一种气液混合体输送装置及蚀刻机的制作方法

1.本实用新型属于线路板制造领域，更具体地说，是涉及一种气液混合体输送装置及蚀刻机。


背景技术：

2.酸性蚀刻是印刷电路板制作过程中必不可少的关键工序，酸性蚀刻电路板后会产生大量的酸性蚀刻废液，对于酸性蚀刻废液中金属铜的回收，目前一般采用电解法，在采用电解法进行铜回收时阳极会产生大量的强氧化性气体氯气，其中大部分氯气会回用至蚀刻工序中。同时蚀刻废液进行电解提铜后，会进行调配再生系统调配成再生液，进行循环利用，在此过程中，会将电解中产生的氯气与再生液溶合，一方面实现蚀刻废液的循环利用，一方面对电解产生的氯气回用，这样的工艺有利于降低成本。由于氯气的溶解度不大，因此氯气回溶产生的再生蚀刻液会保持一种气液混合的不稳定状态，在线路板蚀刻过程中，蚀刻液中的氯气的溶解度往往会对蚀刻液的蚀刻效果产生较大的影响。现有的蚀刻机的蚀刻液进液方式往往是将再生液调配完成后直接注入蚀刻液储存缸中，由于此时蚀刻液处于不稳定的气液混合状态，因此导致氯气溶解度无法得到相对稳定的保证，从而导致蚀刻液在使用过程中的蚀刻效果与预期有偏差。


技术实现要素：

3.本实用新型的目的在于提供一种气液混合体输送装置，以解决现有技术中存在的蚀刻液储存缸中的蚀刻液无法保证相对稳定的氯气溶解度的技术问题。
4.为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是：提供一种气液混合体输送装置，用于将蚀刻液输入蚀刻机中，包括安装在所述蚀刻机中的蚀刻液储存缸和用于将蚀刻液输入所述蚀刻液储存缸的输入装置，还包括进液结构，所述输入装置具有射出口，所述射出口与所述进液结构连通，并通过所述进液结构将蚀刻液输入所述蚀刻液储存缸中；所述进液结构包括主管和多个支管，所述主管包括与所述射出口连通的第一部分和与多个所述支管连通的第二部分，所述第一部分和所述第二部分交叉设置并连通，多个所述支管在所述第二部分延伸的方向间隔设置，各所述支管均位于所述蚀刻液储存缸内部。
5.进一步地，多个所述支管互相平行且等间距设置。
6.进一步地，所述支管上形成有多个用于出液的通孔。
7.进一步地，同一支管上的多个所述通孔沿着支管延伸的方向等间距间隔设置。
8.进一步地，所述支管的数量为三，三个所述支管沿着所述第二部分延伸的方向等间距设置。
9.进一步地，所述第一部分和所述第二部分垂直设置，各所述支管与所述主管的第二部分垂直设置。
10.进一步地，所述气液混合体输送装置还包括用于控制流量大小的控制阀，所述控制阀安装在所述主管或所述支管上。
11.进一步地，各所述支管位于所述蚀刻液储存缸的底部。
12.进一步地，还包括循环组件，所述循环组件包括循环泵和循环管路，所述循环管路连通所述蚀刻液储存缸的顶底两端，所述循环泵安装在所述循环管路中。
13.一种蚀刻机，包括蚀刻机本体，还包括一个或多个如前项所述的气液混合体输送装置，所述气液混合体输送装置安装在所述蚀刻机本体上。
14.本实用新型提供的气液混合体输送装置及蚀刻机的有益效果在于：与现有技术相比，本实用新型气液混合体输送装置通过气液混合体输送装置的进液结构将蚀刻液输入蚀刻液储存缸中，通将进液结构的多个支管将液路分散成多股小流体，同时多个支管分散布置在蚀刻液储存缸内部，从而使得进液过程更加均匀与稳定，相比起直接将蚀刻液注入储存缸中，避免了液体的产生较大的振荡与不均匀，保证了蚀刻液的氯气溶解度相对稳定，从而保证蚀刻液的蚀刻效果的稳定性。
附图说明
15.为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
16.图1为本实用新型实施例提供的气液混合体输送装置的整体装配示意图；
17.图2为图1的爆炸图。
18.其中，图中各附图标记：
19.1-输入装置；2-进液结构；21-主管；211-第一部分；212-第二部分；22-支管；221-通孔；3-蚀刻液储存缸。
具体实施方式
20.为了使本实用新型所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
21.需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者间接在该另一个元件上。当一个元件被称为是“连接于”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或间接连接至该另一个元件上。
22.需要理解的是，术语“上”、“下”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
23.此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
24.请参阅图1及图2，现对本实用新型提供的气液混合体输送装置进行说明。
25.一种气液混合体输送装置，用于将蚀刻液输入蚀刻机中，包括安装在蚀刻机中的蚀刻液储存缸3和用于将蚀刻液输入蚀刻液储存缸3的输入装置1，还包括进液结构2，输入装置1具有射出口，射出口与进液结构2连通，并通过进液结构2将蚀刻液输入蚀刻液储存缸3中；进液结构2包括主管21和多个支管22，主管21包括与射出口连通的第一部分211和与多个支管22连通的第二部分212，第一部分211和第二部分212交叉设置并连通，多个支管22在第二部分212延伸的方向间隔设置，各支管22均位于蚀刻液储存缸3内部。
26.本实用新型气液混合体输送装置通过气液混合体输送装置的进液结构2将蚀刻液输入蚀刻液储存缸3中，通将进液结构2的多个支管22将液路分散成多股小流体，同时多个支管22分散布置在蚀刻液储存缸3内部，从而使得进液过程更加均匀与稳定，相比起直接将蚀刻液注入储存缸中，避免了液体的产生较大的振荡与不均匀，保证了蚀刻液的氯气溶解度相对稳定，从而保证蚀刻液的蚀刻效果的稳定性。
27.进一步地，请参阅图1及图2，作为本实用新型提供的支管22的一种具体实施方式，多个支管22互相平行且等间距设置。支管22上形成有多个用于出液的通孔221。同一支管22上的多个通孔221沿着支管22延伸的方向等间距间隔设置。通过多个支管22出液，能够将蚀刻液分成多股细分流体，起到缓冲和稳流的作用，避免了蚀刻液在蚀刻液储存缸3中的产生较大的振荡与不均匀分布，在支管22上形成多个通孔221有利于更进一步细分液路，增强该效果。
28.进一步地，请参阅图1及图2，作为本实用新型提供的支管22的一种具体实施方式，支管22的数量为三，三个支管22沿着第二部分212延伸的方向等间距设置。当然，支管22的数量也可以是其他数量，均属于本技术的保护范围之内。
29.进一步地，请参阅图1及图2，作为本实用新型提供的进液结构的一种具体实施方式，第一部分211和第二部分212垂直设置，各支管22与主管21的第二部分212垂直设置。输入装置1为射流器，射出口为射流器的射出口。各支管22位于蚀刻液储存缸3的底部。支管22位于蚀刻液储存缸3底部，从下至上进液，能够更好地保证缸体内液体流动的稳定性，同时由于支管22位于蚀刻液储存缸3的底部，浸没在蚀刻液中，还能够减少蚀刻液离开支管22时氯气的溢出量，从而保证蚀刻液的蚀刻性能。
30.进一步地，请参阅图1及图2，作为本实用新型提供的气液混合体输送装置的一种具体实施方式，气液混合体输送装置还包括循环组件，循环组件(图未示)包括循环泵和循环管路，循环管路连通蚀刻液储存缸3的顶底两端，循环泵安装在循环管路中。过循环组件实现蚀刻液在蚀刻液储存缸33中的循环流动，形成类似于搅拌的效果，能够进一步保证蚀刻液的氯气溶解度的均匀性。
31.进一步地，气液混合体输送装置还包括用于控制流量大小的控制阀，所述控制阀安装在所述主管上。具体地，控制阀可以是球阀，球阀的作用是针对实际蚀刻段应用的情况下进行调节管路中的流量大小，例如orp的监控，若该段蚀刻段orp过高可以调小，若orp偏低就调大些。因为一般蚀刻机有两至三个蚀刻段或者更多，就根据每个蚀刻段内部的orp值来调节进入水量即相当于调节气液混合输入量，从而让蚀刻段内部均匀蚀刻，一般情况下将前蚀刻度偏高些orp这样有利于蚀刻进行，后段会偏小点。其次蚀刻段保养时，可以关闭球阀，便于缸体内部液体的清洗，避免溢流管道的药水进入蚀刻机。
32.一种蚀刻机，包括蚀刻机本体，还包括一个或多个如前项的气液混合体输送装置，
气液混合体输送装置安装在蚀刻机本体上。通将进液结构2的多个支管22将液路分散成多股小流体，同时多个支管22分散布置在蚀刻液储存缸3内部，从而使得进液过程更加均匀与稳定，相比起直接将蚀刻液注入储存缸中，避免了液体的产生较大的振荡与不均匀，保证了蚀刻液的氯气溶解度相对稳定，从而保证蚀刻液的蚀刻效果的稳定性。
33.以上仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。