因。当控制孔隙率，或者以控制的材质和量将任何其它材料引入 至介孔内，使得与基体接触的结构体的折射率可以与基体的折射率相匹配时，在具有该实 施方案的防反射膜和基体的光学构件中，基体与防反射膜之间的界面处的折射率的差变为 0. 05以下，并且在结构体的各凸部的前端处空气与结构体之间的折射率变化变得缓和，因 此可实现高防反射效果。
[0151] 具有存在于基体表面上的该实施方案的防反射膜的光学元件的基体优选为使可 见光聚集的基体（即，凸透镜）或使可见光发散的基体（即，凹透镜）。在该情况下，防反射 效果特别高。
[0152] 此外，在具有基体和该实施方案的防反射膜的光学构件中，当防反射膜的结构体 具有介观结构并且结构体的介孔内部存在有机材料或无机材料时，优选沿基体的法线方向 周期性地配置介观结构的介孔。换言之，防反射膜的结构体具有相对于介观结构的基体的 一个结晶学方位。将有机材料或无机材料填充至介孔内部时，此类结构体便于其填充量的 控制。
[0153] 第五实施方案
[0154] 该实施方案的拒水性膜为具有在第一实施方案中所述的结构体的介孔内部存在 有机材料的结构体的拒水性膜。
[0155] S卩，该实施方案的拒水性膜为具有在其表面上具有多个凸部的结构体的拒水性 膜，该膜的特征在于：凸部各自具有介观结构，介观结构为具有介孔的结构，并且介孔内部 存在有机材料。
[0156] 图2A和2B各自示意性示出该实施方案的拒水性膜的结构。
[0157] 在该实施方案的拒水性膜中，结构体的介孔内部存在有机材料并且存在于介孔内 部的有机材料优选具有疏水性官能团。此处，存在于介孔内部的有机材料可以存在于全部 介孔内或者可以仅存在于部分介孔内。此外，有机材料可以仅存在于全部介孔的表面上或 者可以仅存在于一些介孔的表面上。具有疏水性官能团的有机材料仅存在于介孔的表面上 的情况可如下表示：用疏水性官能团改性介孔的表面。此外，用疏水性官能团改性介孔的表 面并且介孔内部存在具有疏水性官能团的有机材料的情况也是可行的。
[0158] 参考图4A-4D的示意图详细描述以上。
[0159] 短语"介孔内部存在有机材料"包括像图4A包含有机化合物作为成分的有机材料 13存在于介孔内的情况和像图4B介孔材料的表面用如疏水性官能团14等有机材料来改 性的情况二者。用疏水性官能团的改性不限于介孔表面的改性并且介孔可以用疏水性官 能团完全包埋。此外，像图4C引入量和改性量不一定需要是均匀的。虽然图4B示出好像 介孔的内壁完全用疏水性官能团覆盖，但覆盖率可以不完全，即，可以部分露出介孔的细孔 壁。即使当用疏水性官能团不完全覆盖内壁时，在疏水性官能团包含烷基或氟烷基的情况 下，拒水效果也显著。
[0160] 以下描述形成于介孔表面上的官能团的实例，条件是可用于本发明的官能团不限 于此。各改性基团优选经由氧原子与介孔膜的主骨架形成共价键。以下列出的官能团的实 例中的n表示直接结合至改性基团中的硅原子的疏水基团数。作为引入此类改性基团的材 料，优选硅烷偶联剂，并且优选使用具有此类官能团的醇盐（alkoxide)或卤化物。将疏水 性改性基团引入至介孔膜中的方法没有限制，可采用化学气相沉积法，或在包含疏水性改 性基团的原料的溶液中的浸渍等。
【主权项】
1. 一种微细结构体，其包括在其表面上的多个锥体部，其特征在于： 所述锥体部具有介观结构；和 所述介观结构包括具有介孔的结构。
2. 根据权利要求1所述的微细结构体，其中所述锥体部具有锥体形状。
3. 根据权利要求1所述的微细结构体，其中： 所述锥体部具有锥体的前端部分地欠缺的形状；和 当将延长所述锥体部的锥面时形成的虚拟锥体A的高度定义为1时，虚拟锥体B的高 度为1/7 W下，所述虚拟锥体B包括其底面中距离所述欠缺部分的所述虚拟锥体A的前端 最远的点并且具有与所述虚拟锥体A的顶点相同的顶点。
4. 根据权利要求1-3任一项所述的微细结构体，其中当所述锥体部的底边的长度由D 表示并且所述锥体部的高度由H表示时，比率H/D为1/2 W上。
5. 根据权利要求1-3任一项所述的微细结构体，其中当所述锥体部的底边的长度由D 表示并且所述锥体部的高度由H表示时，比率H/D为1. 0 W上。
6. 根据权利要求1-3任一项所述的微细结构体，其中当所述锥体部的底边的长度由D 表示并且所述锥体部的高度由H表示时，比率H/D为3. 0 W上。
7. 根据权利要求1-3任一项所述的微细结构体，其中当所述锥体部的底边的长度由D 表示并且所述锥体部的高度由H表示时，比率H/D为5. 0 W上。
8. 根据权利要求1-7任一项所述的微细结构体，其中所述锥体部具有50nm W上的高 度。
9. 根据权利要求1-7任一项所述的微细结构体，其中所述锥体部具有lOOnm W上的高 度。
10. 根据权利要求1-7任一项所述的微细结构体，其中所述锥体部具有200nm W上的高 度。
11. 根据权利要求1-10任一项所述的微细结构体，其中彼此相邻的所述锥体部的前端 之间的平均间隔P为400nm W下。
12. 根据权利要求1-10任一项所述的微细结构体，其中彼此相邻的所述锥体部的前端 之间的平均间隔P为lOOnm W下。
13. 根据权利要求1-12任一项所述的微细结构体，其中当所述锥体部的底边的长度由 D表示并且所述锥体部的高度由H表示时，比率H/D为12 W下。
14. 根据权利要求1-13任一项所述的微细结构体，其中当彼此相邻的所述锥体部的前 端之间的平均间隔由P表示并且所述前端之间的间隔的分布的标准偏差由0表示时，满足 W下表达式1， 0. 1< 0 /p<0. 5 表达式 1。
15. 根据权利要求1-14任一项所述的微细结构体，其中所述介孔的内部为空隙。
16. 根据权利要求1-14任一项所述的微细结构体，其中所述介孔的内部存在有机材料 和无机材料中的一种。
17. 根据权利要求16所述的微细结构体，其中所述介孔的内部存在无机材料。
18. 根据权利要求17所述的微细结构体，其中所述无机材料包括具有2. 5eV W上且 lOeV W下的带隙的无机材料。
19. 根据权利要求17或18所述的微细结构体，其中所述无机材料包括娃氧化物、铅氧 化物和铁氧化物中的任意一种。
20. 根据权利要求16-19任一项所述的微细结构体，其中所述锥体部中所述无机材料 的填充率沿从所述锥体部的底部至所述锥体部的前端的方向降低。
21. 根据权利要求16所述的微细结构体，其中所述介孔的内部存在有机材料。
22. 根据权利要求21所述的微细结构体，其中所述有机材料具有疏水性官能团。
23. 根据权利要求22所述的微细结构体，其中所述疏水性官能团包括焼基和氣焼基中 的一种。
24. 根据权利要求21所述的微细结构体，其中所述有机材料包括两亲性物质。
25. 根据权利要求1-24任一项所述的微细结构体，其中所述介孔周期性地配置。
26. 根据权利要求1-25任一项所述的微细结构体，其中所述介孔具有圆柱形状。
27. 根据权利要求25或26所述的微细结构体，其中所述介孔具有均匀直径。
28. 根据权利要求25所述的微细结构体，其中所述结构体在X射线衍射分析中显示对 应于1. Onm W上的结构周期的衍射峰。
29. 根据权利要求1-28任一项所述的微细结构体，其中所述介观结构包括具有不同结 构的多个介观结构。
30. 根据权利要求1-29任一项所述的微细结构体，其中形成所述介孔的壁部用具有 2. 5eV W上且lOeV W下的带隙的材料来形成。
31. 根据权利要求1-30任一项所述的微细结构体，其中形成所述介孔的壁部用娃氧化 物、铅氧化物和铁氧化物中的任意一种来形成。
32. 根据权利要求31所述的微细结构体，其中形成所述介孔的壁部用铁氧化物来形 成。
33. 根据权利要求1-32任一项所述的微细结构体，其中所述锥体部在其表面上具有孔 隙率小于所述锥体部的保护层。
34. 根据权利要求16-24任一项所述的微细结构体，其中： 所述锥体部在其表面上具有孔隙率小于所述锥体部的保护层；并且 所述保护层包含与所述介孔的内部存在的材料相同的材料。
35. -种微细结构体，其包括在其表面上的多个凸部，其特征在于： 所述凸部具有当通过与从所述凸部的底部至其前端的方向垂直的面切断所述凸部时 的截面的面积沿所述方向减小的形状； 所述凸部具有有介孔的介观结构； 所述凸部的前端存在金属元素；和 当所述凸部的底边的长度由D表示并且所述凸部的高度由H表示时，比率H/D为2. 0 社。
36. 根据权利要求35所述的微细结构体，其中所述金属元素为铅。
37. 根据权利要求35或36所述的微细结构体，其中所述介孔具有圆柱形状。
38. -种防反射膜，其包括在表面上具有多个凸部的微细结构体，其特征在于： 所述凸部具有介观结构； 所述介观结构为具有介孔的结构；和 所述凸部具有当通过与从所述凸部的底部至其前端的方向垂直的面切断所述凸部时 的截面的面积沿所述方向减小的形状。
39. 根据权利要求38所述的防反射膜，其中所述微细结构体包括根据权利要求1-37任 一项所述的微细结构体。
40. -种光学构件，其包括；基体；和在所述基体的表面上存在的防反射膜， 其特征在于： 所述防反射膜包括根据权利要求39所述的防反射膜； 彼此相邻的所述凸部的锥面彼此合并；并且 所述锥面彼此合并的位置存在于相对于所述基体的表面的所述防反射膜侧，并且所述 锥面彼此合并的部分与所述基体之间的距离不恒定。
41. 一种光学构件，其包括；基体；和在所述基体的表面上存在的防反射膜， 其特征在于： 所述防反射膜包括根据权利要求39所述的防反射膜；和 所述结构体的介孔沿所述基体的法线方向周期性地配置。
42. -种光学构件，其包括；基体；和在所述基体的表面上存在的防反射膜， 其特征在于： 所述防反射膜包括根据权利要求39所述的防反射膜； 所述防反射膜与所述基体接触的部分具有所述介观结构；和 当所述基体的折射率由na表示并且所述防反射膜与所述基体接触的部分的折射率由 nb表示时，满足0《|na-nb|《0. 05的关系。
43. 根据权利要求42所述的光学构件，其中所述基体包括具有聚集可见光的功能和发 散可见光的功能中的一种的基体。
44. 一种拒水性膜，其特征在于，其包括根据权利要求21-23任一项所述的微细结构 体。
45. 根据权利要求44所述的