一种量子点光学膜的制作方法

文档序号:34207143发布日期:2023-05-17 18:35阅读:58来源:国知局
一种量子点光学膜的制作方法

本技术属于电子显示,涉及一种量子点光学膜,尤其涉及一种具有优异的水氧阻隔特性的量子点光学膜。


背景技术:

1、量子点是一种纳米半导体材料,具有十分优异的光学性能,能通过尺寸或者组分调节,获得包含整个可见光范围的不同发射波长的量子点材料,在光电领域有广泛的应用。量子点的合成工艺简单,原料广泛,波长可调,同时又具有非常高的荧光量子产率及窄的发射峰(色纯度高),在显示领域具有非常大的潜力和商业价值。然而,量子点的稳定性是一个重要的因素制约着量子点的商用。在使用的过程中,量子点在光热水氧等因素的作用下容易出现老化,严重影响其发光性能。因此,如何提高量子点的稳定性一直是一个研究热点。改善量子点的稳定性通常采用以下方法:对量子点进行包覆来提高其对水氧的抵抗或者是直接将量子点封在使用的空间内使其通过水氧阻隔。

2、作为一种光转化材料,量子点在显示和照明领域最常见的应用方式是将红绿量子点封装在蓝色的led上转换成白色的背光,或者将量子点制备成光转换膜将蓝色的背光转换成白色的背光。结合量子点自身的特性,将量子点制备成光转换膜是一种更受欢迎的解决方案。

3、cn107656330a公开了一种具有多层结构的量子点膜,所述量子点膜包含一层或多层绿色量子点层、一层或多层红色量子点层,其中所述绿色量子点层和所述红色量子点层交替地布置,还包含在所述绿色量子点层和所述红色量子点层之间的分隔层或分色镜,该发明还涉及所述量子点膜的制备方法和用途。但该发明的量子点膜不具有水氧阻隔特性。

4、因此,在本领域中,期望开发一种具有优异的水氧阻隔特性的量子点光学膜。


技术实现思路

1、针对现有技术的不足,本实用新型的目的在于提供一种量子点光学膜,尤其提供一种具有优异的水氧阻隔特性的量子点光学膜。

2、为达到此目的,本实用新型采用以下技术方案:

3、本实用新型提供一种量子点光学膜,所述量子点光学膜包括依次层叠设置的第一阻隔层、量子点层和第二阻隔层;

4、所述第一阻隔层包括聚合物阻隔层和胶水阻隔层、或者所述第一阻隔层包括聚合物基层和胶水阻隔层、或者所述第一阻隔层包括聚合物阻隔层和胶水层;

5、所述第二阻隔层包括聚合物阻隔层和胶水阻隔层、或者所述第二阻隔层包括聚合物基层和胶水阻隔层、或者所述第二阻隔层包括聚合物阻隔层和胶水层。

6、在本实用新型中,所述第一阻隔层包括聚合物阻隔层和胶水阻隔层、或者所述第一阻隔层包括聚合物基层和胶水阻隔层、或者所述第一阻隔层包括聚合物阻隔层和胶水层,指的是,第一阻隔层具有双层结构,并且至少一层具有阻隔性。同理,第二阻隔层的结构也具有相同含义。所述聚合物阻隔层为包含二维纳米材料的聚合物层,所述胶水阻隔层为包含二维纳米材料的胶水层。

7、本实用新型的量子点光学膜具有较好的水氧阻隔特性,并且稳定性表现更好。

8、在本实用新型中,量子点层可以是本身具有水氧阻隔特性的量子点层,也可以是本身不具有水氧阻隔特性的量子点层。量子点层可以直接购买,也可以根据现有技术进行制备。

9、本实用新型的量子点光学膜具有类三明治结构,量子点层在中间,上下为阻隔层,其中,阻隔层具有双层结构,并且至少一层具有阻隔性,以提高水氧的阻隔性能。普通结构量子点膜(即量子点层的上下均为聚合物基层和胶水层,不具有阻隔性)和本技术结构量子点膜的阻隔机理图如图1所示,可以看出,在使用过程中,水氧直接透过普通结构的量子点层的上下膜,使量子点性能发生衰变,而在本技术的结构的量子点薄膜上,由于阻隔层为含有二维材料的聚合层或含有二维材料的胶水层,当水氧遇到二维材料时就会改变扩散的路径,从而延长水氧抵达量子点层的时间,因此而延长量子点膜的使用寿命。

10、作为本实用新型的优选技术方案,所述第一阻隔层和所述第二阻隔层均包括聚合物阻隔层和胶水阻隔层。当第一阻隔层和第二阻隔层均有两层阻隔层组成时,量子点光学膜具有更好的水氧阻隔特性。当所述第一阻隔层和所述第二阻隔层均包括聚合物阻隔层和胶水阻隔层时,聚合物阻隔层和胶水阻隔层的顺序可以互换。

11、作为本实用新型的优选技术方案,所述胶水阻隔层或胶水层与量子点层相邻设置。当胶水阻隔层或胶水层与量子点层相邻设置时,例如,胶水阻隔层(或胶水层)位于量子点层和聚合物阻隔层之间,胶水阻隔层(或胶水层)还可以起到粘结量子点层和聚合物阻隔层的作用,使得量子点光学膜的结构更稳定。

12、作为本实用新型的优选技术方案,所述量子点层的厚度为20-200μm,例如20μm、30μm、40μm、50μm、60μm、70μm、80μm、90μm、100μm、110μm、120μm、130μm、140μm、150μm、160μm、170μm、180μm、190μm或200μm等,但并不仅限于所列举的数值,该数值范围内其他未列举的数值同样适用。

13、作为本实用新型的优选技术方案,所述聚合物阻隔层和所述聚合物基层的厚度各自独立地为20-200μm,例如20μm、30μm、40μm、50μm、60μm、70μm、80μm、90μm、100μm、110μm、120μm、130μm、140μm、150μm、160μm、170μm、180μm、190μm或200μm等,但并不仅限于所列举的数值,该数值范围内其他未列举的数值同样适用。

14、作为本实用新型的优选技术方案,所述胶水阻隔层和所述胶水层的厚度各自独立地为20-200μm,例如20μm、30μm、40μm、50μm、60μm、70μm、80μm、90μm、100μm、110μm、120μm、130μm、140μm、150μm、160μm、170μm、180μm、190μm或200μm等,但并不仅限于所列举的数值,该数值范围内其他未列举的数值同样适用。

15、作为本实用新型的优选技术方案,所述量子点光学膜的厚度为100-500μm,例如100μm、120μm、130μm、150μm、180μm、200μm、220μm、230μm、250μm、280μm、300μm、320μm、330μm、350μm、380μm、400μm、420μm、430μm、450μm、480μm或500μm等,但并不仅限于所列举的数值,该数值范围内其他未列举的数值同样适用。

16、作为本实用新型的优选技术方案,所述聚合物阻隔层为包含二维纳米材料的聚合物层。所述二维纳米材料可以为氮化硼。聚合物阻隔层可以采用现有技术中常用的技术手段进行制备,示例性地,可以采用如下方法进行制备:将聚合物基层和二维纳米材料在160-220℃下进行混合,然后制备成薄膜,得到所述聚合物阻隔层。聚合物基层的材质选自ps(聚苯乙烯)、pp(聚丙烯)、pe(聚乙烯)、pmma(聚甲基丙烯酸甲酯)或coc(环烯烃共聚物)中的任意一种。

17、作为本实用新型的优选技术方案,所述胶水阻隔层为包含二维纳米材料的胶水层。所述二维纳米材料可以为氮化硼。胶水阻隔层可以采用现有技术中常用的技术手段进行制备,示例性地,可以采用如下方法进行制备:将胶液和二维纳米材料在室温下进行混合,然后进行涂布和固化,得到所述胶水阻隔层。所述胶液选自环氧胶、丙烯酸胶或硅胶中的任意一种。

18、作为本实用新型的优选技术方案,所述聚合物基层的材质选自ps、pp、pe、pmma或coc中的任意一种。

19、作为本实用新型的优选技术方案,所述胶水层的材质选自环氧胶、丙烯酸胶或硅胶中的任意一种。

20、本实用新型,对量子点光学膜的制备方法没有特殊限制,示例性地,可以采用如下方法:

21、量子点光学膜的每一层通过热熔法粘接成整体或者通过胶水粘接成整体,如当量子点层和聚合物基层(或聚合物阻隔层)之间存在胶水层则直接使用胶水层来粘接,若量子点层和聚合物基层(或聚合物阻隔层)相邻,则需要涂覆少量胶水粘接。

22、相对于现有技术,本实用新型具有以下有益效果:

23、在本实用新型中,第一阻隔层和第二阻隔层均具有双层结构,并且双层结构中的至少一层具有阻隔性,本实用新型的聚合物阻隔层和胶水阻隔层均具有较好的水氧阻隔性,从而使得量子点光学膜具有较好的水氧阻隔特性,并且稳定性表现更好。

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