一种除菌蓄热薄膜及具有该除菌蓄热薄膜的布料的制作方法

1.本实用新型涉及纺织的技术领域，尤其涉及一种除菌蓄热薄膜及具有该除菌蓄热薄膜的布料。


背景技术：

2.随着经济的发展，人们愈加注重生活品质，因而对服饰面料的健康性、舒适性和功能性将会受到越来越大的重视。为了满足消费者的需求，迎合激烈的市场竞争，在纺织行业中，功能性面料的研究与开发成为新的研发重点。近几年，诸如纳米抗菌面料、防水透湿面料及发热保暖面料得到了广泛的应用。
3.目前保暖面料的开发主要采用增加织物的厚度和添加保暖材料等方式。但增加织物的厚度会影响人们穿着服饰的舒适度，增加保暖材料能够吸收并储存外界热量并向人体传递，因此，增加保暖材料这种方式是现有研究的重点。
4.纳米抗菌面料也是近年研究的重点，例如，采用沸石微粒吸附银离子，将含有银离子的沸石微粒制备成纳米胶囊，后将纳米胶囊涂抹在面料的表面，使面料表面能不断溶出银离子；或者将织物纤维浸泡在含银离子的溶液中，将含银离子的纤维织入织物中，使其布料织物能够不断溶出银离子等；上述方式的抗菌除臭的原理均是通过不断溶出银离子，当银离子的浓度达到一定数值时，银离子能吸附在细菌的细胞膜上，并且能进一步穿透细胞壁进入细菌细胞膜内，强烈地吸附细菌体的蛋白酶，并迅速与其结合在一起，破坏细菌体的蛋白酶，使其不能呼吸，丧失活性，导致细菌死亡，以达到抗菌除臭的目的。以上方式存在的技术缺陷为：第一、起始浓度较大，较大浓度的银离子与人体直接接触，对人体具有一定的生物毒性；第二、随着时间的推移，溶出的银离子逐渐减少，但相应地，抗菌除臭的效果也逐渐变差；因此，银离子运用在纺织业上，安全性和使用效果都有待进一步提升。
5.有鉴于此，有必要开发一种薄膜，既能实现保暖目的，又能够抗菌除臭，抗菌效果好以及安全性高，本案由此产生。


技术实现要素：

6.本实用新型的目的在于提供一种除菌蓄热薄膜，并提供具有该除菌蓄热薄膜的布料，以实现布料的保暖特性，抗菌除臭，抗菌效果好，安全性高。
7.为了实现上述目的，本实用新型采用的技术方案如下：
8.一种除菌蓄热薄膜，具有基材层、离型层、树脂层、铝膜层以及二氧化钛光触媒层，所述基材层上复合离型层，离型层上复合树脂层，树脂层为纳米光栅结构，树脂层上复合铝膜层，铝膜层上复合二氧化钛光触媒层。
9.进一步的，所述纳米光栅结构的线条宽度为20-100nm，线条高度为50-200nm，光栅间距为20-400nm。
10.进一步的，所述树脂层的材质为热塑性丙烯酸树脂。
11.进一步的，所述离型层的材质为石蜡、有机硅离型剂、含氟离型剂或者纤维素离型
剂的一种或者几种；离型层的厚度为0.5-20μm。
12.进一步的，所述二氧化钛光触媒层厚度为10-100nm。
13.进一步的，所述基材层为pet材质，pet为聚对苯二甲酸乙二醇酯，英文名为polyethylene terephthalate；基材层的厚度为10-200μm。
14.进一步的，所述铝膜层的厚度为10-200nm。
15.基于上述的一种除菌蓄热薄膜，本实用新型还提出一种布料，所述布料具有面料层、热熔胶层及除菌蓄热薄膜，所述除菌蓄热薄膜如上述任一项所述，面料层上复合热熔胶层，热熔胶层上复合除菌蓄热薄膜。
16.进一步地，所述热熔胶层的厚度为50-100μm。
17.进一步地，所述热熔胶层的材质为tpu、po、pes或pa，tpu为聚氨酯热塑性树脂，po为聚烯烃热塑性树脂，pes为聚醚砜热塑性树脂，pa为聚酰胺热塑性树脂。
18.采用上述方案后，本实用新型具有如下优点：
19.第一，本实用新型通过将二氧化钛光触媒层复合在树脂层上，树脂层为纳米光栅结构，有利于扩大二氧化钛分布的表面积，使得二氧化钛在光的照射下，产生出氧化能力极强的自由氢氧基和活性氧，具有很强的光氧化还原功能，可氧化分解各种有机化合物和部分无机物，能破坏细菌的细胞膜和固化病毒的蛋白质，可杀灭细菌和分解有机污染物，把有机污染物分解成无污染的水(h20)和二氧化碳(c02)，因而具有极强的杀菌、除臭效果；
20.第二，二氧化钛有别于银离子，不具有生物毒性，安全性高；
21.第三，纳米结构的铝膜层可以使人体辐射的能量在铝膜层的反射作用下形成内部热循环，大幅度地减少热量损失，让织物能够形成反射蓄热保暖层，以达到更好的蓄热保暖效果；
22.以下结合附图及具体实施例对本实用新型做进一步详细说明。
附图说明
23.图1是本实用新型的除菌蓄热薄膜的结构图；
24.图2是本实用新型的除菌蓄热薄膜的局部放大图；
25.图3是本实用新型的具有该除菌蓄热薄膜的布料的结构图；
26.图4是本实用新型的具有该除菌蓄热薄膜的布料的局部放大图；
27.图5是本实用新型的具有该除菌蓄热薄膜的布料的使用状态图。
28.标号说明：
29.除菌蓄热薄膜10、基材层1、离型层2、树脂层3、铝膜层4、二氧化钛光触媒层5、布料20、布料层6、热熔胶层7。
具体实施方式
30.下面将结合附图对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
31.在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“内”、“外”等指示的方位
或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，图中的组件并未按比例绘制，而类似的组件符号通常用来表示类似的组件。
32.如图1至图2所示，是本实用新型揭示的一种除菌蓄热薄膜，具有基材层1、离型层2、树脂层3、铝膜层4以及二氧化钛光触媒层5，所述基材层1上复合离型层2，离型层2上复合树脂层3，树脂层3为纳米光栅结构，树脂层3上复合铝膜层4，铝膜层4上复合二氧化钛光触媒层5。这样，本实用新型因为二氧化钛在紫外线的作用下，与细菌发生反应并造成细菌死亡，起到抗菌消毒、消除异味的作用，且复合在纳米光栅结构的树脂层3上，有利于扩大二氧化钛分布的表面积，抗菌消毒的效果更佳，安全性高；同时铝膜层4可以使人体辐射的能量在铝膜层4的反射作用下形成内部热循环，大幅度减少热量损失，让织物能够形成反射蓄热保暖层，并和人体构成热能循环圈，达到很高的蓄热保暖效果。
33.为了便于成型，基材层1具体为pet材质，pet为聚对苯二甲酸乙二醇酯，英文名为polyethylene terephthalate；基材层1的厚度为10-200μm。选用pet材质作为基材层1，选用pet材质材质作为基材层11，使得薄膜质量轻，利于后续离型层2和树脂层3的复合。基材层1上设置有离型层2，可方便在实际成型后将基材层1剥落，分离效果佳，所述离型层2的材质为石蜡、有机硅离型剂、含氟离型剂或者纤维素离型剂的一种或者几种；离型层2的厚度为0.5-20μm。
34.其中，离型层2上复合有树脂层3，具体地，所述树脂层3的材质为热塑性丙烯酸树脂；树脂层3为纳米光栅结构，具体地，树脂层3的纳米光栅结构可通过纳米压印制作而成，在其它实施例中，也可以使用其它方式，例如机械刻划,全息光刻等实现纳米光栅结构的制作，本实施例中，采用纳米压印，节约成本，简单快捷；树脂层3的线性宽度为20-100nm，高度为50-200nm，间距为20-400nm，通过该范围设置的纳米光栅结构层可以最大程度增加二氧化钛光触媒覆盖其上的表面积，且使得二氧化钛光触媒分布致密，均匀释放。
35.其中，为了减少热量的流失，树脂层3上复合有铝膜层4，铝膜层4的厚度为10-200nm。具体地，铝膜层4可通过镀膜的方式复合在树脂层3上，所述树脂层3和铝膜层4的复合方式也可以采用其它方式，本文不做列举；铝膜层4可以使人体辐射的能量在铝膜层4的反射作用下形成内部热循环，大幅度的减少热量损失，让布料能够形成反射蓄热保暖层，达到蓄热保暖的效果。
36.其中，为了方便二氧化钛光触媒层5复合至铝膜层4，二氧化钛光触媒层5可通过镀膜的方式复合在铝膜层4上，所述二氧化钛光触媒层5和铝膜层4的复合方式也可以采用其它方式，本文不做列举；二氧化钛光触媒层5的厚度为10-100nm，通过该厚度范围设置的二氧化钛光触媒层5不会增加服装的厚度，影响舒适度。
37.如图3至图4所示，本实用新型还揭示了一种布料，是上述除菌蓄热薄膜10在布料20上的具体应用，该布料用于特殊场合的工作服中，该工作服需具有较强的保暖性和抗菌除臭的功能，例如冰室等特殊场所，通过在布料20表面整体粘贴该除菌蓄热薄膜10以实现对人身体整体的保暖和抗菌除臭的效果。所述布料20包括面料层6、热熔胶层7及上述的除菌蓄热薄膜10，基底面料层6上复合热熔胶层7，热熔胶层7上复合除菌蓄热薄膜10的二氧化钛光触媒层5。
38.具体地，热熔胶层7的材质可为tpu、po、pes或pa，热熔胶层7的厚度为50-100μm。该类材质可使二氧化钛光触媒层5与布料层6牢固结合，且更易透气，便于二氧化钛穿透布料与细菌反应，热熔胶层7与布料的复合方式可通过热转印烫印技术，以使得抗菌除臭薄膜更好地复合在布料层上，在其它实施例中，热熔胶层7和布料层6的复合方式也可以采用其它方式，本文不做列举。
39.如图5所示，服装穿着前，将基材层1剥落，铝膜层4能够使人体辐射的热能在铝膜层4的反射作用下形成内部热循环，大幅度的减少热量损失，并能和人体构成热能循环圈，达到蓄热保暖的效果；二氧化钛光触媒层5分布在树脂层3上，树脂层3为纳米光栅结构，使得二氧化钛分布的表面积更大，释放量更大，在光的照射下，产生出氧化能力极强的自由氢氧基和活性氧，杀灭细菌和分解有机污染物，除菌效果更强。
40.上述仅为本实用新型的优选实施例，但本实用新型的设计构思并不局限于此，凡利用此构思对本实用新型进行非实质性的改动，均应属于侵犯本实用新型保护范围的行为。