1.一种高温高压辐照试验回路中的杂质去除系统，其特征在于，包括：第一树脂床、第二树脂床、第三树脂床、第四树脂床、阀门和管路；通过所述阀门和管路设置所述第一树脂床、第二树脂床、第三树脂床和第四树脂床中的一个或多个树脂床串联或并联；其中所述第一树脂床装载核级氢型阳离子树脂，所述第二树脂床装载核级氢氧型阴离子树脂，所述第三树脂床装载锂型树脂和硼型树脂，所述第四树脂床装载锂型树脂和硼型树脂。
2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述第三树脂床和第四树脂床中所述锂型树脂的7li丰度均大于99.9％。
3.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述第三树脂床和第四树脂床中所述锂型树脂和硼型树脂的质量比为1.5-2。
4.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述硼型树脂由硼酸溶液淋洗核级氢氧型阴离子树脂转型得到。
5.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述管路包括主进水管、第一子进水管、第二子进水管、第三子进水管、第四子进水管、主出水管、第一子出水管、第二子出水管、第三子出水管、第四子出水管、第一辅助管、第二辅助管和第三辅助管；所述阀门包括第一进水阀门、第二进水阀门、第三进水阀门、第四进水阀门、第五进水阀门、第一出水阀门、第二出水阀门、第三出水阀门、第一辅助阀门、第二辅助阀门和第三辅助阀门；
6.一种高温高压辐照试验回路中的杂质去除方法，应用于权利要求1所述的系统，其特征在于，包括：
7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，当未检测到试验回路中离子超标时，控制硼锂水以不小于预设流速进入第三树脂床或第四树脂床；所述预设流速为所述试验回路的总体积除以24小时。
8.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，控制硼锂水进入到串联的第二树脂床和第三树脂床的步骤包括：控制第二进水阀门、第二辅助阀门、第三进水阀门和第三出水阀门开启，并控制第一进水阀门、第一辅助阀门、第一出水阀门、第二出水阀门、第四进水阀门、第三辅助阀门和第五进水阀门关闭；
9.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，控制硼锂水进入到串联的第一树脂床和第三树脂床的步骤包括：控制第一进水阀门、第一出水阀门、第二辅助阀门、第三进水阀门、第三出水阀门开启，并控制第二进水阀门、第四进水阀门、第二出水阀门、第三辅助阀门、第五出水阀门和第一辅助阀门关闭；
10.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，控制硼锂水进入到串联的第三树脂床和第四树脂床的步骤包括：控制第三进水阀门、第四进水阀门和第三辅助阀门开启，并控制第一进水阀门、第二进水阀门、第五进水阀门、第一出水阀门、第二出水阀门、第三出水阀门、第一辅助阀门和第二辅助阀门关闭；