一种新型真空镭射膜的制作方法

技术特征：

1.一种新型真空镭射膜，其特征在于：包括乳胶基层、第一纸质层、第一镀铝层、不干胶层、第二镀铝层、第二纸质层和镭射膜，所述乳胶基层、第一纸质层、第一镀铝层、不干胶层、第二镀铝层、第二纸质层和镭射膜依次层叠粘合连接，所述乳胶基层与第一纸质层之间设置有纤维层，所述第一镀铝层的上表面上设置有横向凸条，所述横向凸条与第一镀铝层一体设置，所述第二镀铝层的下表面设置有纵向凸条，所述纵向凸条与第二镀铝层一体设置，所述第二纸质层和镭射膜之间设置有离型膜。

2.如权利要求1所述的一种新型真空镭射膜，其特征在于：所述纤维层为石棉纤维层。

3.如权利要求2所述的一种新型真空镭射膜，其特征在于：所述第一纸质层和第二纸质层皆为白卡纸。

4.如权利要求3所述的一种新型真空镭射膜，其特征在于：所述第一镀铝层和第二镀铝层包覆不干胶层，并与不干胶层粘合固定。

5.如权利要求4所述的一种新型真空镭射膜，其特征在于：所述横向凸条和纵向凸条呈垂直设置。

6.如权利要求5所述的一种新型真空镭射膜，其特征在于：所述镭射膜为波浪形设置。