的有机el显示装置的制造方法，其特征在于，
所述改质处理在所述蒸镀掩模上将有机材料新沉积0.05μm以上、1μm以下的时间点进行。
5.根据权利要求1至4中的任意一项所述的有机el显示装置的制造方法，其特征在于，
所述改质处理在对用于与所述蒸镀掩模进行更换的预备的蒸镀掩模进行保管的掩模储存库的内部或者搬出口、或者用于更换所述蒸镀掩模的减压簇的内部进行。
6.根据权利要求1至5中的任意一项所述的有机el显示装置的制造方法，其特征在于，
所述蒸镀掩模是在所述蒸镀掩模中，为了使有机材料通过而设置的开口的至少周边仅由树脂薄膜形成的掩模。
7.一种有机el显示装置的制造装置，其特征在于，包含：
蒸镀腔室，其对有机材料进行蒸镀；
减压簇，其经由分隔阀与所述蒸镀腔室连接，对所述蒸镀腔室内的蒸镀掩模的出入进行中继；
掩模储存库，其经由分隔阀与所述减压簇连接，对更换用的蒸镀掩模进行保管；
改质处理装置，其对在所述蒸镀掩模的表面或者该蒸镀掩模上沉积的有机材料的表面进行改质。
8.根据权利要求7所述的有机el显示装置的制造装置，其特征在于，
所述改质处理装置是与所述掩模储存库或者所述减压簇独立且与所述减压簇经由分隔阀而设置的处理装置。
9.根据权利要求7所述的有机el显示装置的制造装置，其特征在于，
所述改质处理装置包含：一对电极，其设置于所述掩模储存库的内部、或者进行所述蒸镀掩模的出入的搬出口的附近；以及电源，其配置于所述掩模储存库的外部，向所述一对电极施加高频的高电压。
10.根据权利要求7所述的有机el显示装置的制造装置，其特征在于，
所述改质处理装置由在所述掩模储存库或者所述减压簇的内部生成等离子的氮气或者氧气的气体的供给源、以及可以形成高频电场的高频电源形成。
11.根据权利要求7所述的有机el显示装置的制造装置，其特征在于，
所述改质处理装置具有：充满氮气或者干燥空气的容器；以及加热器，其将所述容器内保持为80℃以上、500℃以下。
12.根据权利要求11所述的有机el显示装置的制造装置，其特征在于，
所述干燥空气是露点为-50℃以下的干燥空气。
13.根据权利要求7所述的有机el显示装置的制造装置，其特征在于，
所述改质处理装置具有：收容蒸镀掩模的容器；以及紫外线供给装置，其供给向所述容器内的所述蒸镀掩模的表面照射的紫外线。
14.根据权利要求13所述的有机el显示装置的制造装置，其特征在于，
所述进行照射的紫外线是185nm和/或254nm的紫外线。
15.根据权利要求13或者14所述的有机el显示装置的制造装置，其特征在于，
所述紫外线供给装置是低压水银灯。