照明设备、照明方法及投影仪设备与流程

1.本技术涉及关于通过对入射光执行空间光相位调制来再现期望图像的照明设备、由这种照明设备执行的照明方法以及应用这种照明设备的投影设备的技术领域。


背景技术：

2.存在用于通过使用液晶面板和诸如dmd(数字微镜装置)的空间光调制器(slm)对入射光执行空间光调制来再现期望的图像(光强度分布)的已知技术。例如，众所周知一种通过对入射光执行空间光强度调制来再现期望图像的技术。
3.同时，还已知的是用于通过对入射光执行空间光相位调制来投影期望的再现图像的技术(例如，参见下面的ptl1)。在执行空间光强度调制的情况下，入射光在slm中被部分变暗或被阻挡，以再现期望的光强度分布。然而，在执行空间光相位调制的情况下，因为可以在不使slm中的入射光变暗或者遮挡的情况下再现期望的光强度分布，所以可以提高光利用效率。
4.[引用列表]
[0005]
[专利文献]
[0006]
[ptl1]
[0007]
jp-t-2017-520022


技术实现要素：

[0008]
[技术问题]
[0009]
为了在执行空间光相位调制的情况下使用，作为确定用于再现期望图像的相位分布的方法，已知由ptl1中公开的方法表示的自由形式方法。这里，自由形式方法是用于基于几何光学(ray optics)确定用于再现期望图像的相位分布的方法的总称。
[0010]
然而，ptl1中公开的传统自由形式方法假定入射光的光强度分布是均匀的(在面内方向上不存在光强度变化的均匀分布)，并且是确定用于以使整个相位调制平面和整个投影平面中的射线栅格点(虚拟光线穿透每个平面的点)以最佳一对一的关系连接的方式折射入射光的相位分布的方法。因此，如果入射光的光强度分布不均匀，则在再现图像上叠加入射光强度分布。这里，最佳的一对一关系表示从相位调制平面以一对一关系映射到投影平面上的射线栅格点在投影平面上的密度分布尽可能接近目标强度分布。
[0011]
鉴于上述情况，提出了本技术。本技术的目的是提高针对入射光强度分布的鲁棒性。
[0012]
[问题的解决方案]
[0013]
根据本技术的照明设备包括光源部、相位调制部和控制部。光源部具有发光元件。相位调制部对来自光源部的入射光执行空间光相位调制。控制部控制相位调制部，使得通过划分相位调制部的相位调制平面而形成的多个域在投影平面上的共用区域中再现基于共用相位分布的光强度分布，该共用相位分布基于自由形式方法确定。
[0014]
自由形式方法是用于基于几何光学确定用于再现期望图像的相位分布的方法的总称。当如上所述多个域再现基于投影平面上的共用区域中的共用相位分布的光强度分布时，在共用区域中再现的光强度分布表示通过合并各个域的光强度分布获得的光强度分布。因此，即使入射光的光强度分布不均匀且不一致，来自各个域的贡献也在投影平面中被平均。因此，再现图像的光强度分布不太可能改变。
[0015]
根据本技术的上述照明设备可选地被配置为使得光源部具有多个发光元件。
[0016]
这种可选的配置消除了在光源部中使用单个高输出发光元件以满足预定光强度要求的必要性。
[0017]
根据本技术的上述照明设备可选地被配置为使得控制部使用通过对通过自由形式方法计算的相位分布执行根据域的大小的缩放处理而获得的相位分布作为共用相位分布。
[0018]
该可选的配置消除了通过自由形式方法计算每个域的相位分布的必要性。
[0019]
根据本技术的上述照明设备可以可选地被配置为使得控制部配通过将基于域位置的透镜分量添加到共用相位分布而获得的相位分布作为每个域的相位分布。
[0020]
该可选的配置使得可以在共用相位分布用于每个域的情况下在投影平面的共用区域中适当地再现共用光强度分布。
[0021]
根据本技术的上述照明设备可以可选地被配置为使得控制部动态地改变域划分的数量。
[0022]
增加域划分的数量改善了针对入射光强度分布的鲁棒性。减少域划分的数量提高了再现图像的分辨率。
[0023]
根据本技术的上述照明设备可以可选地被配置为使得控制部根据入射光的光强度分布的均匀性的评估结果改变域划分的数量。
[0024]
该可选的配置使得可以根据入射光强度分布适当地控制域划分的数量。例如，在入射光强度分布的均匀性低的情况下，可以增加域划分的数量以减轻入射光强度分布对再现图像的影响，并且在入射光强度分布的均匀性高的情况下，可以减少域划分的数量以提高再现图像的分辨率。
[0025]
根据本技术的上述照明设备可以可选地被配置为使得，在均匀性被评估为低的情况下，与均匀性被评估为高的情况相比，控制部提供更多数目的域划分。
[0026]
该可选的配置使得可以在入射光强度分布的均匀性低的情况下通过增加域划分的数量来减轻入射光强度分布对再现图像的影响，并且在入射光强度分布的均匀性高的情况下通过减少域划分的数量来提高再现图像的分辨率。
[0027]
根据本技术的上述照明设备可选地被配置为使得控制部在均匀性的评估等级降低时增加域划分的数量。
[0028]
当入射光强度分布的均匀性变得更低时，该可选的配置使得可以增加减轻入射光强度分布对再现图像的影响的有效性。
[0029]
可选地，根据本技术的上述照明设备可被配置为使得光源部具有多个发光元件，并且控制部根据是否在光源部中检测到非发光发光元件来评估均匀性。
[0030]
该可选的配置使得可以根据发光元件的导通状态的检测结果来评估入射光强度分布的均匀性。
[0031]
根据本技术的上述照明设备可以可选地被配置为使得控制部基于投影平面的捕获图像确定投影平面上的再现图像的光强度分布与目标光强度分布之间的差值，并根据所确定的差值改变域划分的数量。
[0032]
该可选的配置使得可以以减小再现图像的光强度分布和目标光强度分布之间的差值的方式调整域划分的数量。
[0033]
同时，根据本技术的照明方法是由包括光源部和相位调制部的照明设备执行的照明方法。光源部具有发光元件。相位调制部对来自光源部的入射光执行空间光相位调制。照明方法控制相位调制部，使得通过划分相位调制部的相位调制平面形成的多个域在投影平面上的共用区域中再现基于共用相位分布的光强度分布，该共用相位分布基于自由形式方法确定。
[0034]
上述照明方法提供与根据本技术的上述照明设备的操作类似的操作。
[0035]
根据本技术的投影仪设备包括光源部、相位调制部、强度调制部和控制部。光源部具有发光元件。相位调制部对来自光源部的入射光执行空间光相位调制。强度调制部对经由相位调制部进行空间光相位调制的光执行空间光强度调制。控制部控制相位调制部，使得通过划分相位调制部的相位调制平面而形成的多个域在强度调制部的强度调制平面上的共用区域中再现基于共用相位分布的光强度分布，所述共用相位分布基于自由形式方法确定。
[0036]
因此，包括用于提高来自光源部的入射光的光利用效率的相位调制部的投影仪设备确保即使相对于相位调制部的入射光的光强度分布不均匀和不一致，再现图像的光强度分布也不太可能改变。
附图说明
[0037]
图1是示出根据本技术的第一实施方式的照明设备的示例性配置的示图。
[0038]
图2是示出根据实施方式的照明设备中包括的光源部的示例性配置的示例图。
[0039]
图3是示出了通过空间相位调制的图像再现的原理的示例图。
[0040]
图4示出了说明自由形式方法的当前问题的示例图。
[0041]
图5是概述根据第一实施方式的图像再现方法的示例图。
[0042]
图6描述了示出根据第一实施方式的图像再现方法中涉及的操作的示例图。
[0043]
图7是示出了相位调制平面中的相位调制区域和域的坐标系以及投影平面中的投影区域(共用区域)的坐标系的示例图。
[0044]
图8是示出整个相位可调制区域的相位分布与通过相位分布在投影区域中实现的强度分布之间的关系的示意图。
[0045]
图9是示出域的相位分布与通过相位分布在投影区域中实现的强度分布之间的关系的示意图。
[0046]
图10是示出将透镜部件添加至缩放的相位分布的示例图。
[0047]
图11是示出用于确定每个域的相位分布的处理的具体实例的流程图。
[0048]
图12是示出所有域在共用区域中再现共用光强度分布的示意图。
[0049]
图13是示出仅通过一些域在共用区域中再现共用光强度分布的实例的示例图。
[0050]
图14是示出根据第二实施方式的第一实例的照明设备的示例性配置的示图。
[0051]
图15是示出了根据第二实施方式的第一实例的域划分处理的实例的流程图。
[0052]
图16是示出了根据第二实施方式的第二实例的照明设备的示例性配置的示图。
[0053]
图17是示出了根据第二实施方式的第二实例的域划分处理的实例的流程图。
[0054]
图18是示出了应用根据实施方式的照明设备的投影仪设备的示例性配置的示图。
[0055]
图19是示出变形例的光源部的示例图。
具体实施方式
[0056]
现在将参考附图按照以下顺序描述本技术的实施方式。
[0057]
《1.第一实施方式》
[0058]
[1-1.照明设备的配置]
[0059]
[1-2.根据第一实施方式的图像再现方法]
[0060]
[1-3.处理过程]
[0061]
《2.第二实施方式》
[0062]
[2-1.第一实例]
[0063]
[2-1.第二实例]
[0064]
《3.第三实施方式》
[0065]
[3-1.投影仪设备的配置]
[0066]
[3-2.根据第三实施方式的图像再现方法]
[0067]
《4.变形例》
[0068]
《5.实施方式概述》
[0069]
《6.本技术》
[0070]
《1.第一实施方式》
[0071]
[1-1.照明设备的配置]
[0072]
图1是示出根据本技术的第一实施方式的照明设备1的示例性配置的示图。
[0073]
如图1所示，照明设备1包括光源部2、相位调制slm(空间光调制器)3、驱动部4以及控制部5。
[0074]
照明设备1被配置为通过使相位调制slm3对来自光源部2的入射光执行空间光相位调制而在投影平面sp上再现期望图像(光强度分布)。例如，如上所述的照明设备1可应用于车辆的前照灯(头灯)。在照明设备1应用于前照灯的情况下，照明设备1可被配置为使得相位调制slm3执行空间光相位调制以改变远光或者近光的照射范围。
[0075]
光源部2用作使光入射在相位调制slm3上的光源。在本实施方式中，光源部2包括例如图2所示的多个发光元件2a。更具体地，光源部2包括具有多个发光元件2a的二维阵列的光源，并且从多个发光元件2a发射的光入射在相位调制slm3上。
[0076]
在本实施方式中，使用激光发光元件作为发光元件2a。应注意，发光元件2a不限于激光发光元件。例如，led(发光二极管)、放电灯或其他发光元件可选地用作发光元件2a。
[0077]
相位调制slm3包括例如透射液晶面板，并且对入射光执行空间光相位调制。
[0078]
应注意，相位调制slm3可选地被配置为反射型空间光相位调制器而不是透射型空间光相位调制器。例如，反射型液晶面板或dmd(数字微镜装置)可以用作反射型空间光相位调制器。
[0079]
驱动部4包括用于驱动相位调制slm3的驱动电路。驱动部4被配置为能够单独驱动相位调制slm3中的像素。
[0080]
控制部5例如被配置为包括例如cpu(中央处理单元)、rom(只读存储器)和ram(随机存取存储器)的微型计算机。控制部5接收目标图像的输入(即，表示目标光强度分布的信息)并且计算相位调制slm3的相位分布以用来在投影平面sp上再现目标图像。控制部5控制驱动部4，使得根据所计算的相位分布驱动相位调制slm3。
[0081]
应注意，稍后将详细描述在本实施方式中由控制部5计算的相位分布。
[0082]
[1-2.根据第一实施方式的图像再现方法]
[0083]
首先，在描述根据第一实施方式的图像再现方法之前，下面参照图3描述通过空间相位调制的图像再现的原理。
[0084]
图3示意性地示出了入射在相位调制slm3的相位调制面sm上的光线、相位调制slm3中的相位分布的波前、相位调制的光线以及通过相位调制的光线形成在投影平面sp上的光强度分布之间的关系。
[0085]
首先，作为前提，由于采用自由形式方法(freeform method)，所以绘制平滑的曲线以表示如图3所示的相位调制slm3中的相位分布的波前。由于相位调制slm3执行空间光相位调制，所以入射光线被折射以在相位分布的波前的法线方向上行进。由于该折射，具有高射线密度的部分和具有低射线密度的部分形成在投影平面sp上。这导致在投影平面sp上形成光强度分布。
[0086]
由于上述原理，可以通过在相位调制slm3中设置的相位分布图案(phase distribution pattern)在投影平面sp上再现期望的图像。
[0087]
这里，如前所述，自由形式方法作为确定用于再现目标图像的相位分布的方法是众所周知的。自由形式方法是用于基于射线光学器件确定用于再现期望图像的相位分布的方法的通用名称。
[0088]
例如，如之前提到的ptl1中公开的传统自由形式方法假设入射在相位调制面sm上的光的光强度分布是均匀的，如图4的a中所示，即，为其中面内方向上不存在光强度变化的均匀分布。此外，传统的自由形式方法是确定用于折射入射光线使得整个相位调制平面和整个投影平面中的射线栅格点(虚拟光线穿透每个平面的点)以最佳的一对一的关系连接的相位分布的方法。
[0089]
因此，在入射光强度分布不均匀的情况下，例如，如图4的b所示，因为入射在相位调制平面sm上的光被遮蔽物oa部分地遮挡，入射光强度分布可叠加在再现图像上并且导致无法实现适当的图像再现。
[0090]
鉴于上述情况，本实施方式采用如图5所示的将相位调制面sm划分成多个域dm的方法，以提高针对入射光强度分布的鲁棒性。更具体地，本实施方式使用使多个域dm在投影平面sp上的共用区域rc中再现基于共用相位分布的光强度分布的方法。在这种情况下，通过自由形式方法确定多个域dm共用的相位分布。
[0091]
因为多个域dm基于投影平面sp上的共用区域rc中的共用相位分布再现光强度分布，所以在共用区域rc中再现的光强度分布表示通过合并各个域dm的光强度分布而获得的分布。因此，即使入射光的光强度分布不均匀且不一致，来自各个域dm的贡献在投影平面sp中被平均。因此，再现图像的光强度分布不太可能改变。
[0092]
图6描述了示出由于采用参考图5描述的方法而执行的操作的示例图。
[0093]
更具体地，在图6中，图6的a示出了在入射光强度分布不均匀的情况下(因为入射在相位调制平面sm上的光部分地被遮蔽物oa遮挡)采用根据参照图5描述的实施方式的图像再现方法时在投影平面sp的共用区域rc中再现的图像。此外，图6的b示出了在入射光强度分布不均匀的情况下由各个域dm提供的再现图像，入射光强度不均匀因为入射在相位调制平面sm上的光以类似于上述情况的方式被遮蔽物oa部分地遮挡。
[0094]
如图6的b所示，明显受遮光影响的域dm(即，由于遮光的影响而入射相对少量的光的域dm)趋于提供具有相对少量的光的再现图像。同时，受遮光影响不明显的域dm趋于提供具有相对大的光量的再现图像。因此，来自各个域dm的贡献在投影平面sp上的共用区域rc中被平均。结果，即使入射光的光强度分布不均匀且不一致，再现图像的光强度分布也不太可能改变。
[0095]
因此，在入射光的光强度分布不均匀的情况下，可使入射光强度分布不太可能在再现图像上重叠。这提高了针对入射光强度分布的鲁棒性。
[0096]
此外，因为相位调制面sm被分成多个域dm，所以还改善了针对相位调制slm3中从一个像素至另一个像素的性能变化的鲁棒性。例如，在相位调制slm3中的某个像素在使用未划分相位调制平面sm的常规方法期间变得有缺陷的情况下，在投影平面sp中的对应于缺陷像素的点处通常不显示所期望的再现图像。然而，在本实施方式中，上述平均效果确保即使在投影平面sp中的对应点处也正常地显示期望的再现图像。
[0097]
现在将参考图7至图9描述确定每个域dm的相位分布的具体方法。
[0098]
为了便于说明，坐标系(x，y)、坐标系(x’，y’)和坐标系(ux，uy)在下文中如图7所描绘地定义和使用。坐标系(x，y)被定义用于相位调制平面中的相位调制区域。为相位调制平面中的域dm定义坐标系(x’，y’)。坐标系(ux，uy)被定义用于投影平面中的投影区域(上述共用区域rc)。此外，域dm的位置相对于相位调制区域的偏移量被定义为(δx，δy)，并且域dm相对于相位调制区域的面积减小率被定义为r(r》2)。此外，相位调制平面与投影平面之间的距离被定义为f。
[0099]
首先，使用自由形式方法来确定用于允许从整个相位调制区域到投影区域的光线的一一对应的相位分布p。如ptl1中所述，入射在相位调制区域中的点(x，y)＝(x1，y1)上的光线以由在点(x，y)＝(x1，y1)处的相位分布p的梯度向量表示的方式通过相位分布p折射。在下面等式1中表示梯度向量。
[0100]
[数学式.1]
[0101][0102]
投影平面被光线穿透的点(ux，uy)＝(ux1，uy1)与相位调制平面中的点(x，y)＝(x1，y1)之间的面内位移作为梯度向量与投影距离f的乘积给出，如下面的等式2所示。
[0103]
[数学式.2]
[0104][0105]
因此，相位调制平面被由相位分布p折射的光线穿透的点与投影平面被同一光线
穿透的点之间的对应关系由以下等式3给出。
[0106]
[数学式.3]
[0107][0108]
现在，将给予域dm的相位分布称为“p
’”
。
[0109]
如图8和图9所示，当入射在整个相位可调制区域上的光线被相位分布p折射时在投影区域中实现的强度分布现在被称为“i”，并且当入射在域dm上的光线被相位分布p’折射时在投影区域中实现的强度分布现在被称为“i
’”
。相位分布p’满足的条件是强度分布i和强度分布i’彼此一致。
[0110]
现在，这里假设在域dm上的某个点是如图9所示的点a’，而其坐标是(x’，y’)＝(s
x
，sy)。此外，假设投影平面被在点a’处的相位分布p’折射的光线穿透的点是点b’。
[0111]
此外，如图8所描绘，假设相对于点a’具有坐标(x，y)＝(r
·sx
，r
·
sy)的对应关系的相位调制区域上的点是点a，而由点a处的相位分布p折射的光线穿透投影平面的点是点b。
[0112]
为了使强度分布i与强度分布i’一致，以点b与点b’一致的方式确定相位分布p’是足够的。如果假定存在满足上述条件的相位分布p’，则如结合等式2所描述的，在点a’处的相位分布p’的梯度向量与投影距离f的积与点b与点a’之间的面内位移一致。然而，点b的坐标如下面的等式4中所表示的，其使用等式3中的左侧表达式。
[0113]
[数学式.4]
[0114][0115]
当关注点a’在(x，y)坐标系中的坐标是(x，y)＝(s
x
+δx，sy+δy)的事实时，获得以下等式5作为相位分布p’满足的条件表达式。
[0116]
[数学式.5]
[0117][0118]
通过使用等式3，等式5可被重写为下面的等式6。
[0119]
[数学式.6]
[0120][0121]
此处，因为点a’是域dm上的点，所以获得诸如以下等式7的条件表达式。当等式6中的(s
x
，sy)被重新写入为(x’，y’)时，获得等式7。
[0122]
[数学式.7]
[0123][0124]
当计算关于等式7的右侧的(x’，y’)的旋转场时，获得下面的等式8。
[0125]
[数学式.8]
[0126][0127]
这里，相位分布p是(x，y)上的已知标量场，并且其梯度场的旋转场相对于任何(x，y)为零。因此，等式8最终为零。通常，作为梯度场而赋予某个矢量场的标量场存在的必要且充分的条件是该矢量场的旋转场在任意点都为零。因此，当等式7中所示的条件表达式的右侧的旋转场为零时，这表示真正存在满足等式7的相位分布p’，即，给出等式7的右侧作为梯度场的相位分布p’。因此，在域dm上的某个点(x’，y’)＝(s
x
，sy)处的相位分布p’的值可以被配置为如下面通过线积分等式7的右侧所指示的。
[0128]
[数学式.9]
[0129][0130][0131]
以上等式10的第一项表示通过以减小率r缩放空间方向和相位方向两者上的相位分布p而获得的分量。同时，等式10的第二项和第三项表示由域dm的位置确定的透镜分量。因此，为了计算每个域划分的相位分布p’，首先对通过自由形式方法确定的相位分布p执行空间方向缩放和相位方向缩放，将对应于每个域dm的位置的透镜分量添加到缩放的相位分布中，并且将相加的结果分配为每个域dm的相位分布p’就足够了。
[0132]
执行上述步骤使得可以再现投影平面上的共用投影区域中的共用光强度分布，而不偏移从每个域dm获得的再现图像的位置。
[0133]
现在，在下文中，将为整个相位调制区域确定的相位分布p称为“基本相位分布dpr”。此外，通过根据域dm的大小对基本相位分布dpr执行空间方向缩放和相位方向缩放而获得的相位分布在下文中被称为“共用相位分布dpc”。
[0134]
应注意，基本相位分布dpr被确定为相位调制面sm上的整个相位调制区域的相位分布。然而，基本相位分布dpr是与设定在相位调制面sm上的基本区域ar的大小相对应的相位分布。基本区域ar的大小仅需要至少大于域dm的大小并且不大于相位调制面sm上的可相位调制区域的大小。
[0135]
在以上实例中，当基本区域ar的面积是“arr”并且域dm的面积是“ard”时，基本相位分布dpr以“ard/arr”的比率缩放。
[0136]
图10是示出了透镜分量的添加的示例图。
[0137]
图10中示出的域是域dm-1、域dm-2以及域dm-3。域dm-1位于中心。域dm-2位于域dm-1上方。域dm-3位于域dm-1下方。被描绘为透镜分量dpl-1的相位分布是对应于域dm-1的位置的透镜分量的相位分布。被描绘为透镜分量dpl-2的相位分布是对应于域dm-2的位置
的透镜分量的相位分布。被描绘为透镜分量dpl-3的相位分布是对应于域dm-3的位置的透镜分量的相位分布。
[0138]
如图10所示，将针对域dm-1设置的相位分布dpd-1确定为通过将透镜分量dpl-1与共用相位分布dpc相加而获得的相位分布。类似地，将针对域dm-2设置的相位分布dpd-2确定为通过将透镜分量dpl-2与共用相位分布dpc相加而获得的相位分布。同样地，将针对域dm-3设置的相位分布dpd-3确定为通过将透镜分量dpl-3与共用相位分布dpc相加所获得的相位分布。
[0139]
因此，域dm-1、dm-2和dm-3各自能够再现投影平面sp上的共用区域rc中的共用光强度分布。
[0140]
通过将与各个域dm对应的透镜分量dpl加至如上所述的共用相位分布dpc而获得的相位分布在下文中统称为“域相位分布dpd”。
[0141]
[1-3.处理过程]
[0142]
现在将参考图11的流程图描述用于确定域相位分布dpd的处理过程的具体实例。
[0143]
应该注意的是，图11所示的处理由图1所示的控制部5执行。
[0144]
首先，在步骤s101中，控制部5输入目标图像。
[0145]
这里，在要再现视频图像的情况下，要输入的目标图像是包括在视频图像中的帧图像。在视频图像再现的情况下，以视频图像的帧间隔重复执行图11所示的处理。在再现静止图像的情况下，将静止图像作为目标图像输入。在这种情况下，对于要再现的静止图像，仅需要执行图11中所示的处理至少一次。
[0146]
在接续步骤s101的步骤s102中，控制部5执行相位分布计算处理。相位分布计算处理是利用自由形式方法计算上述基本相位分布dpr的处理。更具体地，通过自由形式方法计算用于在投影平面sp上再现在步骤s101中输入的目标图像的基本相位分布dpr。
[0147]
在接续步骤s102的步骤s103中，控制部5缩放相位分布。更具体地，通过对在步骤s102中计算的基本相位分布dpr执行上述空间方向缩放和相位方向缩放来获得共用相位分布dpc。
[0148]
在接续步骤s103的步骤s104中，控制部5将域标识符n重置为初始值0。域标识符n是由控制部5管理以识别要处理的域dm的标识符。
[0149]
在接续步骤s104的步骤s105中，控制部5获取第n个域的透镜分量dpl。这里，在本实例中，每个域dm的透镜分量dpl被预存储在控制部5中。因此，在步骤s105中，控制部5进行获取所存储的透镜分量dpl之中的第n个域dm的透镜分量dpl的处理。
[0150]
在接续步骤s105的步骤s106中，控制部5通过将透镜分量dpl与缩放后的相位分布相加来计算第n个域的相位分布。更具体地，通过将在步骤s105中获取的透镜分量dpl与在步骤s103中执行的缩放处理中获得的共用相位分布dpc相加来计算第n个域dm的域相位分布dpd。
[0151]
在接续步骤s106的步骤s107中，控制部5确定域标识符n是否等于或大于最大值nmax。这里，最大值nmax是与域dm划分的数量对应的值。例如，如果域dm划分的数量等于16，则将值“15”设置为最大值nmax。
[0152]
在步骤s107中域标识符n小于最大值nmax的情况下，控制部5进行到步骤s108，将域标识符n递增1，并返回到步骤s105。因此，在没有针对任何域dm计算域相位分布dpd的情
况下，针对下一域dm执行步骤s105和后续步骤。
[0153]
同时，如果在步骤s107中，域标识符n等于或大于最大值nmax，则控制部5终止图11所示的一系列处理。
[0154]
此外，以上描述是在所有域dm再现投影平面sp上的共用区域rc中的共用光强度分布的假设下给出的。
[0155]
图12示意性地示出了所有域dm以这种方式再现共用区域rc中的共用光强度分布。
[0156]
然而，并非必须所有的域dm来再现共用区域rc中的共用光强度分布。如图13中所示，可以采用替换的配置，以仅仅使一些域dm再现共用区域rc中的共用光强度分布。
[0157]
《2.第二实施方式》
[0158]
[2-1.第一实例]
[0159]
现在将描述第二实施方式。
[0160]
第二实施方式被配置为动态地改变域dm划分的数量。
[0161]
作为第二实施方式的第一实例，以下描述根据入射光的光强度分布的均匀性的评估结果改变域dm划分的数量的实例。
[0162]
入射光的光强度分布可随时间变化。具体地，如结合本实例所描述的，在使用具有多个发光元件2a的排列的光源作为光源部2的情况下，一些发光元件2a可能因故障等而不发光。因此，相对于相位调制slm3的入射光强度分布可随时间变化。
[0163]
如参考图6所描述的原理可理解的，通过各个域dm对入射光强度分布进行平均的效果趋向于随着域dm划分的数量的减少而降低，并且趋向于随着域dm划分的数量的增加而增加。同时，在域dm划分的数量减少的情况下，增加的像素数量被分配给每个域dm。由此，能够提高再生图像的分辨率。
[0164]
因此，本实例采用如下方法：评估入射光的光强度分布的均匀性，并且确保在均匀性被评估为低的情况下的域dm划分的数量大于在均匀性被评估为高的情况下的域dm划分的数量。
[0165]
这使得可以通过在入射光强度分布的均匀性低的情况下增加域dm划分的数量来减轻入射光强度分布对再现图像的影响，并且可以在入射光强度分布的均匀性高的情况下通过减少域dm划分的数量来提高再现图像的分辨率。
[0166]
结果，可根据入射光强度分布适当地调整针对入射光强度分布的鲁棒性与再现图像的分辨率之间的平衡。
[0167]
图14是示出根据第二实施方式的第一实例的照明设备1a的示例性配置的示图。
[0168]
另外，在以下的描述中，对与已经面熟的部分相同的部分，标注相同的符号并省略其说明。
[0169]
照明设备1a与图1所示的照明设备1的不同之处在于，包括非发光元件检测部6，并且包括控制部5a来代替控制部5。
[0170]
非发光元件检测部6检测光源部2内的非发光元件2a。例如，非发光元件检测部6根据各发光元件2a的导通状态来检测非发光元件2a。更具体地，本实例的非发光元件检测部6监测各发光元件2a的驱动电流值，检测驱动电流值为预定值或以下的发光元件2a作为非发光元件2a。
[0171]
控制部5a根据非发光元件检测部6的检测结果进行动态改变域dm划分的数量的处
理。更具体地，控制部5a执行图15中所示的处理。
[0172]
图15是示出了根据第二实施方式的第一实例的域划分处理的实例的流程图。
[0173]
首先，在步骤s201中，控制部5a确定是否存在非发光元件2a。该确定根据非发光元件检测部6的检测结果来进行。
[0174]
在确定为不存在非发光元件2a的情况下，控制部5a结束图15所示的一系列的处理。即，在这种情况下，域dm划分的数量保持不变。更具体地，维持稍后描述的划分的参考数量。
[0175]
另一方面，在确定存在非发光元件2a的情况下，前进到步骤s202，确定非发光元件的数量(非发光元件2a的数量)是否为阈值th1或以下。这里，阈值th1被设定为2或以上的自然数。另外，注意，可以根据非发光元件检测部6的检测结果来确定非发光元件的数量。
[0176]
如果非发光元件的数量等于或小于阈值th1，则控制部5a前进到步骤s203并且将域划分的数量设置为“参考划分数量+α1”。这里，划分参考数量被预先确定为域dm划分的参考数量。在本实例中，基于在光源部2中不存在非发光的发光元件2a的状态来决定参考划分数量。例如，尽管参考划分数量可以例如随着相位调制slm3中的像素的数量而改变，然而，参考划分数量可以被设置为4
×
4＝16或6
×
6＝36。
[0177]
同时，如果非发光元件的数量大于阈值th1，则控制部5a前进到步骤s204并将域划分的数量设置为“参考划分数量+α量”。在这种情况下，α。》α。。
[0178]
结果，在非发光元件的数量为1以上且不大于阈值th1的情况下，将“参考划分数量+α量”设定为域dm划分的数量，在非发光元件的数量大于阈值th1的情况下，将大于“参考划分数量+α量”的“参考划分数量+α量”设定为域dm划分的数量。换言之，域dm划分的数量随着入射光强度分布的均匀性的评估水平的降低而增加。
[0179]
在完成步骤s203或s204时，控制部5a结束图15所示的一系列处理。
[0180]
这里，在动态地改变域dm划分的数量的情况下，为可能的域dm划分的数量中的每个准备域dm专用透镜分量dpl。例如，相关数据被存储在控制部5a可读取的存储器中。在域dm划分的数量改变的情况下，控制部5a检查由此存储在存储器中的用于每个域dm划分的域dm专用透镜分量dpl，获取用于域划分的改变数量的域dm专用透镜分量dpl，并且使用所获取的域dm专用透镜分量dpl来计算域相位分布dpd。
[0181]
应当注意，可选方案是在每次改变域dm划分的数量时计算和获取每个域dm的透镜分量dpl。
[0182]
[2-1.第二实例]
[0183]
第二实施方式的第二实例被配置为使得基于再现的图像和目标图像之间的光强度分布的差值，改变域dm划分的数量。
[0184]
图16是示出了根据第二实施方式的第二实例的照明设备1b的示例性配置的示图。
[0185]
照明设备1b与图1所示的照明设备1的不同之处在于，具有成像部7，代替控制部5而具有控制部5b。
[0186]
例如，成像部7包括诸如ccd(电荷耦合器件)传感器或cmos(互补金属氧化物半导体)传感器等成像元件，并且捕获由相位调制slm3投影在投影平面sp上的再生图像。
[0187]
基于由成像部7捕获的图像，控制部5b确定再现图像的光强度分布和目标图像的光强度分布之间的差值(目标光强度分布)，并根据确定的光强度分布的差值改变域dm划分
的数量。更具体地，控制部5b执行图17所示的处理。
[0188]
图17是示出了根据第二实施方式的第二实例的域划分处理的实例的流程图。
[0189]
首先，在步骤s301中，控制部5b基于捕获图像计算再现图像与目标图像之间的光强度分布差值的评估值。例如，假设所计算的评估值随着光强度分布的差值的增加而增加。
[0190]
在接续步骤s301的步骤s302中，控制部5b确定评估值是否为等于或大于预定值。在确定评估值小于预定值的情况下(即，在光强度分布的差值较小的情况下)，控制部5b终止在图17中所示的一系列处理。
[0191]
同时，在确定评估值等于或大于预定值的情况下，控制部5b前进到步骤s303，将域划分的数量设置为“参考划分数量+α”，然后终止在图17中描述的一系列处理。
[0192]
这确保在再现图像和目标图像之间的光强度分布的差值大的情况下，与在差值小的情况下相比，域dm划分的数量更大。结果，能够以减少再现图像和目标图像之间的光强度分布的差值的方式调整域划分的数量。
[0193]
应当注意，在第二实例中，域dm划分的数量可以随着目标图像和再现图像之间的光强度分布的差值的增加而增加。
[0194]
此外，在第二实施方式中，成像部7不必需要与照明设备1b一体化，也可以配置在照明设备1b的外部。
[0195]
《3.第三实施方式》
[0196]
[3-1.投影仪设备的配置]
[0197]
第三实施方式被配置为使得就实施方式所描述的照明设备应用于投影仪设备。
[0198]
图18是示出了应用根据实施方式的照明设备的投影仪设备10的示例性配置的示图。
[0199]
如图18所示，与图1所示的照明设备1相同，投影设备10包括光源部2、相位调制slm3、驱动部4以及控制部5，并且投影设备10还包括强度调制slm11、低频图像生成部12、高频图像生成部13以及驱动部14。
[0200]
强度调制slm11包括例如透射液晶面板并且对入射光执行空间光强度调制。如图18所示，强度调制slm11连接至相位调制slm3的输出级。因此，从光源部2发出并经过相位调制slm3的空间光相位调制的光入射至强度调制slm11上。
[0201]
投影设备10通过将经受由强度调制slm11进行的空间光强度调制的光投影在投影平面sp’上而将目标图像的再现图像投影在投影平面sp’上。
[0202]
应注意，例如，反射空间光相位调制器(诸如，反射液晶面板或者dmd)可用作强度调制slm11。
[0203]
低频图像生成部12被配置作为目标图像的低通滤波器，并适于提取目标图像的低频分量，并将所提取的低频分量作为低频图像输出至控制部5。在这种情况下，为了计算每个域dm的域相位分布dpd，控制部5使用从低频图像生成部12输出的低频图像作为目标图像来进行如图7所示的根据第一实施方式的处理。然后，控制部5以根据计算出的域相位分布dpd执行空间光相位调制的方式控制驱动部4。
[0204]
这里，从所描绘的投影平面sp的位置显而易见的是，这种情况下的相位分布是通过自由形式方法以在强度调制slm11的强度调制平面上再现目标图像的方式计算的。此外，通过以再现设置在强度调制slm11的强度调制平面中的投影平面sp上的共用区域rc中的每
个域dm的光强度分布的方式来执行计算来获得在这种情况下使用的每个域dm的透镜分量dpl。
[0205]
高频图像生成部13被配置作为目标图像的高通滤波器并且适于提取目标图像的高频分量并且将所提取的高频分量作为高频图像输出至驱动部14。
[0206]
驱动部14根据输入的高频图像驱动强度调制slm11中的每个像素。
[0207]
因此，根据高频图像的光强度分布被给予经受由强度调制slm11进行的空间光强度调制的光。
[0208]
[3-2.根据第三实施方式的图像再现方法]
[0209]
顺便提及，传统的投影仪设备通过使强度调制slm11对来自光源的光执行空间光强度调制来获得再现图像。然而，空间光强度调制部分地阻挡从光源入射的光或使从光源入射的光变暗。因此，光利用效率低，并且难以实现对比度增强。
[0210]
鉴于上述情况，本实施方式被配置为使得将结合第一实施方式和第二实施方式描述的照明设备(即，适于执行用于再现期望的光强度分布的空间光相位调制的照明设备)应用于投影仪设备10，以提高光利用效率并且实现再现的图像的对比度增强。
[0211]
根据图18中所示的配置，相位调制slm3执行空间光相位调制以在投影平面sp上的共用区域rc中再现根据目标图像的低频图像的光强度分布，该投影平面sp设置在强度调制slm11的强度调制平面中。这对应于在利用强度调制slm11进行空间光强度调制之前形成目标图像的近似光强度分布，并且类似于用于提供液晶显示器的背光的通常称为区域划分驱动的控制。然而，这种情况下的光强度分布通过相位调制形成。这防止了来自光源的光的利用效率的降低。
[0212]
在上述情况下，强度调制slm11布置通过相位调制slm3再现的低频图像的再现图像的细节并且用于再现根据投影平面sp’上的目标图像的光强度分布。这使得可以在抑制再现图像的分辨率的降低的同时增强再现图像的对比度。
[0213]
作为在相位调制slm3中的空间光相位调制的方法，图18中所示的投影仪设备10采用使各个域dm再现共用区域中的共用光强度分布的方法。因此，防止来自光源的入射光的光强度分布在投影平面sp’上重叠在再现图像上。这提高了投影平面sp’上的图像再现相对于入射光强度分布的鲁棒性。
[0214]
应注意，虽然这里没有给出示出的描述，但是投影仪设备10也可以执行如结合第二实施方式的第一实例和第二实例描述的动态地改变域dm划分的数量的处理。
[0215]
《4.变形例》
[0216]
这里，本技术并不局限于上述实施方式的上述具体实例并且可采用配置作为各种变形。
[0217]
例如，虽然以上描述了根据需要通过自由形式方法计算基本相位分布dpr的实例，但是可替代地使用预先计算的基本相位分布dpr。
[0218]
例如，在照明设备1应用于例如前灯的情况下，在某些情况下，要再现的图像(光强度分布)受到限制。在这种情况下，可选方案是在控制部5可读的存储器中预先存储关于针对要再现的每个图像预先计算的基本相位分布dpr的信息，在再现图像切换时从存储器读取相关的基本相位分布dpr，并且相应地使用所读取的信息。
[0219]
此外，在域dm划分的数量固定的情况下，用于每个域dm的透镜分量dpl是固定的。
因此，可以使用固定透镜分量dpl针对要再现的每个图像预先计算每个域dm的域相位分布dpd。在这种情况下，可选方案是在存储器中预先存储针对每个图像的每个域dm的预先计算的域相位分布dpd，在再现图像切换时从存储器读取相关域相位分布dpd，并且相应地使用所读取的信息。
[0220]
此外，所使用的光源部2可选地被配置为使得多个r(红)、g(绿)、b(蓝)色的发光元件2r、2g、2b如图19所示的光源部2a所示那样排列。在这种情况下，可以组合从相应颜色的发光元件2r、2g和2b发射的光以通过使用白色实现图像再现。
[0221]
在以上实例中，根据实施方式的照明设备和投影仪设备使用折射现象用于图像再现的目的(例如，参考图3)。这使得可以忽略波长选择性的问题，例如，在通过使用用于生成cgh(计算机生成的全息图)的衍射现象实现图像再现的情况下。因此，即使在所采用的光源部2a包括图19中所示的相应颜色的发光元件2r、2g和2b的阵列的情况下，考虑到波长选择性，发光元件2r、2g和2b也不需要以时间视觉方式发光。此外，与三板式投影仪设备的情况不同，光路和空间光调制器不需要为了配置目的而被划分成用于各个颜色的光路和空间光调制器。
[0222]
《5.实施方式概述》
[0223]
如上所述，作为实施方式提供的照明设备(照明设备1、1a或1b或者投影设备10)包括光源部(光源部2或2a)、相位调制部(相位调制slm3)以及控制部(控制部5、5a或5b)。光源部具有发光元件(发光元件2a、2r、2g、2b)。相位调制部对来自光源部的入射光执行空间光相位调制。控制部控制相位调制部，使得通过划分相位调制部的相位调制平面而形成的多个域(域dm)在投影平面(投影平面sp)上的共用区域(共用区域rc)中再现基于共用相位分布(共用相位分布dpc)的光强度分布，共用相位分布基于自由形式方法确定。
[0224]
因为多个域以这种方式在投影平面上的共用区域中再现基于共用相位分布的光强度分布，所以在共用区域中再现的光强度分布表示通过合并各个域的光强度分布而获得的光强度分布。因此，即使入射光的光强度分布不均匀且不一致，来自各个域的贡献也在投影平面中被平均。因此，再现图像的光强度分布不太可能改变。
[0225]
因此，在入射光的光强度分布不均匀的情况下，不均匀的入射光强度分布不太可能叠加在再现图像上。这提高了针对入射光强度分布的鲁棒性。
[0226]
当提高了针对入射光强度分布的鲁棒性时，光源部不需要发射具有均匀强度分布的光。因此，光源部可以包括多个发光元件的阵列。这使得成本降低。
[0227]
此外，在所采用的光源部包括发光元件阵列的情况下，即使发光元件之间的发光强度差值由于老化而变得显著，也可减轻对再现图像的影响。
[0228]
另外，作为实施方式所提供的照明设备被配置为使得光源部具有多个发光元件。
[0229]
因此，光源部不需要使用单一的高输出发光元件以满足预定的光强度要求。
[0230]
这降低了光源部的成本。
[0231]
此外，作为实施方式所提供的照明设备被配置为使得控制部将通过对利用自由形式方法计算的相位分布执行根据域大小的缩放处理所获得的相位分布用作共用相位分布。
[0232]
该配置消除了通过自由形式方法计算每个域的相位分布的必要性。
[0233]
结果，能够减轻处理的负担。
[0234]
此外，实施方式所提供的照明设备被配置为使得控制部将通过将基于域位置的透
镜分量(透镜分量dpl)添加到共用相位分布而获得的相位分布分配为各域的相位分布。
[0235]
因此，可以以与为每个域使用共用相位分布的情况对应的方式，在投影平面上的共用区域中适当地再现共用光强度分布。
[0236]
结果，可以在降低对相位分布计算的处理施加的负担的同时提高针对入射光强度分布的鲁棒性。
[0237]
此外，作为实施方式所提供的照明设备被配置为使得控制部(控制部5a或5b)动态地改变域划分的数量。
[0238]
增加域划分的数量改善了对入射光强度分布的鲁棒性，并且减少域划分的数量改善了再生图像的分辨率。
[0239]
结果，可以通过动态地改变域划分的数量来动态地调整鲁棒性和再现图像分辨率之间的平衡。
[0240]
此外，实施方式所提供的照明设备被配置为使得控制部(控制部5a)根据入射光强度分布的均匀性的评估结果改变域划分的数量。
[0241]
该配置使得可以根据入射光强度分布适当地控制域划分的数量，例如，在入射光强度分布的均匀性低的情况下，通过增加域划分的数量以减轻入射光强度分布对再现图像的影响，并且在入射光强度分布的均匀性高的情况下，通过减少域划分的数量以提高再现图像的分辨率。
[0242]
因此，可根据入射光强度分布适当地调整针对入射光强度分布的鲁棒性与再现图像的分辨率之间的平衡。
[0243]
此外，作为实施方式所提供的照明设备被配置为使得控制部进行控制，以使得在评估为均匀性低的情况下，与评估为均匀性高的情况相比，增加区域划分的数量。
[0244]
该配置使得可以在入射光强度分布的均匀性低的情况下通过增加域划分的数量来减轻入射光强度分布对再现图像的影响，并且在入射光强度分布的均匀性高的情况下通过减少域划分的数量来提高再现图像的分辨率。
[0245]
因此，可根据入射光强度分布适当地调整针对入射光强度分布的鲁棒性与再现图像的分辨率之间的平衡。
[0246]
此外，作为实施方式所提供的照明设备被配置为使得控制部使划分数量随着均匀性的评估水平的降低而增加。
[0247]
该配置确保减轻入射光强度分布对再现图像的影响的效果随着入射光强度分布的均匀性的降低而增加。
[0248]
因此，能够适当地减轻入射光强度分布对再现图像的影响。
[0249]
另外，作为实施方式所提供的照明设备被配置为使得光源部具有多个发光元件，并且控制部根据在光源部中是否检测出非发光的发光元件来评估均一性。
[0250]
该配置使得可以根据发光元件的导通状态的检测结果来评估入射光强度分布的均匀性。
[0251]
因此，可以简化用于均匀性评估的检测部的配置以减少部件的数量和成本。
[0252]
此外，作为实施方式所提供的照明设备被配置为使得控制部(控制部5b)基于捕获投影平面的图像确定投影平面上的再现图像的光强度分布与目标光强度分布之间的差值，并且根据所确定的差值改变域划分的数量。
[0253]
该配置使得可以以减小再现图像的光强度分布和目标光强度分布之间的差值的方式调整域划分的数量。
[0254]
因此，可以提高针对入射光强度分布的鲁棒性。
[0255]
此外，作为实施方式所提供的照明方法是由包括光源部和相位调制部的照明设备执行的照明方法。光源部具有发光元件。相位调制部对来自光源部的入射光执行空间光相位调制。照明方法以这样的方式控制相位调制部：通过划分相位调制部的相位调制平面形成的多个域在投影平面上的共用区域中再现基于共用相位分布的光强度分布，该共用相位分布基于自由形式方法确定。
[0256]
作为实施方式提供的上述照明方法也使得可以提供与由作为实施方式提供的上述照明设备提供的操作和优点类似的操作和优点。
[0257]
此外，作为实施方式提供的投影仪设备(投影仪设备10)包括光源部、相位调制部、强度调制部(强度调制slm11)以及控制部(控制部5)。光源部具有发光元件。相位调制部对来自光源部的入射光执行空间光相位调制。强度调制部对经由相位调制部进行空间光相位调制的光执行空间光强度调制。控制部控制相位调制部以使得通过划分相位调制部的相位调制平面而形成的多个域在强度调制部的强度调制平面上的共用区域中再现基于共用相位分布的光强度分布，所述共用相位分布基于自由形式方法确定。
[0258]
因此，包括用于提高从光源部入射的光的光利用效率的相位调制部的投影仪设备能够确保即使相对于相位调制部的入射光的光强度分布不均匀且不一致，再现图像的光强度分布也不可能改变。
[0259]
因此，可以提高针对入射光强度分布的鲁棒性，同时增强再生图像的对比度。
[0260]
应当注意，在本文档中描述的优点仅仅是说明性的而非限制性的。本技术可以另外提供除在本文档中描述的那些优点之外的优点。
[0261]
《6.本技术》
[0262]
应注意，本技术还可采用以下配置。
[0263]
(1)一种照明设备，包括：
[0264]
光源部，具有发光元件；
[0265]
相位调制部，对来自光源部的入射光执行空间光相位调制；以及
[0266]
控制部，控制所述相位调制部，使得通过划分相位调制部的相位调制平面而形成的多个域在投影平面上的共用区域中再现基于共用相位分布的光强度分布，共用相位分布基于自由形式方法确定。
[0267]
(2)根据上述(1)所述的照明设备，其中，光源部包括多个发光元件。
[0268]
(3)根据上述(1)或(2)所述的照明设备，其中，控制部使用通过对通过自由形式方法计算的相位分布执行根据域的大小的缩放处理而获得的相位分布作为共用相位分布。
[0269]
(4)根据上述(3)所述的照明设备，其中，控制部将通过将基于域位置的透镜分量加到共用相位分布而获得的相位分布分配为域中的每一个域的相位分布。
[0270]
(5)如以上(1)至(4)中任一项所述的照明设备，其中，控制部动态地改变域划分的数量。
[0271]
(6)根据上述(5)所述的照明设备，其中，控制部根据入射光的光强度分布的均匀性的评估结果改变域划分的数量。
[0272]
(7)根据上述(6)所述的照明设备，其中，在评估均匀性为低的情况下，与评估均匀性较高的情况相比，控制部提供更大数量的域划分。
[0273]
(8)根据上述(7)所述的照明设备，其中，当均匀性的评估等级降低时，控制部增加域划分的数量。
[0274]
(9)如以上(6)至(8)中任一项所述的照明设备，
[0275]
其中，光源部具有多个发光元件，以及
[0276]
控制部根据是否在光源部中检测到非发光的发光元件，对均匀性进行评估。
[0277]
(10)根据以上(5)至(9)中任一项所述的照明设备，其中，控制部基于投影平面的捕获图像确定投影平面上的再现图像的光强度分布与目标光强度分布之间的差值，并且根据所确定的差值改变域划分的数量。
[0278]
(11)一种由照明设备执行方如照明方法，所述照明设备包括光源部和相位调制部，光源部具有发光元件，相位调制部对来自光源部的入射光执行空间光相位调制，所述照明方法包括：
[0279]
控制相位调制部，使得通过划分相位调制部的相位调制平面形成的多个域在投影平面上的共用的区域中再现基于共用相位分布的光强度分布，共用相位分布基于自由形式方法确定。
[0280]
(12)一种投影仪设备，包括：
[0281]
光源部，具有发光元件；
[0282]
相位调制部，对来自光源部的入射光执行空间光相位调制；
[0283]
强度调制部，对受到相位调制部进行的空间光相位调制的光进行空间光强度调制；以及
[0284]
控制部，控制相位调制部，使得通过划分相位调制部的相位调制平面而形成的多个域在强度调制部的强度调制平面上的共用区域中再现基于共用相位分布的光强度分布，共用相位分布基于自由形式方法确定。
[0285]
[参考标号列表]
[0286]
1、1a、1b：照明设备
[0287]
2、2a：光源部
[0288]
2a、2r、2g、2b：发光元件
[0289]
3：相位调制slm
[0290]
4、14：驱动部
[0291]
5、5a、5b：控制部
[0292]
6：非发光元件检测部
[0293]
7：成像部
[0294]
sp，sp’：投影平面
[0295]
sm：相位调制平面
[0296]
dm、dm-1、dm-2、dm-3：域
[0297]
rc：共用区域
[0298]
oa：遮蔽物
[0299]
ar：基本区域
[0300]
dpr：基本相位分布
[0301]
dpc：共用相位分布
[0302]
dpd：域相位分布
[0303]
tar，tas：正切
[0304]
dpl、dpl-1、dpl-2、dpl-3：透镜分量
[0305]
10：投影仪设备
[0306]
11：强度调制slm
[0307]
12：低频图像生成部
[0308]
13：高频图像生成部。