显示装置以及用于制造该显示装置的方法与流程

本公开涉及一种显示装置以及用于制造该显示装置的方法。

背景技术：

1、随着信息技术的进步，对于用于显示图像的显示装置的需求已经在各种领域中增大。例如，显示装置已经应用于诸如智能电话、数码相机、膝上型计算机、导航仪和智能电视的各种电子装置。显示装置可以是诸如液晶显示装置、场发射显示装置和发光显示装置的平板显示装置。在平板显示装置当中，发光显示装置包括显示面板的像素中的每个可以通过其自发光的发光元件，由此在不使用为显示面板提供光的背光单元的情况下显示图像。

技术实现思路

1、本公开的实施例提供能够在没有掩模工艺的情况下形成针对每个发光区而隔离的发光元件的显示装置。

2、本公开的实施例提供减少由于通过在显示装置的制造工艺期间执行的蚀刻工艺对堤结构的损坏而可能发生在每个像素中的发光偏差的显示装置。

3、根据本公开的实施例，一种显示装置包括：第一像素电极和第二像素电极，设置在基板上并且彼此间隔开；无机绝缘层，设置在基板上并且包括设置在第一像素电极上的部分和设置在第二像素电极上的部分；堤结构，设置在无机绝缘层上，其中，与第一像素电极重叠的第一开口和与第二像素电极重叠的第二开口通过堤结构限定；第一发光层和第二发光层，第一发光层设置在第一像素电极上，并且第二发光层设置在第二像素电极上；以及第一公共电极和第二公共电极，第一公共电极设置在第一发光层上，并且第二公共电极设置在第二发光层上，其中，堤结构包括第一堤层、设置在第一堤层上并且包括与第一堤层的金属材料不同的金属材料的第二堤层以及设置在第二堤层上并且包括至少一个氧化物半导体层的第三堤层，并且第二堤层和第三堤层中的每个包括限定在堤结构的限定第一开口和第二开口的侧壁中的每个上的尖端并且比第一堤层突出得远。

4、在实施例中，第一堤层可以包括铝(al)，第二堤层可以包括钛(ti)，并且第三堤层可以包括选自氧化铟锌(izo)、氧化铟镓锌(igzo)、氧化铟锡镓锌(itgzo)、氧化铟锡(ito)、氧化铟锡锌(itzo)、氧化铟锡镓(itgo)和氧化铟镓(igo)中的至少一种。

5、在实施例中，第三堤层可以包括第一氧化物半导体层和第二氧化物半导体层，第二氧化物半导体层设置在第一氧化物半导体层上并且包括与第一氧化物半导体层的氧化物半导体不同的氧化物半导体。

6、在实施例中，第三堤层可以具有在大约100埃至大约范围内的厚度。

7、在实施例中，限定在堤结构的限定第一开口的侧壁上的尖端可以具有与限定在堤结构的限定第二开口的侧壁上的尖端的厚度相同的厚度。

8、在实施例中，第一公共电极和第二公共电极中的每个可以与第一堤层的侧表面直接接触。

9、在实施例中，显示装置可以进一步包括：第一有机图案，设置在第三堤层上以围绕第一开口并且包括与第一发光层的材料相同的材料；第一电极图案，设置在第一有机图案上并且包括与第一公共电极的材料相同的材料；第二有机图案，设置在第三堤层上以围绕第二开口并且包括与第二发光层的材料相同的材料；以及第二电极图案，设置在第二有机图案上并且包括与第二公共电极的材料相同的材料。

10、在实施例中，显示装置可以进一步包括：第一无机层，设置在堤结构的限定第一开口的侧壁上并且设置在第一公共电极和第一电极图案上；以及第二无机层，设置在堤结构的限定第二开口的侧壁上并且设置在第二公共电极和第二电极图案上，其中，第一无机层和第二无机层可以设置为彼此间隔开，并且第三堤层可以包括与第一无机层和第二无机层不重叠的部分。

11、在实施例中，无机绝缘层可以与第一像素电极和第二像素电极的上表面中的每个不接触，第一发光层可以包括设置在第一像素电极与无机绝缘层之间的部分，并且第二发光层可以包括设置在第二像素电极与无机绝缘层之间的部分。

12、在实施例中，显示装置可以进一步包括：残留图案，设置在第一像素电极和第二像素电极与无机绝缘层之间。

13、在实施例中，显示装置可以进一步包括：第三像素电极，在基板上设置为与第二像素电极间隔开；第三发光层，设置在第三像素电极上；以及第三公共电极，设置在第三发光层上，其中，与第三像素电极重叠的第三开口通过堤结构限定。

14、在实施例中，显示装置可以进一步包括：第三有机图案，设置在第三堤层上以围绕第三开口并且包括与第三发光层的材料相同的材料；第三电极图案，设置在第三有机图案上并且包括与第三公共电极的材料相同的材料；以及第三无机层，设置在堤结构的限定第三开口的侧壁上并且设置在第三公共电极和第三电极图案上。

15、在实施例中，显示装置可以进一步包括：薄膜封装层，设置在堤结构上，其中，薄膜封装层可以包括第一封装层、设置在第一封装层上的第二封装层以及设置在第二封装层上的第三封装层。

16、在实施例中，显示装置可以进一步包括：遮光层，设置在第三封装层上，其中，多个开口孔通过遮光层限定为与第一开口和第二开口重叠；第一滤色器，设置在遮光层上并且与第一开口重叠；以及第二滤色器，设置在遮光层上并且与第二开口重叠。

17、根据本公开的实施例，一种用于制造显示装置的方法包括：在基板上形成彼此间隔开的多个像素电极；在多个像素电极上形成牺牲层；在牺牲层上形成无机绝缘层，以及在无机绝缘层上形成第一堤材料层、第二堤材料层和第三堤材料层；形成第一孔，第一孔与多个像素电极中的像素电极重叠并且通过第一堤材料层、第二堤材料层和第三堤材料层而暴露设置在该像素电极上的牺牲层；通过牺牲层和限定第一孔的侧壁的湿法蚀刻来去除牺牲层，其中，第二堤材料层和第三堤材料层的比第一堤材料层的侧壁突出得远的尖端通过湿法蚀刻形成；在通过湿法蚀刻形成的第一开口中将发光层和公共电极形成在该像素电极上并且在公共电极和第三堤材料层上形成无机层；以及去除设置在第三堤材料层上的无机层的一部分。

18、在实施例中，第一堤材料层可以包括铝(al)，第二堤材料层可以包括钛(ti)，并且第三堤材料层可以包括选自izo、igzo、itgzo、ito、itzo、itgo和igo中的至少一种。

19、在实施例中，无机层可以包括选自氧化硅、氮化硅和氮氧化硅中的至少一种，并且无机层的一部分的去除可以通过使用氟(f)类蚀刻剂的干法蚀刻工艺执行。

20、在实施例中，方法可以进一步包括：在去除无机层的一部分之后，通过第一堤材料层、第二堤材料层和第三堤材料层形成与多个像素电极中的另一像素电极重叠的第二孔；以及通过限定第二孔的侧壁的湿法蚀刻来形成第二开口，其中，朝向第一开口突出的尖端和朝向第二开口突出的尖端可以具有彼此相同的厚度。

21、在实施例中，公共电极可以与第一堤材料层的侧表面直接接触。

22、在实施例中，发光层和公共电极的形成可以包括：在第三堤材料层上形成包括与发光层的材料相同的材料的有机图案以及在有机图案上形成包括与公共电极的材料相同的材料的电极图案，其中，无机层可以形成在电极图案上。

23、根据实施例的显示装置可以具有其中在显示装置的制造工艺中防止损坏形成发光区的堤结构的结构。因此，显示装置可以防止朝向堤结构的开口突出的尖端下垂，并且可以针对每个发光元件维持均匀的亮度，使得可以防止在显示装置中出现斑点。