1.一种用于粒子束产生装置的靶材的加工设备，其特征在于，所述靶材包括作用层、抗发泡层、散热层，所述加工设备包括真空室、排气装置、蒸发源、支架和加热装置；所述排气装置用于对所述真空室排气以形成真空环境，所述蒸发源用于将所述抗发泡层、作用层的材料在所述真空室中依次蒸发为气体，所述支架用于放置所述散热层，所述加热装置用于将所述散热层加热后，使得所述气体的材料依次沉积在所述散热层面向所述蒸发源的表面。
2.如权利要求1所述的加工设备，其特征在于，所述加工设备还包括膜厚度检测装置，所述膜厚度检测装置用于检测所述作用层、抗发泡层的厚度并控制气体的沉积速度。
3.一种用于粒子束产生装置的靶材，其特征在于，所述靶材包括作用层、抗发泡层、散热层，利用权利要求1或2所述加工设备将所述作用层、抗发泡层以形成膜的方式加工到所述散热层上。
4.如权利要求3所述的靶材，其特征在于，所述靶材还包括导热层，所述抗发泡层位于所述导热层与所述散热层之间，所述导热层将所述作用层的热量传导到所述散热层。
5.如权利要求4所述的靶材，其特征在于，所述导热层以形成膜的方式加工到所述抗发泡层上。
6.如权利要求3所述的靶材，其特征在于，所述靶材还包括用于防止作用层被氧化的抗氧化层。
7.如权利要求6所述的靶材，其特征在于，所述抗氧化层由al或al2o3制成，并以形成膜的方式加工到所述作用层上。
8.如权利要求6所述的靶材，其特征在于，所述抗氧化层为高分子薄膜，并通过膜覆盖工艺加工到所述作用层上。
9.如权利要求8所述的靶材，其特征在于，所述高分子薄膜由聚酰亚胺制成，所述聚酰亚胺具有如下分子结构式：
10.如权利要求3、5、7中的任一项所述的靶材，其特征在于，所述形成膜的方式为物理气相沉积、溅镀、热焊镀、原子层沉积中的一种。