显示基板及其制备方法、显示面板和显示装置与流程

文档序号:38061197发布日期:2024-05-20 11:46阅读:14来源:国知局
显示基板及其制备方法、显示面板和显示装置与流程

本公开实施例属于显示,具体涉及一种显示基板及其制备方法、显示面板和显示装置。


背景技术:

1、oled(organic light-emitting diode,有机发光二极管)显示装置,具备自发光、高亮度、宽视角、高对比度、可挠曲、低能耗等特性,因此受到广泛的关注,并作为新一代的显示方式,已开始逐渐取代传统lcd(liquid crystal display)显示装置,被广泛应用在手机屏幕、电脑显示器、全彩电视等。相关技术中oled显示装置按照其发光方式的不同,可以分为顶发射型和底发射型。


技术实现思路

1、本公开实施例提供一种显示基板及其制备方法、显示面板和显示装置。

2、第一方面,本公开实施例提供一种显示基板,其中,包括:像素驱动电路和多个第一电极,所述第一电极位于所述像素驱动电路上;

3、所述像素驱动电路包括基底和多条第一信号走线,所述多条第一信号走线位于所述基底上的同一层;所述多条第一信号走线的延伸方向相同;

4、所述第一电极与所述第一信号走线位于不同层;

5、所述第一信号走线与所述第一电极在所述基底上的正投影局部交叠;

6、所述第一电极为条形,所述多个第一电极沿条形的长度方向和宽度方向排布呈阵列;

7、所述第一信号走线的延伸方向与条形的长度方向和宽度方向之间分别形成大于0°且小于90°的锐角夹角;

8、所述显示基板还包括辅助填平结构,位于所述第一信号走线远离所述基底的一侧和所述第一电极靠近所述基底的一侧,所述辅助填平结构在所述基底上的正投影至少覆盖所述第一电极在所述基底上的正投影;

9、所述辅助填平结构能使所述第一电极的膜层平整。

10、在一些实施例中,所述辅助填平结构包括多个平坦层,所述多个平坦层在所述基底上的正投影覆盖所述像素驱动电路;

11、所述多个平坦层依次叠置于所述第一信号走线远离所述基底的一侧,最靠近所述第一电极的所述平坦层的靠近所述第一电极的一侧表面为平面;

12、所述第一电极为平面膜层。

13、在一些实施例中,所述辅助填平结构还包括虚设结构,位于任意相邻的两个所述平坦层之间,且至少分布于所述第一电极在所述基底上的正投影区域内;

14、所述虚设结构在所述基底上的正投影与所述第一信号走线在所述基底上的正投影不交叠,且所述虚设结构在所述基底上的正投影与所述第一信号走线在所述基底上的正投影形成互补图形。

15、在一些实施例中,所述辅助填平结构还包括虚设结构,与所述第一信号走线位于同一层上,且至少分布于所述第一电极在所述基底上的正投影区域内;

16、所述虚设结构在所述基底上的正投影与所述第一信号走线在所述基底上的正投影不交叠,且所述虚设结构在所述基底上的正投影与所述第一信号走线在所述基底上的正投影形成互补图形。

17、在一些实施例中,所述辅助填平结构还包括多个虚设结构,与所述第一信号走线位于同一层上,且至少分布于所述第一电极在所述基底上的正投影区域内;

18、所述虚设结构在所述基底上的正投影与所述第一信号走线在所述基底上的正投影不交叠,相邻的所述第一信号走线之间、相邻的所述虚设结构与所述第一信号走线之间以及相邻的所述虚设结构之间等间隔。

19、在一些实施例中,所述辅助填平结构还包括多个虚设结构,位于任意相邻的两个所述平坦层之间,且至少分布于所述第一电极在所述基底上的正投影区域内;

20、所述虚设结构在所述基底上的正投影与所述第一信号走线在所述基底上的正投影不交叠,相邻的所述第一信号走线在所述基底上的正投影之间、相邻的所述虚设结构与所述第一信号走线在所述基底上的正投影之间以及相邻的所述虚设结构在所述基底上的正投影之间等间隔。

21、在一些实施例中,所述多条第一信号走线相互平行;

22、相邻的所述第一信号走线在所述基底上的正投影之间、相邻的所述虚设结构与所述第一信号走线在所述基底上的正投影之间以及相邻的所述虚设结构在所述基底上的正投影之间的间隔距离小于或等于所述第一信号走线的最小线宽;

23、所述虚设结构沿所述多条第一信号走线排布方向的宽度小于或等于所述第一信号走线的最小线宽。

24、在一些实施例中,所述辅助填平结构包括多个虚设结构和多个平坦层,所述多个平坦层在所述基底上的正投影覆盖所述像素驱动电路;

25、所述多个虚设结构与所述第一信号走线位于同一层上;且所述多个虚设结构至少分布于所述第一电极在所述基底上的正投影区域内;

26、所述虚设结构在所述基底上的正投影与所述第一信号走线在所述基底上的正投影不交叠,相邻的所述第一信号走线之间、相邻的所述虚设结构与所述第一信号走线之间以及相邻的所述虚设结构之间等间隔;

27、所述多个平坦层依次叠置于所述第一信号走线远离所述基底的一侧,最靠近所述第一电极的所述平坦层的靠近所述第一电极的一侧表面为均匀凹凸面。

28、在一些实施例中,所述辅助填平结构包括多个虚设结构和多个平坦层,所述多个平坦层在所述基底上的正投影覆盖所述像素驱动电路;

29、所述多个虚设结构位于任意相邻的两个所述平坦层之间;且所述多个虚设结构至少分布于所述第一电极在所述基底上的正投影区域内;

30、所述虚设结构在所述基底上的正投影与所述第一信号走线在所述基底上的正投影不交叠,相邻的所述第一信号走线在所述基底上的正投影之间、相邻的所述虚设结构与所述第一信号走线在所述基底上的正投影之间以及相邻的所述虚设结构在所述基底上的正投影之间等间隔;

31、所述多个平坦层依次叠置于所述第一信号走线远离所述基底的一侧,最靠近所述第一电极的所述平坦层的靠近所述第一电极的一侧表面为均匀凹凸面。

32、在一些实施例中,所述第一电极为均匀凹凸膜层。

33、在一些实施例中,相邻的所述第一信号走线在所述基底上的正投影之间、相邻的所述虚设结构与所述第一信号走线在所述基底上的正投影之间以及相邻的所述虚设结构在所述基底上的正投影之间的间隔距离分别等于所述多条第一信号走线的平均线宽;

34、所述虚设结构沿所述多条第一信号走线排布方向的宽度等于所述多条第一信号走线的平均线宽。

35、在一些实施例中,最靠近所述第一信号走线的一层所述平坦层的厚度大于所述第一信号走线的厚度。

36、在一些实施例中,所述虚设结构的厚度小于或等于所述第一信号走线的厚度。

37、在一些实施例中,所述虚设结构的厚度等于所述第一信号走线的厚度。

38、在一些实施例中,所述虚设结构采用绝缘材料或者导电材料;

39、所述导电材料包括与所述第一信号走线的材料相同的导电材料。

40、在一些实施例中,所述虚设结构采用绝缘材料。

41、在一些实施例中,所述像素驱动电路还包括多条第二信号走线,所述多条第二信号走线位于所述基底上的同一层;所述多条第二信号走线的延伸方向相同;

42、所述第二信号走线的延伸方向与条形的长度方向和宽度方向之间分别形成大于0°且小于90°的锐角夹角;

43、所述第二信号走线位于所述第一信号走线的靠近所述基底的一侧;

44、所述第二信号走线与所述第一信号走线之间还设置有绝缘层。

45、在一些实施例中,所述第一信号走线的延伸方向与条形的长度方向和宽度方向之间分别形成40°~50°的夹角;

46、所述第二信号走线的延伸方向与条形的长度方向和宽度方向之间分别形成40°~50°的夹角。

47、在一些实施例中,所述第一电极的形状包括矩形、菱形、椭圆形、梯形中的任意一种形状。

48、在一些实施例中,所述第一信号走线包括数据线或者电源线或者栅线;

49、所述第二信号走线包括栅线或者数据线或者电源线。

50、在一些实施例中,所述虚设结构采用导电材料,所述虚设结构接入第一电位信号或者第二电位信号;

51、所述第一电位信号大于所述第二电位信号;所述第二电位信号大于或等于接地电位;

52、所述第一电位信号包括电源线的电位。

53、第二方面,本公开实施例还提供一种显示面板,其中,包括上述显示基板。

54、在一些实施例中,还包括像素限定层、发光功能层和第二电极;

55、所述像素限定层、所述发光功能层和所述第二电极依次叠置于所述显示基板中第一电极背离像素驱动电路的一侧;

56、所述像素限定层中开设有多个开口,所述第一电极在所述开口处部分裸露,所述发光功能层和所述第二电极在所述像素驱动电路上的正投影至少覆盖所述开口。

57、第三方面,本公开实施例还提供一种显示装置,其中,包括上述显示面板。

58、第四方面,本公开实施例还提供一种显示基板的制备方法,其中,包括:制备像素驱动电路;

59、在所述像素驱动电路上制备多个第一电极;

60、所述制备像素驱动电路包括在基底上制备多条第一信号走线;

61、所述多条第一信号走线的延伸方向相同;

62、所述第一信号走线与所述第一电极在所述基底上的正投影局部交叠;

63、所述第一电极为条形,所述多个第一电极沿条形的长度方向和宽度方向排布呈阵列;

64、所述第一信号走线的延伸方向与条形的长度方向和宽度方向之间分别形成大于0°且小于90°的锐角夹角;

65、所述制备方法在所述像素驱动电路制备完成后且在所述第一电极制备前还包括:制备辅助填平结构,所述辅助填平结构在所述基底上的正投影至少覆盖所述第一电极在所述基底上的正投影。

66、在一些实施例中,所述制备辅助填平结构包括:采用涂布工艺依次制备多个平坦层。

67、在一些实施例中,所述制备辅助填平结构还包括:采用构图工艺制备虚设结构。

68、在一些实施例中,在任意相邻的两个所述平坦层的制备中,在前一个所述平坦层制备完毕后且在后一个所述平坦层制备之前制备所述虚设结构。

69、在一些实施例中,所述虚设结构与所述第一信号走线通过一次构图工艺制备。

70、在一些实施例中,所述第一信号走线与所述虚设结构依次通过一次构图工艺制备。

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