>[0048] 在一些实施例中，涂层能够包括双层或三层堆叠，具有多个红外反射层。在一些实 施例中，所述层能够使用等离子增强或反应溅射形成，其中载运气体（如氩）用来从靶喷射 离子，其随后穿过载运气体和反应气体（如氧）的混合物或等离子体（在沉积前）。
[0049] 透明涂层板能够包括玻璃衬底或任意其它透明衬底，例如有机聚合物制成的衬 底。透明涂层板能够用于视窗应用，如车辆和建筑物窗户、天窗、或玻璃门，或者采用单片玻 璃或者采用多层玻璃，具有或没有塑料夹层或充气密封的间隙。
[0050] 图2示出根据本发明的一些实施例的示例性物理气相沉积（PVD)系统。PVD系统， 通常也称为溅射系统或溅射沉积系统，200包括壳体，所述壳体限定或包括处理室240、衬 底230、靶组件210,以及从外部源220递送的活性反应成分。衬底可以静止的，或者在一些 制造环境中，衬底在沉积过程中可能是运动的。在沉积过程中，靶由氩离子轰击，向衬底230 释放溅射粒子。溅射系统200能够实现衬底230上的层状沉积，形成覆盖整个衬底的沉积 层，例如衬底的面积都能被靶组件210产生的溅射粒子所触及。
[0051]用于靶组件210中的材料能够例如包括锡、锌、镁、铝、镧、钇、钛、锑、锶、铋、硅、 银、镍、铬、铜、金或其任意组合（即单个靶能够由多种金属的合金制成）。此外，用于靶的 材料能够包括氧、氮、或氧和氮的组合，以形成上述氧化物、氮化物和氮氧化物。此外，虽然 只示出一个靶组件210,但是还可以使用额外的靶组件。因此，不同的靶组合能够用来形成 例如上述介电层。例如，在介电材料是锌-锡-钛氧化物的实施例中，锌、锡和钛能够由单 独的锌、锡和钛靶提供，或者它们能够由单个锌锡钛合金靶提供。例如，靶组件210能够包 括银靶，连同氩离子，在衬底230上溅射沉积一银层。靶组件210能够包括金属或金属合金 靶，如锡、锌或锡-锌合金，连同氧的活性反应成分，以溅射沉积金属或金属合金氧化层。
[0052] 溅射沉积系统200可以包括其它组件，如用于支撑衬底的衬底支撑件。衬底支撑 件能够包括真空卡盘、静电卡盘或其它已知设备。衬底支撑件能够绕其垂直于衬底表面的 轴旋转。此外，该衬底支撑件能够在垂直方向或平面方向上运动。应该理解，在垂直方向 或平面方向的转动和运动能够通过已知的驱动机构实现，包括磁力驱动、线性驱动、蜗杆螺 钉、进给丝杆、差异泵送旋转馈通驱动等。
[0053] 在一些实施例中，衬底支撑件包括连接到电源的电极，例如用于向衬底提供射频 或直流偏压，或提供处理室240中的等离子环境。靶组件210能够包括连接到电源的电极， 以产生处理室中的等离子体。靶组件210优选地朝向衬底230取向。
[0054] 溅射沉积系统200还可以包括连结至靶电极的电源。所述电源提供电力至电极， 促使材料在至少一些实施例中从靶溅射。在溅射期间，惰性气体（如氩或氪）能够经由气 体进入口 220引入处理室240。在采用反应溅射的实施例中，反应气体也可被引入，如氧和 /或氮，其与从靶喷射的粒子相互反应以形成衬底上的氧化物、氮化物和/或氮氧化物。
[0055] 溅射沉积系统200还可以包括控制系统（未示出），其例如具有处理器和存储器， 所述控制系统可操作地与其它组件连通，并且配置用以控制其操作以实现这里所描述的方 法。
[0056] 在一些实施例中，本发明公开了形成低辐射板的方法，包括形成用于第二种子层 的第一种子层，其中第二种子层可以用作红外反射层的种子层。在一些实施例中，提供有透 明衬底。第一种子层形成在透明衬底上方。第一种子层包括金属元素，所述金属元素具有 六方密堆积（hep)和面心立方（fee) (111)结构。第二种子层形成在第一种子层上方。第 二种子层包括氧化锌或掺杂氧化锌材料。第二种子层优选地包括（002)晶体取向。例如， 超过大约30%的第二种子层具有（002)结晶取向。银层形成在第二种子层上。银层优选地 包括（111)晶体取向。
[0057] 在一些实施例中，第一种子层能够改善氧化锌或掺杂氧化锌层的结晶度和（002) 取向。氧化锌或掺杂氧化锌层的改善也可以反过来提高在氧化锌或掺杂氧化锌层顶部生长 的（111)银，从而产生具有改善的导电性的银层。这些方法因此能够最大化用于形成低辐 射板的制造工序的生产量、生产能力和生成效率。
[0058] 在一些实施例中，本发明公开了改进的透明涂层板，例如镀膜玻璃，其具有高可见 光透射率和红外反射。本发明还公开了生产这种改进的、涂层的、透明板（包括涂层堆叠中 的特定层）的方法。
[0059] 在一些实施例中，本发明公开了在形成氧化锌层之前形成包括金属元素的下伏 层。下伏层能够作为模板，例如种子层，用于形成氧化锌层。例如，金属元素具有很强的低 温结晶趋势（即使在非晶衬底上），因此含有金属元素的种子层能够具有优化的晶体取向， 这可以促进形成具有所需晶体结构的氧化锌层。因此，在一些实施例中，金属种子层具有拥 有六方密堆积（hep)和面心立方（fee) (111)结构的金属，所述金属种子层能够诱导在金属 种子层顶部的氧化锌的基底面（002)的伪外延（pseudo-epitaxialgrowth)生长。在本说 明书中，术语"氧化锌层"是指"包括氧化锌材料的层"，因此包括氧化锌层和掺杂氧化锌层。
[0060] 在一些实施例中，种子层优选地包括纯金属层，如Ti、Zr、Hf、Y、La、Zn、Co、Ru、Cr、 Mo、W、V、Nb、Ta和稀土金属。在一些实施例中，种子层包括混合物或金属元素的化合物，如 金属合金、金属氮化物或金属氮氧化物。
[0061] 在一些实施例中，种子层优选地为可氧化的，但不与衬底反应，例如用以改善或提 高氧化锌对玻璃衬底的粘附性。种子层还优选地包括金属元素，所述金属元素形成具有高 折射率的透明金属氧化物，从而进一步增强低辐射玻璃应用的光学特性。氧化过程可以单 独发生，也可以发生在产品制造过程中，如玻璃回火工序的后续热处理，或发生在氧化锌的 沉积过程中。
[0062] 在一些实施例中，在氧化锌层形成后，金属种子层的一部分保持原样并保留其金 属成分。在一些实施例中，例如在氧化锌的形成期间或在随后的退火过程中，金属种子层可 以被氧化。
[0063] 在一些实施例中，本发明公开在种子层上的氧化锌层的原位形成而不暴露于大 气。通过控制种子层的表面，例如用以减少任何可能的表面污染，氧化锌层的结晶可以进一 步促进，而不受任何粘附微粒的阻碍。
[0064] 在一些实施例中，该种子层能够提供改善的具有更薄膜厚度的氧化锌层。氧化锌 层的结晶，以及由此的其导电性，不是膜厚度的函数，因此可以提供不同厚度的相似的膜质 量。氧化锌层的厚度可以少于l〇〇nm，并且优选地少于50nm。种子层也可以是薄的，优选地 小于10nm〇
[0065] 在一些实施例中，本发明公开了形成种子层和氧化锌层的方法，包括薄膜沉积方 法，如物理气相沉积（PVD)、化学气相沉积（CVD)、原子层沉积（ALD)、或湿化学沉积方法，如 电镀或无电镀沉积。
[0066] 在一些实施例中，本发明公开了溅射系统，以及操作溅射系统的方法，所述溅射系 统用于使涂层板具有作为第二ZnO种子层模板的第一种子层，第二ZnO种子层又作为银层 的模板。在一些实施例中，本发明公开了直列式（in-line)沉积系统，包括用于在沉积站之 间移动衬底的传送机构。
[0067] 图3示出根据本发明的一些实施例的直列式沉积系统。传送机构370,如传送带 或多辊，能够在不同的溅射沉积站之间转移衬底330。例如，衬底可以位于包括靶组件310A 的站#1，随后转移到包括靶组件310B的站#2,随后转移到包括靶组件310C的站#3。站#1 能够配置用以沉积第一种子层，例如包括hep或fee结构的金属元素。站#2可以配置用以 沉积氧化锌或掺杂氧化锌层，其能够包括（002)晶体取向。站#3可以配置用以沉积银层， 其能够包括（111)晶体取向。能够包括其它配置