电磁波屏蔽膜的制造方法
【技术领域】
[0001 ] 本发明涉及电磁波屏蔽膜的制造方法。
【背景技术】
[0002]近年来，对节能措施的关注不断提高，为了贴附于建筑物、车辆的玻璃窗从而阻断阳光中含有的热辐射的透射而减少施加于冷却设备的负荷，正在积极地开发具有反射近红外光的功能的电磁波屏蔽膜。
[0003]电磁波屏蔽膜是将高折射率层与低折射率层交替地层叠而构成的。一般而言，已知高折射率层和低折射率层的层数越多，电磁波的反射率越高，屏蔽效果越高，但现有技术通过涂布逐次形成各层，生产率存在问题(例如，参照专利文献1和2)。因此，为了提高生产率，提出了能够一次性进行复层涂布(同时复层涂布)的滑动式模涂机的应用。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1:日本特开平8-110401号公报
[0007]专利文献1:日本特开2004-123766号公报
【发明内容】
[0008]然而，构成滑动式模涂机的挡杆(〃'一)的设置数(涂布层数)与制造的电磁波屏蔽膜的层数(高折射率层和低折射率层的层数)对应。因此，为了使制造的电磁波屏蔽膜的层数增加，在增加涂布层数时，挡杆的设置数增加，涂布液流下的由挡杆的端面构成的滑动面变长。由此，涂布液的流动容易产生紊乱，均匀的涂布变得困难，此外，有可能产生涂布液的混合而对电磁波屏蔽膜产生不良影响，例如，导致膜厚的不均匀(变动)、性能的下降。
[0009]另一方面，为了防止涂布液的流动的紊乱，有效的是缩短滑动面，因此，需要减薄挡杆。然而，若减薄挡杆，则产生以下问题:受到由低折射率层涂布液粘度与高折射率层涂布液粘度的差所致的影响，即，基于低折射率层涂布液通过间隙时产生的压力损失的内部压力与基于高折射率层涂布液通过间隙时产生的压力损失的内部压力的压力差的影响。
[0010]例如，从压力高的一侧(粘度大的低折射率层涂布液所通过的一侧)向低的一侧(粘度小的高折射率层涂布液所通过的一侧)，挡杆被加压而变形，涂布宽度方向的间隙的均匀性变差，从而产生以下问题:涂布膜厚变得不均匀，制造的电磁波屏蔽膜的光学特性的均匀性下降，例如，产生颜色不均。
[0011]本发明是为了解决与上述现有技术相伴的课题而完成的，其目的是提供一种即使增加层数也可以良好地实施同时复层涂布的电磁波屏蔽膜的制造方法。
[0012]本发明的上述目的通过下述手段达成。
[0013](1) 一种电磁波屏蔽膜的制造方法，该电磁波屏蔽膜具有高折射率层与低折射率层交替地层叠而成的结构，
[0014]该制造方法具有涂布工序:使用具有多个层叠的挡杆的滑动式模涂机，使构成上述高折射率层的第1涂布液的涂布层与构成上述低折射率层的第2涂布液的涂布层交替地层叠从而对膜基材进行同时复层涂布，
[0015]上述挡杆具有:前端部，其在与邻接的另一挡杆之间形成间隙；基端部，其与上述另一挡杆抵接；以及袋部，其位于上述前端部与上述基端部之间且具有作为涂布液积存部的凹部，
[0016]上述袋部的厚度为15mm以下，
[0017]上述涂布工序中，供给上述第2涂布液的挡杆的袋部的凹部的内压与供给上述第1涂布液的挡杆的袋部的凹部的内压的压力差被设定为0.1MPa以下。
[0018](2)如上述⑴所述的电磁波屏蔽膜的制造方法，其中，上述第1涂布液的粘度μ JmPa.s]和上述第2涂布液的粘度y2[mPa.s]满足关系式(μ2< 4X μ ^100)。
[0019](3)如上述⑴所述的电磁波屏蔽膜的制造方法，其中，供给上述第1涂布液的挡杆的前端部的间隙的厚度即狭缝间隙D31[mm]和供给上述第2涂布液的挡杆的前端部的间隙的厚度即狭缝间隙D32[mm]为0.05?0.4，并且，
[0020]上述狭缝间隙D32大于上述狭缝间隙D 31。
[0021](4)如上述⑵所述的电磁波屏蔽膜的制造方法，其中，上述第1涂布液的粘度μ ! [mPa.s]为 3 ?30，
[0022]上述第2涂布液的粘度μ 2 [mPa.s]为50?500。
[0023](5)如上述⑴?(4)中任一项所述的电磁波屏蔽膜的制造方法，其中，电磁波屏蔽膜具有反射近红外光的功能。
[0024]根据本发明，挡杆的袋部的厚度为15mm以下，能够减薄挡杆，即使增加挡杆的设置数(涂布层数)，也可抑制涂布液流下的由挡杆的端面构成的滑动面变长。此外，在涂布工序中，供给第2涂布液的挡杆的袋部的凹部的内压与供给第1涂布液的挡杆的袋部的凹部的内压的压力差被设定为0.1MPa以下。S卩，挡杆的最小壁厚部、受到压力的影响而容易变形的袋部处的压力差小，因此可抑制挡杆的变形，维持涂布宽度方向的间隙的均匀性，防止涂布宽度方向的涂布膜厚变得不均匀，因此制造的电磁波屏蔽膜的光学特性的均匀性良好。因此，能够提供即使增加层数也可以良好地实施同时复层涂布的电磁波屏蔽膜的制造方法。
[0025]通过参照下述说明和附图中例示的优选实施方式，进一步明确本发明的其它目的、特征和特质。
【附图说明】
[0026]图1是用于说明本发明的实施方式所涉及的电磁波屏蔽膜的制造方法的流程图。
[0027]图2是用于说明图1所示的制备工序和涂布工序中应用的涂布装置的示意图。
[0028]图3是用于说明图2所示的模涂机的侧方壁部的俯视图。
[0029]图4是用于说明图2所示的模涂机的挡杆的俯视图。
[0030]图5是与图4的线V-V相关的截面图。
[0031]图6是用于说明本发明的实施方式所涉及的涂布工序的截面图。
[0032]图7是用于说明涂布工序中的涂布条件的截面图。
[0033]图8是用于说明比较例的截面图。
[0034]图9是表示用于说明挡杆的袋部的厚度和压力差对电磁波屏蔽膜的膜厚变动率的影响的试验结果的表格。
[0035]图10是表示用于说明涂布液粘度对电磁波屏蔽膜的膜厚变动率和压力差的影响的试验结果的表格。
[0036]图11是表示用于说明狭缝间隔对电磁波屏蔽膜的膜厚变动率的影响的试验结果的表格。
【具体实施方式】
[0037]以下，一边参照附图一边说明本发明的实施方式。应予说明，附图的尺寸比率有时为了方便说明而夸大，与实际的比率不同。
[0038]图1是用于说明本发明的实施方式所涉及的电磁波屏蔽膜的制造方法的流程图。
[0039]本发明的实施方式所涉及的电磁波屏蔽膜是将高折射率层与低折射率层交替地进行多层层叠而构成的，具有在可见光区域(波长380?780nm)透射率高、在近红外光区域(780?2500nm)反射率高的光学特性。电磁波屏蔽膜的用途是近红外光反射膜，配置于建筑物的室外的窗、汽车窗、农业用塑料大棚等，为了赋予热辐射反射效果而使用。
[0040]“高折射率层”和“低折射率层”是指在比较邻接的2层的折射率差时，将折射率较高的层设为高折射率层，将较低的层设为低折射率层。特定波长区域的反射率由邻接的2层的折射率差和层数决定，折射率的差越大，越可以用少的层数得到高的反射率。
[0041]如图1所示，本发明的实施方式所涉及的电磁波屏蔽膜的制造方法具有制备工序、涂布工序和干燥工序。
[0042]制备工序中，例如，通过混合金属氧化物粒子、树脂粘结剂、固化剂、添加剂、溶剂等，可制备高折射率层涂布液和低折射率层涂布液。
[0043]涂布工序中，将对应于电磁波屏蔽膜的各层的高折射率层涂布液和低折射率层涂布液对膜基材一次性进行复层涂布(同时复层涂布)。
[0044]膜基材能够应用聚烯烃膜、聚酯膜、聚氯乙烯膜、三乙酸纤维素膜等各种树脂膜。聚烯烃例如是聚乙烯、聚丙烯。聚酯例如是聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯。
[0045]干燥工序中，通过对复层涂布有高折射率层涂布液和低折射率层涂布液的膜基材进行干燥(热固化)，可制造电磁波屏蔽膜。干燥条件可考虑高折射率层涂布液和低折射率层涂布液中含有的挥发性成分的蒸发温度、固化剂的固化温度、膜基材的耐热温度等而适当设定。其后，将干燥的电磁波屏蔽膜根据需要裁断成适当的大小。
[0046]如下所述，对于涂布工序，即