1.一种制冷薄膜，其特征在于，包括辐射制冷层以及设于所述辐射制冷层一侧的光致变色层，所述辐射制冷层在可见光与近红外波段的透过率不低于85%，所述光致变色层随着光照强度的增加在可见光与近红外波段的透过率逐渐变小。
2.根据权利要求1所述的制冷薄膜，其特征在于，所述辐射制冷层与所述光致变色层相邻地层叠设置。
3.根据权利要求1所述的制冷薄膜，其特征在于，所述辐射制冷层在7μm~14μm波段的发射率为70%~100%。
4.根据权利要求1所述的制冷薄膜，其特征在于，所述辐射制冷层包括基材以及分散在所述基材中的辐射制冷颗粒，所述辐射制冷颗粒选自sic颗粒、sio2颗粒、tio2颗粒、baso4颗粒、caco3颗粒中的至少一种，所述辐射制冷颗粒的粒径为1μm~30μm，所述基材在可见光与近红外波段的透过率不低于85%。
5.根据权利要求1所述的制冷薄膜，其特征在于，所述辐射制冷层在可见光与近红外波段的透过率为90%~95%。
6.根据权利要求1所述的制冷薄膜，其特征在于，所述光致变色层包括基体以及分散在所述基体中的光致变色材料，所述基体为无色透明材料，所述光致变色材料的粒径小于10μm。
7.根据权利要求6所述的制冷薄膜，其特征在于，所述光致变色层包括一种或多种所述光致变色材料，不同种类的所述光致变色材料在光照强度变化时变为不同的颜色，一种或多种所述光致变色材料规则的分布于所述基体中，从而所述光致变色材料变色时在所述光致变色层上形成图案。
8.根据权利要求1-7任一所述的制冷薄膜，其特征在于，还包括一保护层，所述保护层设于所述辐射制冷层远离所述光致变色层的一侧，所述保护层在可见光与近红外波段的透过率不低于80%。
9.根据权利要求1-7任一所述的制冷薄膜，其特征在于，还包括一基底，所述基底设于所述光致变色层远离所述辐射制冷层的一侧，所述基底在可见光与近红外波段的透过率大于80%。
10.根据权利要求9所述的制冷薄膜，其特征在于，所述基底为聚合物或玻璃。