1.本技术涉及电子设备
技术领域：
：，尤其是涉及一种壳体及其制备方法、电子设备。
背景技术：
：：2.pvd(物理气相沉积)镀膜普遍应用于电子设备表面改性，通过pvd镀膜可以改变产品表面的光学性能(如增加光的透过率)、增加表面硬度、改变表面的外观颜色等；其中改变表面的外观颜色即颜色膜的应用非常广泛，颜色膜通常与油墨搭配，使产品外观更多样，更富有美感；按照厚度均匀性可将颜色膜划分为纯色膜和渐变颜色膜，渐变颜色膜近来应用广泛，如各大手机厂商的旗舰手机产品，其后盖都有渐变颜色膜的应用，但渐变形式单一，产品外观多样性有待改进。技术实现要素：3.本技术提出一种壳体，以增加渐变颜色膜的渐变形式，提升壳体的广泛应用。4.本技术提出一种上述壳体的制备方法，以在边缘区向中心区方向上形成厚度逐渐减小的渐变颜色膜，增加渐变颜色膜的渐变种类，实现在0～30mm范围任意宽度表面精确控制膜层的渐变程度。5.本技术还提出一种具有上述壳体的电子设备。6.根据本技术实施例的壳体，包括：基板，所述基板包括中心区和包围所述中心区的边缘区；通过遮挡板遮挡部分所述基板以使膜料溅射至所述边缘区上的镀膜层，所述镀膜层的宽度为0-30mm，所述镀膜层的内边缘和外边缘分别为膜内圈和膜外圈，所述膜外圈的厚度大于所述膜内圈的厚度，所述镀膜层从所述边缘区至所述中心区方向上厚度渐变以使颜色渐变。7.根据本技术实施例的壳体，通过膜外圈的厚度大于膜内圈的厚度，镀膜层从边缘区至中心区方向上厚度渐变。从而使得镀膜层在边缘区向中心区方向上形成厚度逐渐减小的渐变颜色膜。另外，镀膜层的宽度为0-30mm，可以在0～30mm范围任意宽度表面精确控制膜层的渐变程度。从而能够增加渐变颜色膜的渐变形式，有利于提升壳体的广泛应用。8.根据本技术实施例的壳体的制备方法，包括：提供工作台，所述工作台可转动地设于镀膜腔体内；提供基板，所述基板包括中心区和包围所述中心区的边缘区，所述基板设在所述工作台上；提供垫块，所述垫块贴合于所述中心区；提供遮挡板，所述遮挡板设于所述垫块远离所述中心区的一侧；提供镀膜源，所述镀膜源用于朝向所述边缘区溅射膜料以使所述膜料沉积在所述边缘区上形成镀膜层，其中，形成的所述镀膜层的宽度为0-30mm，所述镀膜层的内边缘和外边缘分别为膜内圈和膜外圈，所述膜外圈的厚度大于所述膜内圈的厚度，所述镀膜层在从所述边缘区至所述中心区方向上厚度渐变以使颜色渐变。9.根据本技术实施例的壳体的制备方法，通过镀膜源朝向边缘区溅射膜料，遮挡板与基板邻近设置以对膜料进行部分遮挡，从而在边缘区上形成镀膜层，并且镀膜层在边缘区向中心区方向上厚度逐渐减小以颜色渐变。通过设置垫块以在基板和遮挡板之间形成一个固定高度的缝隙，并且通过调整垫块的高度能够方便地调控膜层厚度渐变的梯度，实现在0～30mm范围任意宽度表面精确控制膜层的渐变程度。通过调整遮挡板的尺寸，可以调控镀膜区域的大小。从而增加渐变颜色膜的渐变形式，有利于提升壳体的广泛应用。10.根据本技术实施例的电子设备，包括上述实施例任一项所述的壳体。11.根据本技术实施例的电子设备，通过在壳体上设置镀膜层，并使得膜外圈的厚度大于膜内圈的厚度，镀膜层从边缘区至中心区方向上厚度渐变。从而镀膜层在边缘区向中心区方向上形成厚度逐渐减小的渐变颜色膜。另外，镀膜层的宽度为0-30mm，可以在0～30mm范围任意宽度表面精确控制膜层的渐变程度。从而能够增加渐变颜色膜的渐变形式，有利于提升电子设备的广泛应用。12.本技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本技术的实践了解到。附图说明13.本技术的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：14.图1为本技术实施例中壳体的结构示意图；15.图2为本技术实施例中壳体的制备设备的结构示意图(其中，包括基板、垫块、遮挡板及镀膜源的相对设置位置)；16.图3为本技术实施例中壳体的制备设备的结构示意图(其中，包括工作台、装载治具、基板、垫块、遮挡板及镀膜源的相对设置位置)；17.图4为本技术实施例中遮挡板、垫块和基板的俯视图(其中，垫块以虚线标出以示意垫块的位置)；18.图5为本技术实施例中遮挡板和垫块的结构示意图(其中，垫块包括定位块和支撑块)；19.图6为本技术实施例中装载治具与一体式遮挡板的结构示意图。20.附图标记：21.壳体100、22.基板1、中心区11、边缘区12、23.镀膜层2、膜内圈21、膜外圈22、24.工作台200、25.垫块300、定位块301、支撑块302、26.遮挡板400、镀膜源500、27.装载治具600、第一模板601、第二模板602、定位部603、28.一体式遮挡块700。具体实施方式29.下面详细描述本技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本技术，而不能理解为对本技术的限制。30.下面参考图1描述根据本技术实施例的壳体100。31.根据本技术实施例的壳体100，如图1和图2所示，包括：基板1和通过遮挡板400遮挡部分基板1以使膜料溅射至边缘区12上的镀膜层2。基板1包括中心区11和包围中心区11的边缘区12。镀膜层2的宽度为0-30mm，镀膜层2的内边缘和外边缘分别为膜内圈21和膜外圈22，膜外圈22的厚度大于膜内圈21的厚度，镀膜层2从边缘区12至中心区11方向上厚度渐变以使颜色渐变。32.可以理解的是，一般的渐变颜色膜是通过调整遮挡片的长度，使得沿着靶材竖立的方向上镀膜厚度梯度变化。因此，壳体的颜色变化也是沿着靶材竖立的方向渐变，无法实现壳体的颜色沿着水平方向渐变，无法实现只在边缘区形成渐变镀膜且从边缘区向中心区的方向上镀膜厚度的渐变梯度保持一致。本技术实施例的壳体100，在包围中心区11的边缘区12形成镀膜层2，可以实现镀膜层2从边缘区12至中心区11方向上的颜色渐变。33.并且，一般的镀膜渐变效果受限于遮挡片尺寸，遮挡片尺寸较大，并且遮挡片和产品的距离较远，控度精度一般，难以在0～30mm范围任意宽度表面精确控制渐变程度。本技术实施例的壳体100中，镀膜层2的宽度为0-30mm，可以在0～30mm范围任意宽度表面精确控制膜层的渐变程度。34.根据本技术实施例的壳体100，通过膜外圈22的厚度大于膜内圈21的厚度，镀膜层2从边缘区12至中心区11方向上厚度渐变。从而使得镀膜层2在边缘区12向中心区11方向上形成厚度逐渐减小的渐变颜色膜。另外，镀膜层2的宽度为0-30mm，可以在0～30mm范围任意宽度表面精确控制膜层的渐变程度。从而能够增加渐变颜色膜的渐变形式，有利于提升壳体100的广泛应用。35.在一些实施例中，镀膜层2沿厚度方向包括依次层叠设置的打底层、第一保护层、金属层和第二保护层，打底层设在基板1上。可以理解的是，多个膜层的设置，不仅可以便于提升镀膜层2的耐久性，也便于调控镀膜层2的膜层颜色，便于形成更多种类的膜层渐变色。36.这里打底层可以为含硅膜层、含锆膜层，第一保护层可以为含硅膜层、含锆膜层、含铌膜层、含钛膜层、含铝膜层等，金属层可以为含铟膜层、含锡膜层、含铟锡合金膜层、含铬膜层、含铌膜层、含钛膜层、含铝膜层等，第二保护层可以为含硅膜层、含锆膜层、含铌膜层、含钛膜层、含铝膜层等。以上均可以实现镀膜层2良好的渐变效果，在此对打底层、第一保护层、金属层和第二保护层的具体形式不作限定。37.在一些实施例中，如图1所示，膜外圈22的厚度为30-300nm，膜内圈21的厚度为0-50nm。这样不仅可以保证镀膜层2的膜层耐久性，也可以形成良好的颜色渐变效果。38.在一些实施例中，如图1所示，膜外圈22的亮度大于膜内圈21的亮度，镀膜层2在膜外圈22与膜内圈21之间亮度渐变。这样镀膜层2在边缘区12向中心区11的方向上，亮度逐渐梯度变化。这里以镀金属in(铟)膜为例，膜外圈22的亮度可到90左右，膜内圈21的亮度可到30左右。39.可选的，基板1可以为玻璃、陶瓷、有机聚合物等，均能够实现渐变颜色膜的设置，在此对基板1的材质不作限定。40.下面参考图1和图2描述本技术的一个具体实施例中的壳体100。41.根据本技术实施例的壳体100，包括：基板1和通过遮挡板400遮挡部分基板1以使膜料溅射至边缘区12上的镀膜层2。42.基板1包括中心区11和包围中心区11的边缘区12。43.镀膜层2沿厚度方向包括依次层叠设置的打底层、第一保护层、金属层和第二保护层，打底层设在边缘区12上。镀膜层2的宽度为0-30mm，镀膜层2的内边缘和外边缘分别为膜内圈21和膜外圈22，膜外圈22的厚度为30-300nm，膜内圈21的厚度为0-50nm，膜外圈22的厚度大于膜内圈21的厚度，膜外圈22的亮度大于膜内圈21的亮度。镀膜层2从边缘区12至中心区11方向上厚度渐变以使颜色渐变，镀膜层2在膜外圈22与膜内圈21之间亮度渐变。44.下面参考图2-图6描述根据本技术实施例的壳体100的制备方法。45.本技术的这种壳体100的制备方法，能够实现壳体100的颜色沿着水平方向渐变。该制备方法与上文提及的壳体的颜色沿靶材竖立方向渐变的加工方法类似，均利用了遮挡板，但是二者利用的方式不同，因此在壳体上形成的渐变样式也不同。46.具体而言，在壳体的颜色沿靶材竖立方向渐变的加工方法中，镀膜靶材(或蒸发源)与镀膜产品之间，安装一套膜厚修正板或修正片(功能对应本技术中的遮挡板400)，修正片对产品镀膜区域形成一定的遮挡，通过调整遮挡片的长度来调整遮挡量，遮挡量大的区域镀膜沉积厚度小，遮挡量小的区域镀膜沉积厚度相对较大，修正片长度的阶梯变化引起产品表面膜层沉积厚度的阶梯变化，最终形成产品表面渐变的外观颜色。这种方法难以控制镀膜层在一定宽度范围内的渐变程度，并且产品的颜色变化也是沿着靶材竖立的方向渐变，渐变形式单一。47.根据本技术实施例的壳体100的制备方法，如图2和图3所示，包括：提供工作台200，工作台200可转动地设于镀膜腔体内。提供基板1，基板1包括中心区11和包围中心区11的边缘区12，基板1设在工作台200上。提供垫块300，垫块300贴合于中心区11。提供遮挡板400，遮挡板400设于垫块300远离中心区11的一侧。提供镀膜源500，镀膜源500用于朝向边缘区12溅射膜料以使膜料沉积在边缘区12上形成镀膜层2，其中，形成的镀膜层2的宽度为0-30mm，镀膜层2的内边缘和外边缘分别为膜内圈21和膜外圈22，膜外圈22的厚度大于膜内圈21的厚度，镀膜层2在从边缘区12至中心区11方向上厚度渐变以使颜色渐变。48.可以理解的是，垫块300的设置，可以在基板1和遮挡板400之间形成一个固定高度的缝隙，这样缝隙高度等于垫块300的高度，通过调整缝隙的高度能够方便地调控膜层厚度渐变的梯度。49.遮挡板400设于垫块300远离中心区11的一侧，这样遮挡板400是与基板1邻近设置的。而一般的镀膜中，遮挡板仅设置在镀膜腔体内而未邻近基板1，这样容易使得遮挡板和基板的距离较远，镀膜可控度一般、控度精度一般，难以在0～30mm范围任意宽度表面精确控制渐变程度。50.本技术实施例的壳体100的制备方法中，在镀膜时工作平台进行旋转能够带动基板1同步旋转。单个基板1每旋转一圈，会经过镀膜源500前方一次。51.正是这样的制备装置采用上述制备方法，使基板1上能形成一圈镀膜层2，制备出具有一圈渐变的镀膜层2的壳体100。而且发明人团队通过实践发现，这种方法在基板1上形成的膜层中，距离中心区11在0-30mm范围内的膜层厚度变化明显，当与中心区11距离超过30mm之后，膜层厚度变化不再明显，导致该区域膜层颜色几乎无变化。因此本技术的这种制备方法，可以用于制备渐变宽度在0.30mm范围内的壳体100。52.镀膜层2之所以能够在0-30mm宽度范围内能够形成明显渐变色，主要与镀膜层2的形成方式有关。这是因为镀膜源500表面上各点的溅射方向是发散的，但是发散幅度有限，镀膜源500表面上单点溅射出的膜料可以看成是呈伞状，镀膜源500表面多点溅射使膜料伞呈叠加状态，当没有遮挡板400时，基板1上各点落料均匀，形成均色膜。但是当基板1对应镀膜源500设置遮挡板400，遮挡板400对溅射而来的膜料伞呈遮挡作用。在遮挡板400的边缘处，由于对来自不同点的膜料伞的遮挡面积不同，导致基板1的边缘区12上最终落料发生明显变化，从而使最终镀膜层2形成渐变层。而距离中心区11较远处，遮挡板400的边缘发挥不了作用，尤其当距离中心区11超过30mm时，即使有膜层，该膜层厚度变化不大，颜色渐变效果几近于无。53.以基板1的ab镀膜区域(也称下端区域)中的ae镀膜区域为例，需要说明的是，a点位于膜外圈22垂直于镀膜源500的长度方向，b点位于膜内圈21垂直于镀膜源500的长度方向，e点位于a点与b点之间，且与遮挡板400的一个边缘平齐。如图3所示，箭头显示了镀膜源的溅射方向，这里镀膜源500表面上各点的溅射方向是发散的。如图2所示，箭头显示了由于遮挡板的遮挡作用，各区域镀膜源500可溅射至基板1的范围。ae镀膜区域中，镀膜源500的mf区域内，其表面的溅射原子可以溅射到e点，mf以上的区域，溅射原子的溅射路径被遮挡板400所遮挡，溅射原子无法到达e点。同理，镀膜源500的pf区域内的溅射原子可以溅射到a点，pf以上的区域由于遮挡板400的作用，靶材原子无法溅射到a点。由此可见，可以溅射到a点的靶材区域，比可以溅射到e点的靶材表面区域大，因此相同时间内，a点的沉积膜厚比e点厚，从a点到e点，镀膜沉积厚度逐渐变薄，实现渐变镀膜效果。54.e点到b点的镀膜区域实现膜厚渐变的原理和ae镀膜区域相同，此处不在赘述。55.与ab镀膜区域对称的镀膜区域(也称上端区域)实现膜厚渐变的原理和ab镀膜区域相同，此处不在赘述。56.基板1的左右两侧区域实现膜厚渐变的原理和上下两端的原理有所差异，如图4中cd区域，需要说明的是，c点位于膜外圈22平行于镀膜源500的长度方向，d点位于膜内圈21平行于镀膜源500的长度方向。在镀膜过程中随着基板1的旋转，基板1和遮挡板400之间的缝隙和溅射方向的夹角不停变化，遮挡板400的存在同样使得靠近遮挡片的区域在相同时间内镀膜沉积厚度较小，远离遮挡板400的区域相同时间内沉积厚度较大，因此cd区域内从c到d镀膜沉积厚度逐渐变薄，实现渐变镀膜效果。57.在本技术的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“左”、“右”、“中心”、“长度”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。58.根据本技术实施例的壳体100的制备方法，通过镀膜源500朝向边缘区12溅射膜料，遮挡板400与基板1邻近设置以对膜料进行部分遮挡，从而在边缘区12上形成镀膜层2，并且镀膜层2在边缘区12向中心区11方向上厚度逐渐减小以颜色渐变。通过设置垫块300以在基板1和遮挡板400之间形成一个固定高度的缝隙，并且通过调整垫块的高度能够方便地调控膜层厚度渐变的梯度，实现在0～30mm范围任意宽度表面精确控制膜层的渐变程度。通过调整遮挡板400的尺寸，可以调控镀膜区域的大小。从而增加渐变颜色膜的渐变形式，有利于提升壳体100的广泛应用。59.在一些实施例中，如图5所示，垫块300包括定位块301和支撑块302，定位块301可配合在基板1的通孔处，支撑块302用于支撑在基板1和遮挡板400之间。可以理解的是，定位块301的设置，便于垫块300的准确定位，从而提升镀膜精度。支撑块302的设置，可以提升垫块300的支撑稳定性，从而提升基板1和遮挡板400的作业可靠性。60.在一些实施例中，垫块300的高度为1-50mm。这样通过改变垫块300的高度，可以调整基板1与遮挡板400之间的缝隙高度来调整膜厚渐变梯度。61.在一些实施例中，如图6所示，垫块300和遮挡板400一体成型，在垫块300靠近中心区11的一侧设有粘胶层。可以理解的是，遮挡板400和垫块300可以一体成型以形成一体式遮挡块700，方便操作。这里在垫块300靠近中心区11的一侧设有粘胶层，即是在一体式遮挡块700靠近中心区11的一侧设置粘胶层，由此粘胶层可以将一体式遮挡块700与基板1连接起来，从而提升一体式遮挡块700和基板1的作业可靠性。62.具体地，如图6所示，壳体100的制备方法还包括提供装载治具600，装载治具600可以为包括第一模板601、第二模板602和定位部603。第二模板602设有与基板1形状相同的凹陷区，基板1配合在凹陷区。这样基板1放置在凹陷区后位置即可固定，第一模板601用来定位一体式遮挡块700和基板1之间的相对位置，第一模板601和第二模板602之间设有定位部603，定位块用来固定第一模板601和第二模板602的位置。这里基板1和一体式遮挡块700之间的胶粘层可以为双面胶带。63.进一步地，装载治具600的一侧可以覆盖pet粘性膜。这里pet膜的一面有粘性，另一面没有粘性，将没有粘性的一面与装载治具600贴合，二者之间使用耐高温双面胶粘接。基板1可以粘贴在pet膜有粘性的表面上，保证基板1和pet膜之间有足够的粘力，使得基板1旋转的过程中不会脱落。64.当然，在其它的一些实施例中，如图2所示，装载治具600也可以为具有表面平整的治具，镀膜时，基板1以附着于装载治具之上，使得基板1相对位置稳定。65.在一些实施例中，如图2所示，垫块300和遮挡板400也可以为独立的部件。在产品量产阶段，待工艺参数稳定后，可以采用机械手自动化贴垫块300，从而可以提升镀膜精度和效率，便于批量化生产。如一般的遮挡板以及垫块的固定采用人工固定，固定精度低，容易出现位置偏差，最终导致镀膜区域的大小可能会受到影响。66.具体地，垫块300的两侧均可以贴上耐高温双面胶，然后将垫块300粘贴在中心区11。这里垫块300可以为多个，如垫块300可以为四个，四个垫块300的位置连线可以呈长方形或者菱形，有利于提升垫块300的作业稳定性。67.进一步地，粘贴遮挡板400时，遮挡板100粘贴在垫块300远离中心区11的一侧，粘贴时需要对好位置，保证基板的中线区的四周边缘的遮挡量满足需求。68.这里通过调整遮挡板400的尺寸来改变渐变镀膜区域的大小，遮挡板400的尺寸可与产品等大或者遮挡片各边比产品对应边长短0～60mm。垫块300的底面形状可以是长方形或者圆形，底面大小可以为0.2-0.4平方厘米。69.可选的，垫块300也可以替换为治具，仿形治具，也能够实现良好的支撑、定位作用。70.在一些实施例中，如图2所示，镀膜源500为靶材，镀膜层2由靶材原子溅射形成。可以理解的是，靶材的杂质含量低，纯度高，便于提升膜层的质量。另外，对于高致密度靶材而言，具有导电、导热性好、强度高等优点，有利于降低溅射功率，提升成膜速率。71.在一些实施例中，镀膜源500先后多次朝向边缘区12溅射膜料，以使膜料在边缘区12上依次形成层叠的打底层、第一保护层、金属层和第二保护层。可以理解的是，多个镀膜层2的设置，不仅可以便于提升镀膜层2的耐久性，也便于调控镀膜层2的膜层颜色，便于形成更多种类的膜层渐变色。这里靶材可以为铟靶、锡靶、铟锡合金靶、铬靶、铌靶、钛靶、铝靶等，在此根据实际镀膜设计可以进行具体的选择。72.具体地，打底层可以为含硅膜层、含锆膜层，第一保护层可以为含硅膜层、含锆膜层、含铌膜层、含钛膜层、含铝膜层等，金属层可以为含铟膜层、含锡膜层、含铟锡合金膜层、含铬膜层、含铌膜层、含钛膜层、含铝膜层等，第二保护层可以为含硅膜层、含锆膜层、含铌膜层、含钛膜层、含铝膜层等。以上均可以实现镀膜层2良好的渐变效果，在此对打底层、第一保护层、金属层和第二保护层的具体形式不作限定。73.对应地，打底层的靶材可以为硅靶、锆靶，第一保护层的靶材可以为硅靶、锆靶、铌靶、钛靶、铝靶等，金属层的靶材可以为铟靶、锡靶、铟锡合金靶、铬靶、铌靶、钛靶、铝靶等，第二保护层的靶材可以为硅靶、锆靶、铌靶、钛靶、铝靶等。74.在一些实施例中，形成的膜外圈22的厚度为30-300nm，形成的膜内圈21的厚度为0-50nm。可以理解的是，通过调整镀膜时间，膜外圈的厚度可在30～100nm范围内调整，通过调整遮挡缝隙的高度，膜内圈的厚度可以在0～50nm范围内调整，ab之间镀膜层2厚度渐变。75.在一些实施例中，形成的膜外圈22的亮度大于膜内圈21的亮度，镀膜层2在膜外圈22与膜内圈21之间亮度渐变。这样镀膜层2在边缘区12向中心区11的方向上，亮度逐渐梯度变化。这里以镀金属in(铟)膜为例，膜外圈22的亮度约可到90，膜内圈21的亮度约可到30。76.下面参考附图描述本技术的一个具体实施例中的壳体100的制备方法。77.第一步、在装载治具600上覆盖pet粘性膜，pet膜的一面有粘性，另一面没有粘性，将没有粘性的一面与装载治具600贴合，二者之间使用耐高温双面胶粘接。78.第二步、将基板1贴在pet膜有粘性的表面上，保证基板1与pet膜之间有足够的粘力，基板1旋转的过程中不会脱落。79.第三步、粘贴四个垫块300，将垫块300的相对两面都贴上耐高温双面胶，然后将四个垫块300粘贴在中心区11，四个垫块300的位置连线呈长方形。80.第四步、粘贴遮挡板400，将遮挡板400粘贴在垫块300远离中心区11的一侧，粘贴时需要对好位置，保证基板1的四边遮挡量满足需求。81.第五步、基板1放入镀膜腔体，抽真空至1.0e-3pa，使用等离子体对基板1的表面进行清洁。82.第六步、靶材依次朝向边缘区12溅射打底层、第一保护层、金属层和第二保护层，镀膜结束后将壳体100取出镀膜腔体。83.下面参考附图描述根据本技术实施例的电子设备。84.根据本技术实施例的电子设备，包括上述实施例任一项所述的壳体100。85.根据本技术实施例的电子设备，通过在壳体100上设置镀膜层2，并使得膜外圈22的厚度大于膜内圈21的厚度，镀膜层2从边缘区12至中心区11方向上厚度渐变。从而镀膜层2在边缘区12向中心区11方向上形成厚度逐渐减小的渐变颜色膜膜。另外，镀膜层2的宽度为0-30mm，可以在0～30mm范围任意宽度表面精确控制膜层的渐变程度。从而能够增加渐变颜色膜的渐变形式，有利于提升电子设备的广泛应用。86.根据本技术的实施例，上述电子设备可以为移动或便携式并执行无线通信的各种类型的计算机系统设备中的任何一种。具体的，电子设备可以为移动电话或智能电话(例如，基于iphonetm，基于androidtm的电话)，便携式游戏设备(例如nintendodstm，playstationportabletm，gameboyadvancetm，iphonetm)、膝上型电脑、pda、便携式互联网设备、音乐播放器以及数据存储设备，其他手持设备以及诸如手表、入耳式耳机、吊坠、头戴式耳机等，电子设备还可以为其他的可穿戴设备(例如，诸如电子眼镜、电子衣服、电子手镯、电子项链、电子纹身或智能手表的头戴式设备(hmd))。87.根据本技术的实施例，电子设备还可以是多个电子设备中的任何一个，多个电子设备包括但不限于蜂窝电话、智能电话、其他无线通信设备、个人数字助理、音频播放器、其他媒体播放器、音乐记录器、录像机、照相机、其他媒体记录器、收音机、医疗设备、车辆运输仪器、计算器、可编程遥控器、寻呼机、膝上型计算机、台式计算机、打印机、上网本电脑、个人数字助理(pda)、便携式多媒体播放器(pmp)、运动图像专家组(mpeg-1或mpeg-2)音频层3(mp3)播放器，便携式医疗设备以及数码相机及其组合。88.根据本技术的实施例，在一些情况下，电子设备可以执行多种功能(例如，播放音乐，显示视频，存储图片以及接收和发送电话呼叫)。如果需要，电子设备可以是诸如蜂窝电话、媒体播放器、其他手持设备、腕表设备、吊坠设备、听筒设备或其他紧凑型便携式设备的便携式设备。89.根据本技术实施例的电子设备的其他构成例如电路板和控制系统等以及操作对于本领域普通技术人员而言都是已知的，这里不再详细描述。90.在本说明书的描述中，参考术语“实施例”、“示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本技术的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。91.尽管已经示出和描述了本技术的实施例，本领域的普通技术人员可以理解：在不脱离本技术的原理和宗旨的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本技术的范围由权利要求及其等同物限定。当前第1页12当前第1页12