一种常压旋流等离子体处理装置的制作方法

1.本实用新型涉属于等离子体处理的领域，具体涉及一种常压旋流等离子体处理装置。


背景技术：

2.随着材料技术的快速发展，人们对材料的各种性能和使用寿命等提出了更高的要求。在众多表面处理方法中，等离子体表面处理技术因其清洁高效、能耗低、无废弃物等优点而快速发展。目前，针对不同的产业应用，不同物料形状和材质的等离子体处理技术已经出现明显分工。
3.粉体材料，包括食品领域的香辛料以及工业领域的工业粉体材料，由于其表面积大，非常容易团聚，而等离子体与材料的反应仅限于材料表面，堆积状态下的粉体材料在等离子体环境中只有表层能得到处理。因此，在对粉体材料进行等离子体处理的过程中,往往由于微粒间的团聚使得没有暴露在表面的部分得不到等离子体处理，难以实现对微粒表面全部处理，导致处理不完全、不均匀，处理效果差。
4.如中国专利cn201380032762.3公开了一种粉末等离子体处理装置，包括腔体、粉末供应部以及多个板状的面放电等离子模块；所述腔体用于对粉末进行等离子处理，所述面放电等离子模块的面和面之间彼此相隔。这种粉末等离子处理装置能够通过控制粉末接触等离子体的时间对粉末进行有效处理。但是由于粉末从粉末供应部自由落下，在所述腔体内部的空间位置关系相对固定，往往只能对分布于表层的粉末进行等离子体处理，处理效果的均匀性难以保证。
5.如中国专利cn201710124267.5公开了一种微波等离子体处理装置，包括角度调节架和装置体；用这种装置将纳米级或微米级的金刚石粉体、石墨烯粉体、立方氮化硼粉体或其他无机物粉体放置入旋转鼓杯，在管式微波等离子体源的高密度等离子体区域进行表面刻蚀、净化、接枝、沉积等功能化处理。但是该装置对于反应的粉末材料具有局限性，且该反应需要在真空环境下进行。
6.因此，如何提供一种装置能在常压状态下通过形成不同气流来对粉体和等离子体进行处理，提高等离子体对粉体材料反应的均匀性，还能有效减少粉体的损耗率，是目前本领域技术人员亟待解决的技术问题。


技术实现要素：

7.有鉴于此，本实用新型的目的在于设计一种常压旋流等离子体处理装置，通过旋转气流将粉体处理器中的粉末吹起，直吹气流增加等离子体与粉末的接触面积并带出旋转气流，同时还能将吹起的粉末吹回凹槽中，从而实现等离子体与粉末均匀充分的反应，还能最大程度上减少粉末的损耗率。
8.为了达到上述目的，本技术提供如下技术方案：
9.一种常压旋流等离子体处理装置，包括粉体处理器、鼓风机、放电管和接口；接口
设置在粉体处理器底部，鼓风机通过放电管与接口实现固定连接；
10.优选地，鼓风机包括第一鼓风机、第二鼓风机和第三鼓风机；
11.放电管包括第一放电管、第二放电管、第三放电管、第四放电管和第五放电管；
12.接口包括第一接口、第二接口、第三接口、第四接口和第五接口；
13.第一鼓风机通过第一放电管、第二放电管和粉体处理器底部的第一接口、第二接口实现固定连接；
14.第二鼓风机通过第三放电管、第四放电管和粉体处理器底部的第三接口、第四接口实现固定连接；
15.第三鼓风机通过第五放电管和粉体处理器底部的第五接口实现固定连接；
16.优选地，第一放电管、第二放电管、第三放电管、第四放电管和第五放电管平行设置并对应连接第一接口、第二接口、第三接口、第四接口和第五接口；
17.优选地，放电管内设置有放电反应装置，该放电反应装置包括正电极柱、负电极管、外玻璃管和内玻璃管；
18.正电极柱设置在放电管中心，正电极柱外套有内玻璃管，内玻璃管隔有一定距离设置有外玻璃管，负电极管设置在外玻璃管外侧；
19.优选地，粉体处理器包括封盖、过滤网、凹槽、直吹气流通道、旋转气流通道及等离子体通道；
20.优选地，封盖设置在粉体处理器顶部，封盖内设置有三层过滤网；
21.优选地，凹槽、直吹气流通道、旋转气流通道以及等离子体通道均设置在粉体处理器底部；
22.优选地，过滤网分别设置在封盖内的顶部、中部和底部；
23.优选地，直吹气流通道和旋转气流通道均设计有特定的形状；
24.优选地，直吹气流通道和旋转气流通道均设置有2个；
25.优选地，直吹气流通道对称地设置在等离子体通道两侧，旋转气流通道也关于等离子体通道对称设置在直吹气流通道的外侧；
26.优选地，粉体处理器顶部的封盖内圈设置有密封条以防止气体和粉末从封盖连接处跑出；
27.优选地，粉体处理器是由钢制材料制作，具有强度高、韧性好、工作可靠性高等优点，能够保证等离子体与粉末反应的安全可靠。
28.与现有技术相比，本实用新型具有以下有益效果：
29.1.本实用新型所提供的一种常压旋流等离子体处理装置，通过旋转气流将粉末吹起，同时直吹气流也增加了粉末与等离子体的接触面积，使得等离子体与粉末的反应更加均匀充分。
30.2.本实用新型所提供的一种常压旋流等离子体处理装置，通过直吹气流将被吹起的粉末吹回凹槽，同时在封盖内设置有三层过滤网，大大减少了粉末的损耗率。
31.3.本实用新型所提供的一种常压旋流等离子体处理装置由粉体处理器、鼓风机、放电管和接口组成，具有结构形式简单、安装简便的特点。
32.上述说明仅是本技术技术方案的概述，为了能够更清楚了解本技术的技术手段，从而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本技术的上述和其他目的、特征和优点能
够更明显易懂，以下以本技术的较佳实施例并配合附图详细说明如后。
33.根据下文结合附图对本技术具体实施例的详细描述，本领域技术人员将会更加明了本技术的上述及其他目的、优点和特征。
附图说明
34.为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。在所有附图中，类似的元件或部分一般由类似的附图标记标识。附图中，各元件或部分并不一定按照实际的比例绘制。
35.图1为本实用新型所提供的一种常压旋流等离子体处理装置的立体图；
36.图2为本实用新型所提供的一种常压旋流等离子体处理装置中放电管某段的竖向剖面图；
37.图3为本实用新型所提供的一种常压旋流等离子体处理装置中放电管的横向剖面图；
38.图4为本实用新型所提供的一种常压旋流等离子体处理装置中粉体处理器的剖面图；
39.图5为本实用新型所提供的一种常压旋流等离子体处理装置中粉体处理器的气流工作示意图；
40.图中：1、粉体处理器；2、鼓风机(分为第一鼓风机201、第二鼓风机202、第三鼓风机203)；3、放电管(分为第一放电管301、第二放电管302、第三放电管303、第四放电管304、第五放电管305)；31、正电极柱；32、负电极管；33、外玻璃管；34、内玻璃管；4、接口(分为第一接口401、第二接口402、第三接口403、第四接口404、第五接口405)；5、封盖；6、过滤网；7、凹槽；8、直吹气流通道；9、旋转气流通道；10、等离子体通道。
具体实施方式
41.为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。在下面的描述中，提供诸如具体的配置和组件的特定细节仅仅是为了帮助全面理解本技术的实施例。因此，本领域技术人员应该清楚，可以对这里描述的实施例进行各种改变和修改而不脱离本技术的范围和精神。另外，为了清楚和简洁，实施例中省略了对已知功能和构造的描述。
42.应该理解，说明书通篇中提到的“一个实施例”或“本实施例”意味着与实施例有关的特定特征、结构或特性包括在本技术的至少一个实施例中。因此，在整个说明书各处出现的“一个实施例”或“本实施例”未必一定指相同的实施例。此外，这些特定的特征、结构或特性可以任意适合的方式结合在一个或多个实施例中。
43.此外，本技术可以在不同例子中重复参考数字和/或字母。这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身并不指示所讨论各种实施例和/或设置之间的关系。
44.本文中术语“和/或”，仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关
系，例如，a和/或b，可以表示：单独存在a，单独存在b，同时存在a和b三种情况，本文中术语“/和”是描述另一种关联对象关系，表示可以存在两种关系，例如，a/和b，可以表示：单独存在a，单独存在a和b两种情况，另外，本文中字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”关系。
45.本文中术语“至少一种”，仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，a和b的至少一种，可以表示：单独存在a，同时存在a和b，单独存在b这三种情况。
46.还需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含。
47.实施例1
48.本实施例介绍了一种常压旋流等离子体处理装置的结构组成。
49.请参考图1，图1为本实用新型所提供的一种常压旋流等离子体处理装置的立体图；
50.请参考图2，图2为本实用新型所提供的一种常压旋流等离子体处理装置中放电管某段的竖向剖面图；
51.请参考图3，图3为本实用新型所提供的一种常压旋流等离子体处理装置中放电管的横向剖面图；
52.所述常压旋流等离子体处理装置，包括粉体处理器1、鼓风机2、放电管3和接口4；所述接口4设置在粉体处理器1底部，所述鼓风机2通过放电管3与所述接口4实现固定连接；
53.所述鼓风机2包括第一鼓风机201、第二鼓风机202和第三鼓风机203；
54.所述放电管3包括第一放电管301、第二放电管302、第三放电管303、第四放电管304和第五放电管305；
55.所述接口4包括第一接口401、第二接口402、第三接口403、第四接口405和第五接口405；
56.所述第一鼓风机201通过第一放电管301、第二放电管302和粉体处理器底部的第一接口401、第二接口402实现固定连接；
57.所述第二鼓风机202通过第三放电管303、第四放电管304和粉体处理器底部的第三接口403、第四接口404实现固定连接；
58.所述第三鼓风机203通过第五放电管305和粉体处理器底部的第五接口405实现固定连接。
59.所述放电管3内设置有放电反应装置，所述放电反应装置包括正电极柱31、负电极管32、外玻璃管33和内玻璃管34；
60.所述正电极柱31设置在所述放电管3中心，正电极柱31外套有内玻璃管34，内玻璃管34隔有一定距离设置有外玻璃管33，负电极管32设置在所述外玻璃管外侧；
61.本实施例的技术方案是通过上述4个组件组成一种常压旋流等离子体处理装置，所述常压旋流等离子体处理装置具有结构形式简单、安装简便的特点。
62.实施例2
63.基于上述实施例1，本实施例介绍了一种常压旋流等离子体处理装置中的粉体处理器。
64.请参考图4，图4为本实用新型所提供的一种常压旋流等离子体处理装置中粉体处理器的剖面图；
65.请参考图5，图5为本实用新型所提供的一种常压旋流等离子体处理装置中粉体处理器的气流工作示意图；
66.粉体处理器1包括封盖5、过滤网6、凹槽7、直吹气流通道8、旋转气流通道9以及等离子体通道10；
67.进一步的，封盖5设置在粉体处理器1顶部，封盖5内设置有三层过滤网6，所述过滤网6分别设置在封盖5内的顶部、中部和底部；
68.进一步的，凹槽7、直吹气流通道8、旋转气流通道9以及等离子体通道10均设置在粉体处理器1底部；
69.进一步的，直吹气流通道8和旋转气流通道9均设计有特定的形状；
70.进一步的，直吹气流通道8和旋转气流通道9均设置有2个；
71.进一步的，直吹气流通道8对称地设置在等离子体通道10两侧，旋转气流通道9也关于等离子体通道10对称设置在直吹气流通道8的外侧；
72.进一步的，粉体处理器1顶部的封盖5内圈设置有密封条以防止气体和粉末从封盖5连接处跑出；
73.进一步的，粉体处理器1是由钢制材料制作，具有强度高、韧性好、工作可靠性高等优点，能够保证等离子体与粉末反应的安全可靠；
74.本实施例的技术方案是通过旋转气流将粉末吹起，同时直吹气流也增加了粉末与等离子体的接触面积，使得等离子体与粉末的反应更加均匀充分；除此之外通过直吹气流将被吹起的粉末吹回凹槽，而在封盖内也设置有三层过滤网，这大大减少了粉末的损耗率。
75.实施例3
76.基于上述实施例1或2，本实施例主要介绍了一种常压旋流等离子体处理装置的使用方法。
77.结合图1-3所示，所述常压旋流等离子体处理装置使用的具体步骤如下：
78.步骤1：打开封盖5，放入粉末材料；
79.步骤2：关闭封盖5，检查所有放电管3与接口4的连接固定；
80.步骤3：打开鼓风机2和放电反应装置的电源开关；
81.步骤4：待等离子体与粉末充分反应完成后，关闭所有开关；
82.步骤5：打开封盖5，取出处理完成的粉末材料；
83.其中，步骤3中的放电反应装置是将鼓风机传送的空气反应形成等离子体，所产生的等离子体通过旋转气流通道9形成旋转气流从而吹起粉末，通过等离子通道的等离子体与吹起的粉末进行充分均匀的反应，与此同时，通过直吹气流通道8的等离子体形成直吹气流从而增加等离子体与粉末的接触面积，还能将被吹起的粉末吹回凹槽7中，除此之外还能带出旋转气流；
84.至此，一种常压旋流等离子体处理装置的使用方法得以实现。
85.以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，其并非因此限制本实用新型的保护
范围，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，通过常规的替代或者能够实现相同的功能在不脱离本发明的原理和精神的情况下对这些实施例进行变化、修改、替换、整合和参数变更均落入本发明的保护范围内。