涂布膜的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及涂布膜，详细而言，涉及将聚酯膜作为基材、例如暴露于高温后低聚物 的析出也少的涂布膜。
【背景技术】
[0002] 聚酯膜的透明性、尺寸稳定性、机械特性、耐热性、电特性等优异，可以在各种领域 中使用。
[0003] 特别而言，近年来，在触摸屏等中的使用增加，作为透明导电性叠层体的基材，代 替玻璃而使用的情况增加。作为这样的透明导电性叠层体，有时将聚酯膜作为基材，在其上 直接或隔着增粘涂层，以溅射形成ITO(氧化铟锡）膜。这样的双轴拉伸聚酯膜通常被加热 加工。
[0004] 例如，有为了低热收缩化，在150°C放置1小时（专利文献1);为了达到ITO的结 晶化，在150°C进行热处理（专利文献2)等的处理。
[0005] 但是，作为聚酯膜的问题，暴露于这样的高温长时间的处理时，膜中含有的低聚物 (聚酯的低分子量成分、特别是酯环状三聚体）在膜表面析出、结晶化，由此引起膜外观的 白化导致的视认性降低、后加工的缺陷、工序内或部件的污染等。因此，将聚酯膜作为基材 的透明导电性叠层体的特性不能说是充分的。
[0006] 进一步而言，作为防止上述的低聚物析出的对策，例如提出了在聚酯膜上设置由 有机硅树脂和异氰酸酯系树脂的交联体构成的固化性树脂层的方案（专利文献3)。但是， 该固化性树脂层通过热固化而形成，因此为了异氰酸酯系树脂的封端化剂的解离需要高温 处理，在加工中存在容易产生卷曲或松弛的状况，操作中需要注意。
[0007] 因此，在谋求涂布层的低聚物析出量的减少对策时，处于需要具有比现有技术更 加良好的耐热性、并且需要涂布层自身的低聚物析出防止性能良好的状况。
[0008] 现有技术文献
[0009] 专利文献
[0010] 专利文献1 :日本特开2007 - 42473号公报
[0011] 专利文献2 :日本特开2007 - 200823号公报
[0012] 专利文献3 :日本特开2007 - 320144号公报
【发明内容】
[0013] 发明所要解决的课题
[0014] 本发明是鉴于上述事实而完成的发明，其解决课题在于：提供作为光学部件用的 产品加工后，光学特性、视认性优异的光学用涂布膜。具体而言，提供具有以下特性的光学 用涂布膜，例如经过150 °C条件下的长时间的热处理、高张力在这样的条件下的溅射工序、 在高温高湿气氛下的耐久性试验等严酷的条件下的工序后，也能够将膜雾度的上升抑制得 小，作为光学部件用的产品加工后，光学特性、视认性优异。
[0015] 用于解决课题的方法
[0016] 本发明的发明人关于上述课题进行了精心研究，结果发现利用特定构成的聚酯膜 能够解决上述课题，由此完成本发明。
[0017] 即，本发明的主旨在于提供一种涂布膜，其特征在于：在酯环状三聚体含量为0. 7 重量％以下的单层聚酯膜或具有酯环状三聚体含量为〇. 7重量％以下的聚酯表层的多层 聚酯膜的至少一个面，具有由含有多元醛系化合物的涂布液形成的涂布层。
[0018] 发明效果
[0019] 根据本发明，为了更加有效地防止低聚物析出，通过组合酯环状三聚体含量少的 聚酯层和特定的涂布层的形成，能够得到酯环状三聚体的析出极少的效果。另外，即使进行 高温长时间的处理，也能够抑制从表面析出低聚物，因此能够得到没有雾度的上升和异物 的产生的、优异外观的产品，其工业利用价值高。
【具体实施方式】
[0020] 本发明的涂布膜的基材膜由聚酯构成。聚酯通过使对苯二甲酸、间苯二甲酸、 2, 6 -萘二羧酸、己二酸、癸二酸、4, 4' 一二苯基二羧酸、1，4 一环己基二羧酸这样的二羧 酸或其酯与乙二醇、一缩二乙二醇、二缩三乙二醇、丙二醇、1，4 一丁二醇、新戊二醇、1，4 一 环己二醇这样的二醇熔融缩聚而制造。由这样的酸成分和二醇成分构成的聚酯能够使用任 意的通常进行的方法而制造。
[0021] 例如，可以采用如下方法：首先，使芳香族二羧酸的低级烷基酯与二醇之间进行酯 交换反应，或者使芳香族二羧酸与二醇直接进行酯化，实质上形成芳香族二羧酸的双二醇 酯、或其低聚物，接着，将其在减压下进行加热，使之缩聚。根据其目的，也可以共聚脂肪族 二羧酸。
[0022] 作为聚酯，代表性地可以列举聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚2, 6 -萘二羧酸乙二醇 酯、聚对苯二甲酸一 1，4 一环己二甲醇酯等，除此以外，也可以是上述的酸成分和二醇成分 共聚而得到的聚酯，根据需要可以含有其它的成分和添加剂。
[0023] 作为聚酯的聚合催化剂，没有特别限定，能够使用现有公知的化合物，例如，可以 列举锑化合物、钛化合物、锗化合物、锰化合物、铝化合物、镁化合物、钙化合物等。其中，锑 化合物具有廉价且催化剂活性高的优点。另外，钛化合物和锗化合物的催化剂活性高，能够 以少量进行聚合，在膜中残留的金属量少，从而膜的亮度高，故而优选。另外，由于锗化合物 高价，因此更优选使用钛化合物。
[0024] 在本发明中，为了抑制热处理后的酯环状三聚体的析出量，将酯环状三聚体含量 为〇. 7重量％以下的单层聚酯膜或具有酯环状三聚体含量为〇. 7重量％以下的聚酯表层的 多层聚酯膜作为必须条件。
[0025] 聚酯膜中含有的酯环状三聚体的含量在通常的制造方法中约为1重量％。在本发 明的涂布膜中，在上述的方式中，将酯环状三聚体的含量规定为〇. 7重量％以下，由此能够 特别有效地发挥防止向膜表面析出酯环状三聚体的效果。在酯环状三聚体的含量超过〇. 7 重量％时，在长时间的高温处理、严酷的条件下的加工工序中使用时，发生膜雾度的劣化、 以及在加工工序中与膜接触的搬送辊上附着堆积酯环状三聚体等的问题。
[0026] 本发明的酯环状三聚体含量优选为0. 6重量％以下，特别优选为0. 5重量％以下。 作为酯环状三聚体的含量少的聚酯的制造方法，能够使用各种公知的方法，例如，可以列举 在制造聚酯后进行固相聚合的方法。而且，通过加长固相聚合时间能够减少酯环状三聚体 含量。
[0027] 酯环状三聚体含量降低了的聚酯的成本高，因此酯环状三聚体含量的0. 7重量％ 以下的调整通过聚合物共混来进行是有利的。在该情况下，优选使用酯环状三聚体含量为 〇. 7重量％以下的聚酯，其共混量通常为70重量％以上、优选为80重量％以上。聚合物共 混所使用的聚酯的酯环状三聚体含量的下限值，从成本的观点考虑，通常为〇. 1重量％，优 选为0. 2重量％。
[0028] 聚酯膜可以是单层结构，也可以是多层结构，在为多层结构时，仅在表层使用酯环 状三聚体含量为0. 7重量％以下的聚酯即可，由此在成本上是有利的，另外，根据目的不 同，可以使表层和内层、或者两表层和各层为不同的聚酯。
[0029] 使聚酯膜为例如2种3层的多层结构，在多层聚酯膜的各表层使用酯环状三聚体 的含量少的聚酯原料，通过这样的设计，能够抑制热处理后的酯环状三聚体。
[0030] 另外，多层聚酯膜的酯环状三聚体含量为0. 7重量％以下的聚酯层的膜厚较厚 时，能够有效地抑制酯环状三聚体从聚酯膜的析出。〇. 7重量％以下的聚酯层的膜厚优选为 1. 5 μπι以上，更优选为2. 0 μπι以上，特别优选为2. 5 μπι以上。0· 7重量％以下的聚酯层的 膜厚不足1. 5 μπι时，在150Γ条件下的长时间的热处理、高张力在这样的条件下的溅射工 序、以及在高温高湿气氛下的耐久性试验等、在严酷条件下的加工工序中使用时，有时膜雾 度大大地上升，作为产品加工后，在光学特性?视认性方面有时不适于作为光学部件用。
[0031] 以确保膜的滑动性以及防止产生伤痕等为主要目的，能够在聚酯膜中含有颗粒。 作为这样的颗粒，例如，能够使用二氧化硅、碳酸钙、碳酸镁、磷酸钙、高岭土、滑石、氧化铝、 氧化钛、矾土、硫酸钡、氟化钙、氟化锂、沸石、硫化钼等无机颗粒、交联高分子颗粒、草酸钙 等有机颗粒，还能够使用在聚酯制造工序中使催化剂等的金属化合物的一部分沉淀、微分 散而得到的析出颗粒。
[0032] 另一方面，关于使用的颗粒的形状没有特别限定，可以使用球状、块状、棒状、扁平 状等任意形状。另外，关于其硬度、比重、颜色等也没有特别限制。这一系列的颗粒可以根 据需要并用2种以上。
[0033] 所使用的颗粒的粒径和含量可以根据膜的用途和目的进行选择，关于平均粒径 (d50)，通常为3 μπι以下，优选为0. 02 μπι~2. 8 μπι，更优选为0. 03 μπι~2. 5 μπι的范围。 在平均粒径超过3 μ m时，膜的表面粗度变得过粗，颗粒容易从膜表面脱落。
[0034] 关于颗粒含量，相对于含有颗粒的聚酯层，通常为3重量％以下，优选为0. 0003~ 1. 〇重量％，更优选为〇. 〇〇〇5~0. 5重量％的范围。在没有颗粒时、或者少时，膜的透明性 高，成为良好的膜，但有时易滑性不充分，因此有时需要在涂布层中加入颗粒，来提高易滑 性等。另外，在颗粒含量超过3重量％时，有时膜的透明性不充分。
[0035] 作为在聚酯层中添加颗粒的方法，没有特别限定，可以采用现有公知的方法。例 如，能够在制造构成各层的聚酯的任意阶段添加，优选在酯化或酯交换反应结束后进行添 加。
[0036] 此外，在聚酯膜中，除了上述的颗粒以外，能够根据需要添加现有公知的抗氧化 剂、热稳定剂、润滑剂、染料、颜料等。
[0037] 聚酯膜的厚度只要是能够制成膜的范围即可，没有特别限定，通常为10~ 300 μ m，优选为15~250 μ m，更优选为20~200 μ m的范围。
[0038] 此外，本发明的涂布膜的雾度优选为10%以下。更优选为5%以下，进一步优选为 4%以下。涂布膜的雾度超过10%时，在光学膜用途中，有