技术总结
本实用新型涉及一种同位素生产装置，该同位素生产装置包括用于产生粒子束的回旋加速器、包围所述回旋加速器的屏蔽、包括在所述屏蔽内的靶系统。该屏蔽包括具有至少100kg/m3的氢含量的第一层以及第二层，该第二层包含至少4900kg/m3的具有等于或高于26的原子序数的材料和至少29kg/m3的氢。本实用新型的自屏蔽同位素生产装置定位于具有有限厚度的壁的库中，同时满足在该库外部的公共区域中的有限剂量率的要求。
技术研发人员：F·斯蒂谢尔博
受保护的技术使用者：离子束应用股份有限公司
技术研发日：2017.05.23
技术公布日：2018.08.31