一种显示面板和显示装置的制作方法

文档序号:21722057发布日期:2020-08-05 01:12阅读:62来源:国知局
一种显示面板和显示装置的制作方法

本发明属于显示技术领域,具体涉及一种显示面板和显示装置。



背景技术:

随着科技发展,在各种电子设备中都需要设置发声单元。而现有技术中,通常将发声单元设置在显示面板的面板之下,并且若需要较好的发声效果,则发声单元的体积较大,会占用较大的空间,而若发声单元的体积过小,则无法达到良好的发声效果。且发声单元通常设置在显示面板的边角区域,使得发声位置固定,用户无法获得良好的听觉体验。



技术实现要素:

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一,提供一显示面板,其将发声单元与面板相集成,从而能够减少发声单元占用的空间,且能够使显示面板实现屏幕发声。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种显示面板,包括:面板和多个发声单元;

所述面板包括基底,和设置在所述基底之上的多个像素单元;

所述发声单元包括振动膜、激励器和支撑结构;

所述支撑结构设置在所述振动膜一侧,所述支撑结构具有空腔;

所述激励器包括活动部和驱动部,所述驱动部设置在所述空腔内,所述活动部与所述振动膜相接触,所述驱动部驱动所述活动部振动,以带动所述振动膜振动;其中,

所述基底与所述振动膜共用结构,多个所述像素单元设置在所述振动膜背离所述支撑结构一侧。

本发明提供的显示面板中,由于将发声单元的振动膜与面板的基底共用,即振动膜作为面板的基底,多个像素单元设置在振动膜之上,从而能够将发声单元与面板相集成,减少发声单元占用的空间,且能够使显示面板实现屏幕发声。

优选的,所述振动膜为柔性基底;

或者,所述振动膜为刚性基底;

或者,所述振动膜的部分区域为刚性基底。

优选的,若所述振动膜的部分区域为刚性基底,所述振动膜包括柔性基底层和附加层;其中,

所述附加层设置在所述柔性基底层靠近所述支撑结构一侧,且所述附加层在所述柔性基底层上的正投影,位于所述空腔在所述柔性基底层上的正投影内;

所述附加层的刚度不小于所述柔性基底层的刚度,所述附加层以及所述柔性基底层对应所述附加层的位置形成所述刚性基底。

优选的,所述附加层与所述柔性基底层一体成型;或,

所述附加层与所述支撑结构一体成型。

优选的,所述支撑结构包括刚性支撑结构和弹性支撑结构,所述弹性支撑结构设置在所述刚性支撑结构靠近所述振动膜一侧。

优选的,所述驱动部为磁体,所述活动部为音圈,所述音圈设置在所述振动膜靠近所述磁体一侧,且其设置在所述空腔内。

优选的,所述驱动部为音圈,所述活动部为磁性薄膜,所述磁性薄膜设置在所述振动膜与所述支撑结构之间,且所述磁性薄膜覆盖所述空腔;或,

多个所述像素单元中,相邻的两个所述像素单元之间具有间隙;

所述驱动部为音圈,所述活动部包括多个磁性薄膜,多个所述磁性薄膜分别设置在所述间隙中。

优选的,多个所述发声单元包括高频发声单元和低频发声单元,所述高频发声单元对应的音频的频率,高于所述低频发声单元对应的音频的频率;

所述高频发声单元的数量大于所述低频发声单元的数量。

优选的,所述高频发声单元的所述振动膜为刚性基底,所述低频发声单元的振动膜为柔性基底;或,

所述低频发声单元的所述空腔在所述振动膜上的正投影的面积,大于所述高频发声单元的所述空腔在所述振动膜上的正投影的面积。

优选的,所述显示面板包括多个发声区域,每个所述发声区域中设置有多个所述发声单元,且每个发声区域中的多个所述发声单元包括高频发声单元和低频发声单元中的至少一种;

所述显示面板还包括音频输入控制芯片;

每个所述发声单元连接一个发声单元控制芯片,每个发声区域中的多个发声单元对应的所述发声单元控制芯片连接同一区域控制芯片;

多个所述发声区域对应的所述区域控制芯片连接所述音频输入控制芯片;

所述音频输入控制芯片将音频信号输入需要发声的发声区域对应的区域控制芯片,所述区域控制芯片根据所述发声单元的类型对所述音频信号进行处理后,输入对应的所述发声单元的发声单元控制芯片。

优选的,所述显示面板还包括基板,多个所述发声单元线性排布在所述基板上;

或者,

多个所述发声单元呈十字形阵列排布在所述基板上。

相应地,本发明还提供一种显示装置,包括上述显示面板。

附图说明

图1为本实施例提供的显示面板的一种实施例的结构示意图;

图2为显示面板的面板的结构示意图;

图3为显示面板的发声单元的结构示意图;

图4为本实施例提供的显示面板的发声单元的实施例之一;

图5为本实施例提供的显示面板的发声单元的实施例之二;

图6为本实施例提供的显示面板的发声单元的实施例之三;

图7为本实施例提供的显示面板的发声单元的制作步骤图之一;

图8为本实施例提供的显示面板的发声单元的制作步骤图之二;

图9为本实施例提供的显示面板中激励器的结构示意图(一面磁性薄膜);

图10为本实施例提供的显示面板中激励器的结构示意图(多个磁性薄膜);

图11为本实施例提供的显示面板中发声单元的分布示意图;

图12为本实施例提供的显示面板的子面板上发声单元的分布示意图;

图13为本实施例提供的显示面板的发声单元的各控制芯片的连接示意图;

图14为本实施例提供的显示面板上发声单元的排布图(线性排布);

图15为本实施例提供的显示面板上发声单元的排布图(十字形阵列排布)。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述,显然,所描述的实施例仅是本发明的部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本发明保护的范围。

附图中各部件的形状和大小不反映真实比例,目的只是为了便于对本发明实施例的内容的理解。

除非另外定义,本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性,而只是用来区分不同的组成部分。同样,“一个”、“一”或者“该”等类似词语也不表示数量限制,而是表示存在至少一个。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同,而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接,而是可以包括电性的连接,不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系,当被描述对象的绝对位置改变后,则该相对位置关系也可能相应地改变。

如图1所示,本实施例提供一种显示面板,该显示面板包括面板1和多个发声单元2。

具体地,参见图2,面板1包括基底11,和设置在基底11之上的多个像素单元12,相邻的像素单元12之间具有空隙01。参见图3,多个发声单元2中,每个发声单元2包括振动膜21、激励器22和支撑结构23。支撑结构23设置在振动膜21的一侧,支撑结构23用于支撑振动膜21,支撑结构23具有空腔231,振动膜21覆盖空腔231,形成发声单元的悬膜结构。空腔231能够提高容纳激励器22的空间,同时也提供振动膜21弯曲振动的空间。激励器22包括活动部221和驱动部222,驱动部222设置在空腔231内,活动部221与发声单元2的振动膜21相接触,驱动部222驱动活动部221振动,因为活动部221与振动膜21相接触,因此活动部221振动可以带动振动膜21振动,从而实现发声。其中,参见图1,基底11与振动膜21共用结构,也就是说,将振动膜21作为多个像素单元12的基底,多个像素单元12设置在振动膜21背离支撑结构23一侧。

本实施例提供的显示面板中,由于将发声单元2的振动膜21与面板1的基底11共用,即振动膜21作为像素单元12的基底,多个像素单元12设置在振动膜21之上,在发声单元2发声时,振动膜21以及像素单元12在激励器22的驱动下振动发声,也即振动膜21和多个像素单元12共同形成发声单元2的振动膜层,从而能够将发声单元2与面板1相集成,减少发声单元2占用的空间,使显示面板能够轻薄化,并且将多个像素单元12设置在振动膜21上,二者共同形成振动膜层,多个像素单元12也会在激励器22的驱动下振动,从而能够使显示面板实现屏幕发声。

需要说明的是,本实施例提供的显示面板还可以包括基板001,发声单元2设置在基板001之上,基板001上可以设置像素驱动电路和发声单元驱动电路,像素驱动电路连接多个像素单元12,发声单元驱动电路连接多个发声单元2。

可选地,空腔231在振动膜21上的正投影可以为圆形,以减少振动膜21振动时与空腔内壁的应力。当然,空腔231也可以为其他形状,在此不做限定。

可选地,发声单元2的频率响应与振动膜21的刚度密切相关,不同的振动膜21的刚度可以对应优化不同频率的音频,若振动膜21刚度小,则振动膜21的本征频率低,发声单元2的低频音频截止频率低,发声单元2发出低频音频的延展性好。但若振动膜21的刚度小,则发出中高频音频时,在中高频音频的激励下容易出现分割振动,产生波峰或波谷,从而严重影响中高频音频的音质,因此播放中高频音频需要刚度较大的振动膜21。本实施例中,发声单元2的振动膜21可以具有不同的刚度,以下以三种振动膜21的类型为例进行说明。

方式一、

发声单元2的振动膜21为柔性基底。柔性基底的刚性较小,容易在激励器22的驱动下弯曲振动,因此振动膜21为柔性基底的发声单元2适应低频音频,柔性基底的发声单元2能够拓展低频音频的截止频率,使得低频音频音质良好,因此振动膜21的柔性基底可以作为低频发声单元。

进一步地,振动膜21为柔性基底时,柔性基底可以采用多种类型的材料,例如聚酰亚胺等柔性聚合物,在此不做限定。

方式二、

发声单元2的振动膜21为刚性基底。刚性基底的刚度大,不容易在激励器22的驱动下弯曲振动,因此振动膜21为刚性基底的发声单元2适应播放高频音频,刚性基底的发声单元2能够防止中高频音频激励下振动膜21发生分割振动,从而能够改善频响曲线中高频平坦性,同时也会提高中高频音频的截止频率,提高中高频音频的延展性,使得中高频音频音质良好,因此振动膜21的刚性基底可以作为高频发声单元。

进一步地,振动膜21为刚性基底时,刚性基底可以采用多种类型的材料,例如刚性基底可以为玻璃基底,在此不做限定。

方式三、

发声单元2的振动膜21的部分区域为刚性基底。

具体地,参见图4,振动膜21包括柔性基底层212和附加层211。其中,附加层211设置在柔性基底层212靠近支撑结构23一侧,且附加层211在柔性基底层212上的正投影,位于空腔231在柔性基底层212上的正投影内,也就是说,附加层211的尺寸小于空腔231的开口尺寸,例如附加层211的尺寸,可以为空腔231的开孔尺寸的0.1-0.9倍。

进一步地,附加层211的刚度不小于柔性基底层212的刚度,通过在柔性基底层212部分区域设置附加层211,附加层211所在区域的振动膜21的刚度增加,附加层211以及柔性基底层212上对应附加层211的位置形成刚性基底,也即振动膜21包括刚性区域s1和柔性区域s2,刚性区域s1即为附加层211以及柔性基底层212上对应附加层211的位置。从而振动膜21的刚性区域s1可以防止中高频音频激励下振动膜发生分割振动,能够改善频响曲线中高频音频的平坦性,同时也会提高高频音频的截止频率,提高高频音频的延展性,而振动膜21的未被附加层211覆盖的区域为柔性基底,即柔性区域s2,因此能够适应播放低频音频,拓展低频音频的截止频率,从而本实施例中发声单元2可以兼顾中、高、低频音频。

可选地,基于方式三,附加层211的中心轴可以与空腔231的中心轴对齐设置,也就是说,将附加层211设置在振动膜21的中间区域,振附加层211与空腔231之间的边缘区域仅设置了柔性基底层212,由于支撑结构23与柔性基底层212相接触,因此可以减少刚性基底对振动膜21的振动阻碍。

可选地,基于方式三,附加层211的材料可以包括多种刚度较大的材料,例如可以为金属,优选为质量轻的金属,例如附加层211的材料可以包括铝、钛中的至少一种,当然,也可以为其他材料,在此不做限定。

可选地,如图5所示,基于方式三,振动膜21中的附加层211与柔性基底层212可以一体成型,也即附加层211与柔性基底层212为同一材料且在同一工序中形成。由于柔性基底层212设置了附加层211处的厚度,大于没有设置附加层211处的厚度,因为具有附加层211的区域的刚度大于没有设置附加层的区域的刚度,因此柔性基底层212设置有附加层211的区域为刚性区域s1,可以防止中高频音频激励下振动膜发生分割振动,能够改善频响曲线中高频音频的平坦性,同时也会提高高频音频的截止频率,提高高频音频的延展性,而柔性基底层212设置没有附加层211的区域为柔性区域s2,因此能够适应播放低频音频,拓展低频音频的截止频率,从而本实施例中发声单元2可以兼顾中、高、低频音频。

进一步地,参见图7,若振动膜21中的附加层211与柔性基底层212一体成型,在制作发声单元2时,可以先在作为基底的支撑结构23的材料层上,根据附加层211的图案光刻形成牺牲层002(图7中步骤①)。之后在支撑结构23的材料层上通过旋涂工艺制作振动膜21(图7中步骤②),在震动膜21之上转印多个像素单元12(图7中步骤③),在支撑结构23的材料层背离像素单元12一侧沉积掩膜材料,并按照空腔231的图案光刻掩膜材料,形成掩膜层003(图7中步骤④),通过掩膜层003对支撑结构23的材料层进行深度刻蚀工艺,形成空腔231和支撑结构23(图7中步骤⑤),通过深度刻蚀释放牺牲层002(图7中步骤⑥),从而使振动膜21形成附加层211和柔性基底层212,最后将激励器22的活动部221贴合于附加层211背离柔性基底层212一侧,将固定部222固定在基板001上(图7中步骤⑦),最后形成发声单元2。通过将柔性基底层212与附加层211一体成型,能够简化工艺步骤。

可选地,牺牲层002的材料可以选择和振动膜21的材料的腐蚀速率差别较大的材料,如二氧化硅(sio2)等。掩膜层003可以采用氮化硅(si3n4)形成,在制作完成发声单元2时,掩膜层003可以通过光刻去除,也可以保留,与支撑结构23共同支撑振动膜21。

可选地,如图6所示,基于方式三,振动膜21中的附加层211与支撑结构23可以一体成型,也即附加层211与支撑结构23为同一材料且在同一工序中形成。由于支撑结构23的刚度较大,柔性基底层212设置了附加层211处的刚度,大于没有设置附加层211处的刚度,因为具有附加层211的区域的刚度大于没有设置附加层的区域的刚度,因此柔性基底层212设置有附加层211的区域为刚性区域s1,可以防止中高频音频激励下振动膜发生分割振动,能够改善频响曲线中高频音频的平坦性,同时也会提高高频音频的截止频率,提高高频音频的延展性,而柔性基底层212设置没有附加层211的区域为柔性区域s2,因此能够适应播放低频音频,拓展低频音频的截止频率,从而本实施例中发声单元2可以兼顾中、高、低频音频。

进一步地,参见图8,若振动膜21中的附加层211与支撑结构23一体成型,在制作发声单元2时,可以先在作为基底的支撑结构23的材料层上通过旋涂工艺制作振动膜21(图8中步骤①),在震动膜21之上转印多个像素单元12(图8中步骤②),在支撑结构23的材料层背离像素单元12一侧沉积掩膜材料,并按照空腔231的图案光刻掩膜材料,形成掩膜层003(图8中步骤③),通过掩膜层003对支撑结构23的材料层进行深度刻蚀工艺,使支撑结构23的材料层分离出位于边缘的支撑结构23和要形成附加层211的中间部分(图8中步骤④),将中间部分的支撑结构材料上的掩膜层003光刻去除(图8中步骤⑤),对中间部分的支撑结构材料进行深度光刻,减少其厚度,直至形成附加层211和空腔231(图8中步骤⑥),最后将激励器22的活动部221贴合于附加层211背离柔性基底层212一侧,将固定部222固定在基板001上(图8中步骤⑦),最后形成发声单元2。通过将支撑结构23与附加层211一体成型,能够简化工艺步骤。

可选地,支撑结构23可以为玻璃基底,由于空腔231在振动膜21上的正投影为圆形,因此图8步骤④中,通过光刻分离出支撑结构23和附加层211的凹槽为圆环孔,步骤④中可以通过感应耦合等离子体刻蚀(inductivelycoupledplasma,icp)刻蚀环状孔,步骤6中也可以通过icp法减少材料厚度形成附加层211。

可选地,由于支撑结构23与附加层211一体成型,在刻蚀支撑结构23材料层时,有可能刻蚀深度过大而穿透支撑结构23的材料层使振动膜21中的柔性基底层212损伤,因此,可以在柔性基底层212与支撑结构23设置刻蚀阻挡层,以保护振动膜21不被损伤。刻蚀阻挡层的材料例如可以为氧化硅或氮化硅等。

可选地,先在刚性基底上制作好振动膜21,再将振动膜21从刚性基底上去除,单独制作具有空腔231的支撑结构23,再将振动膜21直接呈张紧状态固定在支撑结构23上。

可选地,如图9、图10所示,发声单元2的支撑结构23可以包括单一刚性的支撑结构,也可以包括相叠的刚性支撑结构231和弹性支撑结构232,弹性支撑结构232设置在刚性支撑结构231靠近振动膜21一侧。弹性支撑结构232用于防止振动膜21和支撑结构23的空腔231的内壁或边缘产生硬接触,从而能够避免振动膜21与空腔231的内壁的硬接触,从而能够避免产生较大的谐波失真,影响发声单元2的音质。

进一步地,弹性支撑结构232可以采用多种弹性材料,例如泡棉,或光学胶等杨氏模量较低的材料,当然,也可以为其他材料,在此不做限定。

进一步地,发声单元2的支撑结构23也可以为弹性支撑结构,例如若将发声单元2直接通过光学胶(oca)粘接在面板1上,则光学胶可以作为发声单元2的支撑结构23。

可选地,激励器22可以包括动圈式电磁激励器或动铁式电磁激励器,在此不做限定。激励器22包括活动部221和驱动部222,活动部221的中轴可以和空腔231的中轴对齐,以精确带动振动膜21振动。

可选地,激励器22的驱动部222可以为磁体,活动部221可以为音圈,音圈设置在振动膜21靠近磁体一侧,且音圈设置在空腔231内,音圈可以和磁体的磁场最强处对位,磁体用于驱动音圈振动,以带动振动膜21振动。

可选的,如图8所示,激励器22的驱动部222可以为音圈,激励器22的活动部221可以采用磁性薄膜,磁性薄膜设置在振动膜21与支撑结构23之间,且磁性薄膜覆盖支撑结构23的空腔231。由于磁性薄膜为整面覆盖在振动膜21的膜层下方的结构,因此磁性薄膜的磁场可以覆盖为驱动部222的音圈,从而可以免去将活动部221和驱动部222进行对位,简化了制作激励器22的工艺。

可选地,如图,10所示,多个像素单元12中,相邻的两个像素单元12之间具有间隙01。激励器22的驱动部222可以为音圈,激励器22的活动部221包括多个磁性薄膜,多个磁性薄膜分别设置在像素单元12之间的间隙01中。通过这种方式设置,可以增加活动部221的磁场覆盖面积,并且将为磁性薄膜的活动部221设置在间隙01中,可以避免活动部221占用额外的空间,且能够减少显示面板的厚度。

可选地,参见图9、图10,作为激励器22的活动部221的磁性薄膜的材料可以包括钕磁铁(neodymiummagnet,ndfeb)或铁氧体等具有强磁性的材料。

可选地,同上述所述,显示面板中的多个发声单元2包括高频发声单元和低频发声单元,高频发声单元对应的音频的频率,高于低频发声单元对应的音频的频率,即高频发声单元能够提高高频音频的延展性,低频发声单元能够提高低频音频的延展性。由于声源的指向性随着频响升高而增大,也即高频声源的指向性高于低频声音,因此本实施例中高频发声单元2的数量大于低频发声单元2的数量,以便更精确地控制发声单元的发声位置。低频发声单元可以根据应用场景设置在显示面板的各个位置,例如设置在显示面板的边角区域,也可以设置在显示面板的中间区域,在此不做限定。

可选地,在本实施例提供的发声单元中,可以采用多种方式将发声单元2设置为高频发声单元或低频发声单元,以下举例说明。

方式一、

高频发声单元的振动膜21为刚性基底,低频发声单元的振动膜21为柔性基底。由于刚性基底能够防止振动膜发生分割振动,能够改善频响曲线中高频音频的平坦性,同时也会提高高频音频的截止频率,提高高频音频的延展性,因此高频发声单元的振动膜21采用刚性基底,而柔性基底能够适应低频音频,拓展低频音频的截止频率,因此低频发声单元的振动膜21采用柔性基底。

方式二、

如图11所示,低频发声单元022的空腔231在振动膜21上的正投影的面积,大于高频发声单元021的空腔231在振动膜21上的正投影的面积。通过将空腔231的大小进行调整,空腔231的面积大的发声单元(低频发声单元022),低频截止频率比较低,负责低频重放效果,例如100-1khz频段。空腔231的面积小的发声单元(高频发声单元021),低频截止频率比较高,负责中高频重放效果,例如1khz-15khz频段。

需要说明的是,可以根据需要的音频的频段来调整发声单元2的振动膜21的刚度,以及空腔231的大小,在此不做限定。由于在显示面板中同时设置了高频发声单元和低频发声单元,因此显示面板的发声功能能够同时兼顾中高低频的声源,因此能够显著提高音质。

可选地,参见图11,显示面板包括多个子面板(例如图11中p1……p16),也即显示面板采用拼接屏的方式,将多个子面板拼接为一体,形成整个显示面板,至少部分子面板上具有至少一个发声单元2。如图12所示,一块子面板上可以设置任意个发声单元2,发声单元2可以是高频发声单元021,也可以是低频发声单元022,也可以二者皆设置,例如,可以在子面板上设置一个高频发声单元021(图12(a)所示),也可以在子面板上沿对角线设置一个高频发声单元021和一个低频发声单元022(图12(b)所示),还可以在子面板上并排设置两个高频发声单元021(图12(c)所示),具体的可以根据需要设置,在此不做限定。

可选地,如图11、图13所示,显示面板可以包括多个发声区域(例如图11中发声区域1-4),若显示面板包括多个子面板,每个发声区域可以包括任意个子面板,图11以一个发声区域包括4个子面板为例进行说明。每个发声区域中设置有多个发声单元2,且每个发声区域中的多个发声单元2可以包括高频发声单元2和低频发声单元2中的至少一种。具体的发声区域的划分可以根据应用场景来设置,在此不做限定。

进一步地,如图13所示,显示面板还包括音频输入控制芯片51,显示面板包括多个发声区域,每个发声区域具有一区域控制芯片52。每个发声单元2连接一个发声单元控制芯片53,每个发声区域中的多个发声单元2对应的发声单元控制芯片53连接同一区域控制芯片53。多个发声区域对应的区域控制芯片53统一连接音频输入控制芯片51。在显示面板要进行发声时,音频输入控制芯片51判断需要发声的发声区域,将音频信号输入需要发声的发声区域对应的区域控制芯片52,区域控制芯片52根据发声单元2的类型(高频发声单元或低频发声单元)对音频信号进行处理(高频滤波或低频滤波)后,输入对应的发声单元2的发声单元控制芯片53,发声单元控制芯片53控制与之对应的发声单元2进行发声。

可选地,音频输入控制芯片51可以通过多种方式判断需要发声的发声区域,例如可以通过音画同步技术判断发声区域,例如显示面板正在播放篮球赛,将声源目标定位篮球,音频输入控制芯片51根据篮球的运动位置在显示面板上对应的像素单元12所属的发声单元2的发声区域来确定需要发声的发声区域,从而可以实现声源的位置跟随声源目标(例如篮球)的移动而改变发声位置的功能,即音画同步功能。

可选地,发声单元控制芯片53通过连接线与区域控制芯片52相连,同一发声区域内,每根连接线的长度一致,从而可以保证连接线上的负载一致,进而能够保证各个发声单元2收到的音频信号的一致性。

可选地,多个发声单元2通过各种方式排布在基板001上,例如,如图14所示,发声单元2可以线性排布在基板001上,也即在基板001上设置一列或多列(一行或多行)相邻的发声单元2。通过将发声单元2线性排布在基板001上,多个发声单元2发声时声波互相干涉,可以形成柱面波,柱面波相比起单个声源发出的球面波,具有距离更长的声衰点,从而能够减少声音的衰减。

可选地,如图15所示,多个发声单元2呈十字形阵列排布在基板001上,也即一行或多行相邻的发声单元2,与一列或多列相邻的发声单元2垂直交叉排布在基板001上。通过将发声单元2呈十字阵列排布在基板001上,多个发声单元2发声时声波互相干涉,可以形成近似平面波的声波,平面波相比起单个声源发出的球面波,具有距离更长的声衰点,从而能够进一步减少声音的衰减。

相应地,本实施例还提供一种显示装置,包括上述的显示面板。该显示装置可以包括多种类型,例如有机电致发光(oled)显示装置。该显示装置可以为:手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。对于该显示装置的其它必不可少的组成部分均为本领域的普通技术人员应该理解具有的,在此不做赘述,也不应作为对本发明的限制。

可以理解的是,以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式,然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言,在不脱离本发明的精神和实质的情况下,可以做出各种变型和改进,这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

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